基本信息

武志鹏 男 硕导 中国科学院微电子研究所
电子邮件: wuzhipeng@ime.ac.cn
通信地址: 北京朝阳区北土城西路3号
邮政编码:
电子邮件: wuzhipeng@ime.ac.cn
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招生信息
招生专业
140100-集成电路科学与工程
招生方向
先进光刻技术图像处理与机器学习超精密运动控制
教育背景
2007-09--2012-11 哈尔滨工业大学 博士2005-09--2007-07 哈尔滨工业大学 硕士2000-09--2004-07 燕山大学 本科
工作经历
工作简历
2020-07~现在, 中国科学院微电子研究所, 副研究员2013-03~2020-07,中国科学院微电子研究所, 助理研究员2007-09~2012-11,哈尔滨工业大学, 博士2005-09~2007-07,哈尔滨工业大学, 硕士2000-09~2004-07,燕山大学, 本科
专利与奖励
专利成果
( 1 ) 晶圆轮廓图的构造方法, 2022, 第 1 作者, 专利号: CN111089539B( 2 ) 对焦传感器的校准方法, 2021, 第 2 作者, 专利号: CN110940280B( 3 ) 一种用于同步控制的带有遗忘因子的迭代学习控制方法, 2021, 第 1 作者, 专利号: CN111580466B( 4 ) 一种垂向调整装置, 2015, 第 2 作者, 专利号: CN104390605A( 5 ) 一种调焦调平传感器测量装置, 2014, 第 5 作者, 专利号: CN104181777A
出版信息
发表论文
(1) A novel data-based dynamic decoupling control in wafer stage motion system for focus improvement, SPIE Advanced Lithography + Patterning, 2024, (2) Learning Synchronous Control Based on Intelligent Methods for Ultra-precision Stage Systems, IEEE Access, 2024, 第 3 作者(3) Modified Anti-windup Control for High Precision Motion System, International Workshop on Advanced Patterning Solutions 2020, 2020, 第 1 作者(4) 基于迭代学习的掩模台与工件台同步控制, Synchronizing control of reticle and wafer stages using iterative learning control, 华中科技大学学报. 自然科学版, 2013, 第 1 作者(5) 双工件台光刻机换台过程的轨迹规划及控制, Trajectory planning and control method for wafer stage exchange process of dual-stage lithography, 哈尔滨工业大学学报, 2013, 第 1 作者
科研活动
科研项目
( 1 ) 超精密位移台的同步控制技术开发, 负责人, 境内委托项目, 2024-05--2025-04( 2 ) 超精密位移台的多自由度解耦控制技术开发, 负责人, 境内委托项目, 2024-05--2025-04( 3 ) 收集镜光学性能综合检测技术, 参与, 中国科学院计划, 2023-10--2027-07( 4 ) 对准和套刻标记优化仿真算法与软件开发和优化, 参与, 地方任务, 2023-07--2025-06( 5 ) 14nm浸没光刻套刻对准关键技术研究, 参与, 国家任务, 2018-10--2021-03( 6 ) EUV光刻机离轴对焦技术研究与部件开发, 参与, 国家任务, 2018-01--2020-12( 7 ) 光刻精密对焦技术研究, 参与, 国家任务, 2017-01--2023-03