080402-测试计量技术及仪器
140100-集成电路科学与工程

微纳光学与器件制备工艺
先进半导体加工技术
微电子器件设计与加工技术

2018-09--2022-07   中国科学院大学   博士研究生
2008-09--2011-07   西南大学   硕士研究生

   

2025-05~现在, 中国科学院光电技术研究所, 研究员
2018-09~2022-07,中国科学院大学, 博士研究生
2011-07~2025-04,中国科学院光电技术研究所, 副研究员
2008-09~2011-07,西南大学, 硕士研究生

   

（1） 安全先进个人, , 研究所（学校）, 2019
（2） 先进工作者, 研究所（学校）, 2018
（3） 中国科学院杰出科技成就奖, 部委级, 2016

（ 1 ） 一种介电常数可调控的多晶银薄膜及其制备方法, 2024, 第 5 作者, 专利号: CN115261813B

（ 2 ） 纳米压印系统及方法, 2024, 第 2 作者, 专利号: CN118348743A

（ 3 ） 吹气承片装置、光刻装置及光刻方法, 2024, 第 2 作者, 专利号: CN118311838A

（ 4 ） 多重图形结构加工方法, 2024, 第 2 作者, 专利号: CN117577519A

（ 5 ） 利用超分辨孔光刻加工纳米柱的方法及其纳米柱结构, 2024, 第 3 作者, 专利号: CN117471863A

（ 6 ） 对线栅图形进行双重图形成像的修正方法及光刻方法, 2024, 第 4 作者, 专利号: CN117331288A

（ 7 ） 自对准双重图形成像的修正方法及修正图形结构, 2023, 第 3 作者, 专利号: CN117075441A

（ 8 ） 高分辨近场干涉光刻的方法, 2023, 第 2 作者, 专利号: CN117075440A

（ 9 ） 特征尺寸改善的高分辨率接触孔图形结构及其制备方法, 2023, 第 2 作者, 专利号: CN117080159A

（ 10 ） 一种近场光刻浸没系统及其浸没单元和接口模组, 2023, 第 5 作者, 专利号: CN113189849B

（ 11 ） 一种基片缺陷检测装置与方法, 2023, 第 5 作者, 专利号: CN113218961B

（ 12 ） 一种高分辨颗粒检测装置, 2023, 第 5 作者, 专利号: CN111272771B

（ 13 ） 超分辨光刻结构、制备方法及图形传递的方法, 2022, 第 3 作者, 专利号: CN115472492A

（ 14 ） 衬底上光刻结构的返工清洗方法, 2022, 第 3 作者, 专利号: CN115440576A

（ 15 ） 对准标记结构及其形成方法, 2022, 第 3 作者, 专利号: CN115440707A

（ 16 ） 柱销式衬底保持器及其制备方法, 2022, 第 2 作者, 专利号: CN115440650A

（ 17 ） 一种介电常数可调控的多晶银薄膜及其制备方法, 2022, 第 5 作者, 专利号: CN115261813A

（ 18 ） 一种低粗糙度和介电常数可控的银膜及其制备方法, 2022, 第 4 作者, 专利号: CN115233159A

（ 19 ） 一种材料填充保护光刻掩模及其制备方法, 2022, 第 2 作者, 专利号: CN115079506A

（ 20 ） 等离子体共振腔透镜光刻的成像结构保护方法及其结构, 2022, 第 2 作者, 专利号: CN115047728A

（ 21 ） 一种高强度平面掩模及其制备方法, 2022, 第 3 作者, 专利号: CN115047709A

（ 22 ） 光刻方法, 2022, 第 3 作者, 专利号: CN114217510A

（ 23 ） 光刻方法, 2022, 第 3 作者, 专利号: CN114217510A

（ 24 ） 基于金属-介质条形阵列的超分辨透镜的制备方法及应用, 2022, 第 2 作者, 专利号: CN114114481A

（ 25 ） 一种近场移动曝光装置和方法及其承载模块, 2021, 第 5 作者, 专利号: CN113311671A

（ 26 ） 一种基片缺陷检测装置与方法, 2021, 第 5 作者, 专利号: CN113218961A

（ 27 ） 一种近场光刻浸没系统及其浸没单元和接口模组, 2021, 第 5 作者, 专利号: CN113189849A

（ 28 ） 一种原位间隙检测装置与检测方法, 2020, 第 5 作者, 专利号: CN111272089A

（ 29 ） 一种大面积、低成本的超导纳米线单光子探测器的制备方法, 2019, 第 4 作者, 专利号: CN109668631A

（ 30 ） 基于柔性材料的超分辨光刻装置, 2018, 第 6 作者, 专利号: CN107817653A

（ 31 ） 一种基于表面等离子体共振的高精度纳米间隙检测结构及方法, 2014, 第 10 作者, 专利号: CN103968770A

（ 32 ） 一种实现远场超分辨成像的方法和装置, 2014, 第 10 作者, 专利号: CN103901629A

（ 33 ） 增强照明数值孔径超分辨光刻成像设备及光刻成像方法, 2013, 第 10 作者, 专利号: CN103472689A

（ 34 ） 一种纳米激光器激光合束器件的制备方法, 2013, 第 6 作者, 专利号: CN103457157A

（ 35 ） 一种超衍射纳米光学探针, 2013, 第 10 作者, 专利号: CN103149805A

（ 36 ） 一种亚波长光栅周期的测量器件, 2013, 第 10 作者, 专利号: CN103076162A

（ 37 ） 一种实现曲面到平面超分辨缩小成像光刻的透镜, 2012, 第 6 作者, 专利号: CN102621822A

（ 38 ） 一种平面像场超分辨成像透镜的制备方法, 2012, 第 7 作者, 专利号: CN102621601A

   

