080300-光学工程
080902-电路与系统
140100-集成电路科学与工程

先进光刻
智能信息处理与传输
集成电路光刻技术

2004-09--2006-09   荷兰埃因霍芬理工大学   工学博士
2002-10--2004-08   荷兰莱顿大学   理学硕士
1998-09--2002-08   东南大学   理学学士

   

2006-09~2010-09,荷兰埃因霍芬理工大学, 理学博士
2004-09~2006-09,荷兰埃因霍芬理工大学, 工学博士
2002-10~2004-08,荷兰莱顿大学, 理学硕士
1998-09~2002-08,东南大学, 理学学士

   

（ 1 ） 位置敏感探测器的位置测量标定方法及装置, 2023, 第 3 作者, 专利号: 2023102324057

（ 2 ） 一种振动隔离装置, 2022, 第 2 作者, 专利号: CN111059208B

（ 3 ） 用于精密运动平台的模型预测运动控制方法及其系统, 2022, 第 4 作者, 专利号: CN114185270A

（ 4 ） 一种调校装置及其调校方法, 2022, 第 2 作者, 专利号: CN114114603A

（ 5 ） 一种位置探测信号的分析方法, 2022, 第 2 作者, 专利号: CN114118141A

（ 6 ） 多干涉仪组合应用安装调整装置, 2022, 第 2 作者, 专利号: CN114088215A

（ 7 ） 一种样品形貌测量装置及方法, 2022, 第 1 作者, 专利号: CN111649693B

（ 8 ） 晶圆轮廓图的构造方法, 2022, 第 2 作者, 专利号: CN111089539B

（ 9 ） 超精密位置探测光电信号解算结果有效性评价方法及系统, 2022, 第 1 作者, 专利号: CN114061452A

（ 10 ） 超精密位置探测光电信号数据拟合方法及其装置, 2022, 第 1 作者, 专利号: CN114061451A

（ 11 ） 六自由度调整装置, 2022, 第 2 作者, 专利号: CN114047590A

（ 12 ） 采样信号同步控制系统, 2022, 第 1 作者, 专利号: CN114035474A

（ 13 ） 一种调制和解调信号的同步控制方法以及装置, 2022, 第 2 作者, 专利号: CN114035460A

（ 14 ） 小波阈值去噪方法、装置、设备及介质, 2022, 第 4 作者, 专利号: CN113971641A

（ 15 ） 一种多波长光束处理装置及方法, 2022, 第 2 作者, 专利号: CN113946058A

（ 16 ） 用于硅片高度测量的信号处理方法、装置、设备及介质, 2022, 第 4 作者, 专利号: CN113916132A

（ 17 ） 硅片高度数据的处理系统及方法, 2021, 第 2 作者, 专利号: CN113871323A

（ 18 ） 对准信号数字化同步解调方法及装置, 2021, 第 3 作者, 专利号: CN111077743B

（ 19 ） 样品表面位置在线定位测量装置及其漂移监测方法, 2021, 第 2 作者, 专利号: CN113358569A

（ 20 ） 真空兼容的平面光学元件调整装置, 2021, 第 4 作者, 专利号: CN113359261A

（ 21 ） 对焦传感器的校准方法, 2021, 第 1 作者, 专利号: CN110940280B

（ 22 ） 对准误差测量方法, 2021, 第 4 作者, 专利号: CN110967948B

（ 23 ） 精密运动平台的运动轨迹规划方法, 2021, 第 2 作者, 专利号: CN113253678A

（ 24 ） 用于晶圆高度探测信号的分析和评估方法, 2021, 第 2 作者, 专利号: CN113177534A

（ 25 ） 光学器件调整装置, 2021, 第 2 作者, 专利号: CN113176645A

（ 26 ） 一种用于同步控制的带有遗忘因子的迭代学习控制方法, 2021, 第 2 作者, 专利号: CN111580466B

（ 27 ） 高稳定偏振保持合束装置及方法, 2021, 第 2 作者, 专利号: CN110927880B

（ 28 ） 对准误差测量方法及装置, 2021, 第 1 作者, 专利号: CN110824865B

（ 29 ） 多光束合束调节装置及调节方法, 2021, 第 2 作者, 专利号: CN112925064A

（ 30 ） 第9衍射级衍射效率增强的相位光栅结构, 2021, 第 2 作者, 专利号: CN112902996A

（ 31 ） 减小相位光栅非对称性对位置测量精度影响的方法, 2021, 第 1 作者, 专利号: CN112833790A

（ 32 ） 真空温度场测量装置及方法, 2021, 第 3 作者, 专利号: CN110926617B

（ 33 ） 带密闭设计及光电信号无失真的光电探测装置及实现方法, 2021, 第 1 作者, 专利号: CN112539833A

