140100-集成电路科学与工程

先进光刻技术
图像处理与机器学习
超精密运动控制

2007-09--2012-11   哈尔滨工业大学   博士
2005-09--2007-07   哈尔滨工业大学   硕士
2000-09--2004-07   燕山大学   本科

   

2020-07~现在, 中国科学院微电子研究所, 副研究员
2013-03~2020-07,中国科学院微电子研究所, 助理研究员
2007-09~2012-11,哈尔滨工业大学, 博士
2005-09~2007-07,哈尔滨工业大学, 硕士
2000-09~2004-07,燕山大学, 本科

   

（ 1 ） 晶圆轮廓图的构造方法, 2022, 第 1 作者, 专利号: CN111089539B

（ 2 ） 对焦传感器的校准方法, 2021, 第 2 作者, 专利号: CN110940280B

（ 3 ） 一种用于同步控制的带有遗忘因子的迭代学习控制方法, 2021, 第 1 作者, 专利号: CN111580466B

（ 4 ） 一种垂向调整装置, 2015, 第 2 作者, 专利号: CN104390605A

（ 5 ） 一种调焦调平传感器测量装置, 2014, 第 5 作者, 专利号: CN104181777A

   

（1） A novel data-based dynamic decoupling control in wafer stage motion system for focus improvement, SPIE Advanced Lithography + Patterning, 2024, 
（2） Learning Synchronous Control Based on Intelligent Methods for Ultra-precision Stage Systems, IEEE Access, 2024, 第 3 作者
（3） 基于参数曲面的硅片形貌建立方法, 光学学报, 2024, 第 1 作者
（4） 基于同步性能综合指标的超精密运动台迭代学习控制, 控制与决策, 2024, 第 3 作者  通讯作者
（5） Modified Anti-windup Control for High Precision Motion System, International Workshop on Advanced Patterning Solutions 2020, 2020, 第 1 作者
（6） 基于迭代学习的掩模台与工件台同步控制, Synchronizing control of reticle and wafer stages using iterative learning control, 华中科技大学学报. 自然科学版, 2013, 第 1 作者
（7） 双工件台光刻机换台过程的轨迹规划及控制, Trajectory planning and control method for wafer stage exchange process of dual-stage lithography, 哈尔滨工业大学学报, 2013, 第 1 作者

   

（ 1 ） 超精密位移台的同步控制技术开发, 负责人, 境内委托项目, 2024-05--2025-04
（ 2 ） 超精密位移台的多自由度解耦控制技术开发, 负责人, 境内委托项目, 2024-05--2025-04
（ 3 ） 收集镜光学性能综合检测技术, 参与, 中国科学院计划, 2023-10--2027-07
（ 4 ） 对准和套刻标记优化仿真算法与软件开发和优化, 参与, 地方任务, 2023-07--2025-06
（ 5 ） 14nm浸没光刻套刻对准关键技术研究, 参与, 国家任务, 2018-10--2021-03
（ 6 ） EUV光刻机离轴对焦技术研究与部件开发, 参与, 国家任务, 2018-01--2020-12
（ 7 ） 光刻精密对焦技术研究, 参与, 国家任务, 2017-01--2023-03