080402-测试计量技术及仪器
140100-集成电路科学与工程

微纳光学与器件制备工艺
先进半导体加工技术
微电子器件设计与加工技术

2018-09--2022-07   中国科学院大学   博士研究生
2008-09--2011-07   西南大学   硕士研究生

   

2018-09~2022-07,中国科学院大学, 博士研究生
2011-07~现在, 中国科学院光电技术研究所, 副研究员
2008-09~2011-07,西南大学, 硕士研究生

   

（1） 安全先进个人, , 研究所（学校）, 2019
（2） 先进工作者, 研究所（学校）, 2018
（3） 中国科学院杰出科技成就奖, 部委级, 2016

   

（1） Hybrid octahedral Au nanocrystals and Ag nanohole arrays as substrates for highly sensitive and reproducible surface-enhanced Raman scattering, JOURNAL OF MATERIALS CHEMISTRY C, 2020, 第 2 作者
（2） Subdiffraction nanofocusing of circularly polarized light with a plasmonic cavity lens, JOURNAL OF MATERIALS CHEMISTRY C, 2019, 第 1 作者
（3） Plasmonic Interference Lithography for Low-Cost Fabrication of Dense Lines with Sub-50 nm Half-Pitch, ACS APPLIED NANO MATERIALS, 2019, 第 2 作者
（4） Highly reproducible and stable surface-enhanced Raman scattering substrates of graphene-Ag nanohole arrays fabricated by sub-diffraction plasmonic lithography, OSA Continuum, 2019, 第 2 作者
（5） Large area deep subwavelength interference lithography with a 35 nm half-period based on bulk plasmon polaritons, OPTICAL MATERIALS EXPRESS, 2018, 第 2 作者
（6） Proximity correction and resolution enhancement of plasmonic lens lithography far beyond the near field diffraction limit, RSC ADVANCES, 2017, 第 1 作者
（7） 表面等离子体超衍射光学光刻, Surface plasmon lithography beyond the diffraction limit, 科学通报, 2016, 第 4 作者
（8） Modeling and experimental study of plasmonic lens imaging with resolution enhanced methods, OPTICS EXPRESS, 2016, 第 2 作者
（9） Large area and deep sub-wavelength interference lithography employing odd surface plasmon modes, SCIENTIFIC REPORTS, 2016, 第 2 作者
（10） Going far beyond the near-field diffraction limit via plasmonic cavity lens with high spatial frequency spectrum off-axis illumination, SCIENTIFICREPORTS, 2015, 第 2 作者

   

（ 1 ） CYSGK工艺, 负责人, 国家任务, 2023-01--2025-12
（ 2 ） 面向新型纳米光电芯片制造的超分辨光刻设备研发, 参与, 中国科学院计划, 2020-01--2021-12
（ 3 ） 紫外超分辨光刻仪器研发, 负责人, 地方任务, 2020-01--2022-12