（ 34 ） 自参考干涉仪棱镜的退偏补偿方法, 2021, 第 4 作者, 专利号: CN112539696A

（ 35 ） 一种能够降低光程差的偏振分光棱镜, 2021, 第 4 作者, 专利号: CN112394531A

（ 36 ） 一种同步控制方法以及系统, 2021, 第 2 作者, 专利号: CN110879567B

（ 37 ） 大口径紧凑型索雷-巴比涅补偿器装置, 2021, 第 2 作者, 专利号: CN112255779A

（ 38 ） 一种反射式样品形貌测量装置及方法, 2020, 第 5 作者, 专利号: CN111982020A

（ 39 ） 基于OpenVPX架构的测控系统同步控制系统, 2020, 第 3 作者, 专利号: CN110968000B

（ 40 ） 一种基于空间分光的形貌测量装置及方法, 2020, 第 4 作者, 专利号: CN111678460A

（ 41 ） 一种用于精密运动控制的反演抗积分饱和方法, 2020, 第 2 作者, 专利号: CN111624870A

（ 42 ） 一种用于精密运动控制的变结构抗积分饱和方法, 2020, 第 2 作者, 专利号: CN111624871A

（ 43 ） 一种衍射光栅的设计方法及系统, 2020, 第 1 作者, 专利号: CN111610586A

（ 44 ） 一种衍射光栅结构及其制备方法, 2020, 第 3 作者, 专利号: CN111580206A

（ 45 ） 用于EUV真空环境中的光电转换电子学装置及光刻机, 2020, 第 6 作者, 专利号: CN110967944A

（ 46 ） 一种测量标记结构的方法、装置及系统, 2020, 第 3 作者, 专利号: CN110927116A

（ 47 ） 高稳定低串扰分束装置, 2020, 第 2 作者, 专利号: CN110927983A

（ 48 ） 硅片对准标记布局的优化方法, 2020, 第 1 作者, 专利号: CN110880469A

（ 49 ） 调整吸盘吸力分布改善硅片翘曲的方法, 2019, 第 1 作者, 专利号: CN110620067A

（ 50 ） 一种多轴干涉仪测量装置, 2019, 第 3 作者, 专利号: CN110146011A

（ 51 ） 一种减振装置, 2019, 第 4 作者, 专利号: CN110081117A

（ 52 ） 一种减振装置, 2019, 第 4 作者, 专利号: CN110081117A

（ 53 ） 一种活动密封装置, 2019, 第 3 作者, 专利号: CN110067493A

（ 54 ） 一种气浴装置, 2019, 第 6 作者, 专利号: CN110068122A

（ 55 ） 一种具有振动隔离嵌套结构的检测装置, 2019, 第 5 作者, 专利号: CN110031027A

（ 56 ） 一种穿板密封装置, 2019, 第 5 作者, 专利号: CN110030436A

   

（1） 光刻调焦调平测量技术的研究进展, Research Progress of Lithography Focusing and Leveling Measurement Technology, 激光与光电子学进展, 2022, 第 4 作者
（2） 增强型相位光栅衍射效率研究, 光学学报, 2021, 通讯作者
（3） Analytic Design of Segmented Phase Grating for Optical Sensing in High-Precision Alignment System, SENSORS, 2021, 通讯作者
（4） 光束偏振对自参考干涉信号对比度影响分析, 激光与光电子学进展, 2021, 第 4 作者
（5） 相位光栅非对称性对位置测量精度影响研究, 光学学报, 2021, 通讯作者
（6） 从ASML和Nikon专利诉讼案例看国产光刻设备知识产权建设, The Intellectual Property Construction of Domestic Lithography Equipment from the Case of ASML and Nikon Patent Litigation, 科技和产业, 2020, 第 2 作者

Analysis of the Perception of Graphical Encodings for Information Visualization, Eindhoven University of Technology, 2010-12, 第 1 作者

   

（ 1 ） 14nm浸没光刻套刻对准关键技术研究, 负责人, 国家任务, 2018-10--2022-03
（ 2 ） 测控系统真空实验研究, 负责人, 中国科学院计划, 2020-06--2023-06
（ 3 ） 光刻系统集成关键技术, 负责人, 研究所自主部署, 2018-11--2023-12
（ 4 ） EUV系统协同及综合试验验证平台, 负责人, 中国科学院计划, 2019-09--2020-12
（ 5 ） 核心控制机构技术研究, 负责人, 研究所自主部署, 2020-06--2020-11