（1） Metal-insulator-metal (MIM) star-disc nanoantenna for molecular sensing by surface-enhanced infrared absorption (SEIRA) spectroscopy, SURFACES AND INTERFACES, 2025, 第 2 作者
（2） Recent advances in localized surface plasmon resonance (LSPR) sensing technologies, Nanotechnology, 2025, 第 2 作者
（3） Single-molecule detection of SARS-CoV-2 N protein on multilayered plasmonic nanotraps with surface-enhanced Raman spectroscopy, TALANTA, 2024, 第 6 作者
（4） Ultrasensitive enhanced Raman spectroscopy by hybrid surface-enhanced and interference-enhanced Raman scattering with metal-insulator-metal structures, Optics Express, 2023, 第 3 作者
（5） Surface-enhanced Raman Scattering of Au-Ag bimetallic nanopillars fabricated using surface-plasmon lithography, NANOTECHNOLOGY, 2022, 第 7 作者
（6） A planar ultraviolet objective lens for optical axis free imaging nanolithography by employing optical negative refraction, NANOSCALE ADVANCES, 2022, 第 7 作者
（7） Surface-enhanced Raman scattering with gold-coated silicon nanopillars arrays: The influence of size and spatial order, SPECTROCHIMICA ACTA PART A-MOLECULAR AND BIOMOLECULAR SPECTROSCOPY, 2022, 第 6 作者
（8） Waveguide evanescent waves based structured illumination microscopy with compact structure and flexible design, JOURNAL OF PHYSICS D-APPLIED PHYSICS, 2021, 第 5 作者
（9） Hybrid octahedral Au nanocrystals and Ag nanohole arrays as substrates for highly sensitive and reproducible surface-enhanced Raman scattering, JOURNAL OF MATERIALS CHEMISTRY C, 2020, 第 2 作者
（10） Subdiffraction nanofocusing of circularly polarized light with a plasmonic cavity lens, JOURNAL OF MATERIALS CHEMISTRY C, 2019, 第 1 作者
（11） Plasmonic Interference Lithography for Low-Cost Fabrication of Dense Lines with Sub-50 nm Half-Pitch, ACS APPLIED NANO MATERIALS, 2019, 第 2 作者
（12） Highly reproducible and stable surface-enhanced Raman scattering substrates of graphene-Ag nanohole arrays fabricated by sub-diffraction plasmonic lithography, OSA Continuum, 2019, 第 2 作者
（13） Large area deep subwavelength interference lithography with a 35 nm half-period based on bulk plasmon polaritons, OPTICAL MATERIALS EXPRESS, 2018, 第 2 作者
（14） Graphene/Ag nanoholes composites for quantitative surface-enhanced Raman scattering, OPTICS EXPRESS, 2018, 第 4 作者
（15） Proximity correction and resolution enhancement of plasmonic lens lithography far beyond the near field diffraction limit, RSC ADVANCES, 2017, 第 1 作者
（16） Subdiffraction plasmonic lens lithography prototype in stepper mode, JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY B, 2017, 第 3 作者
（17） Batch Fabrication of Metasurface Holograms Enabled by Plasmonic Cavity Lithography, ADVANCED OPTICAL MATERIALS, 2017, 第 6 作者
（18） 表面等离子体超衍射光学光刻, Surface plasmon lithography beyond the diffraction limit, 科学通报, 2016, 第 4 作者
（19） Modeling and experimental study of plasmonic lens imaging with resolution enhanced methods, OPTICS EXPRESS, 2016, 第 2 作者
（20） Large area and deep sub-wavelength interference lithography employing odd surface plasmon modes, SCIENTIFIC REPORTS, 2016, 第 2 作者
（21） Plasmonic Structures, Materials and Lenses for Optical Lithography beyond the Diffraction Limit: A Review, MICROMACHINES, 2016, 第 6 作者
（22） Going far beyond the near-field diffraction limit via plasmonic cavity lens with high spatial frequency spectrum off-axis illumination, SCIENTIFIC REPORTS, 2015, 第 2 作者
（23） Elongating the Air Working Distance of Near-Field Plasmonic Lens by Surface Plasmon Illumination, PLASMONICS, 2015, 第 8 作者
（24） Squeezing Bulk Plasmon Polaritons through Hyperbolic Metamaterials for Large Area Deep Subwavelength Interference Lithography, ADVANCED OPTICAL MATERIALS, 2015, 第 7 作者
（25） Improving Imaging Contrast of Non-Contacted Plasmonic Lens by Off-Axis Illumination with High Numerical Aperture, PLASMONICS, 2014, 第 7 作者

   

（ 1 ） CYSGK工艺, 负责人, 国家任务, 2023-01--2025-12
（ 2 ） 面向新型纳米光电芯片制造的超分辨光刻设备研发, 参与, 中国科学院计划, 2020-01--2021-12
（ 3 ） 紫外超分辨光刻仪器研发, 负责人, 地方任务, 2020-01--2022-12