基本信息
李璟  女  博导  中国科学院微电子研究所
电子邮件: lijing2018@ime.ac.cn
通信地址: 北土城西路3号院
邮政编码:

招生信息

   
招生专业
080300-光学工程
080902-电路与系统
140100-集成电路科学与工程
招生方向
先进光刻
智能信息处理与传输
集成电路光刻技术

教育背景

2004-09--2006-09   荷兰埃因霍芬理工大学   工学博士
2002-10--2004-08   荷兰莱顿大学   理学硕士
1998-09--2002-08   东南大学   理学学士

工作经历

   
工作简历
2006-09~2010-09,荷兰埃因霍芬理工大学, 理学博士
2004-09~2006-09,荷兰埃因霍芬理工大学, 工学博士
2002-10~2004-08,荷兰莱顿大学, 理学硕士
1998-09~2002-08,东南大学, 理学学士

专利与奖励

   
专利成果
( 1 ) 位置敏感探测器的位置测量标定方法及装置, 2023, 第 3 作者, 专利号: 2023102324057

( 2 ) 一种振动隔离装置, 2022, 第 2 作者, 专利号: CN111059208B

( 3 ) 用于精密运动平台的模型预测运动控制方法及其系统, 2022, 第 4 作者, 专利号: CN114185270A

( 4 ) 一种调校装置及其调校方法, 2022, 第 2 作者, 专利号: CN114114603A

( 5 ) 一种位置探测信号的分析方法, 2022, 第 2 作者, 专利号: CN114118141A

( 6 ) 多干涉仪组合应用安装调整装置, 2022, 第 2 作者, 专利号: CN114088215A

( 7 ) 一种样品形貌测量装置及方法, 2022, 第 1 作者, 专利号: CN111649693B

( 8 ) 晶圆轮廓图的构造方法, 2022, 第 2 作者, 专利号: CN111089539B

( 9 ) 超精密位置探测光电信号解算结果有效性评价方法及系统, 2022, 第 1 作者, 专利号: CN114061452A

( 10 ) 超精密位置探测光电信号数据拟合方法及其装置, 2022, 第 1 作者, 专利号: CN114061451A

( 11 ) 六自由度调整装置, 2022, 第 2 作者, 专利号: CN114047590A

( 12 ) 采样信号同步控制系统, 2022, 第 1 作者, 专利号: CN114035474A

( 13 ) 一种调制和解调信号的同步控制方法以及装置, 2022, 第 2 作者, 专利号: CN114035460A

( 14 ) 小波阈值去噪方法、装置、设备及介质, 2022, 第 4 作者, 专利号: CN113971641A

( 15 ) 一种多波长光束处理装置及方法, 2022, 第 2 作者, 专利号: CN113946058A

( 16 ) 用于硅片高度测量的信号处理方法、装置、设备及介质, 2022, 第 4 作者, 专利号: CN113916132A

( 17 ) 硅片高度数据的处理系统及方法, 2021, 第 2 作者, 专利号: CN113871323A

( 18 ) 对准信号数字化同步解调方法及装置, 2021, 第 3 作者, 专利号: CN111077743B

( 19 ) 样品表面位置在线定位测量装置及其漂移监测方法, 2021, 第 2 作者, 专利号: CN113358569A

( 20 ) 真空兼容的平面光学元件调整装置, 2021, 第 4 作者, 专利号: CN113359261A

( 21 ) 对焦传感器的校准方法, 2021, 第 1 作者, 专利号: CN110940280B

( 22 ) 对准误差测量方法, 2021, 第 4 作者, 专利号: CN110967948B

( 23 ) 精密运动平台的运动轨迹规划方法, 2021, 第 2 作者, 专利号: CN113253678A

( 24 ) 用于晶圆高度探测信号的分析和评估方法, 2021, 第 2 作者, 专利号: CN113177534A

( 25 ) 光学器件调整装置, 2021, 第 2 作者, 专利号: CN113176645A

( 26 ) 一种用于同步控制的带有遗忘因子的迭代学习控制方法, 2021, 第 2 作者, 专利号: CN111580466B

( 27 ) 高稳定偏振保持合束装置及方法, 2021, 第 2 作者, 专利号: CN110927880B

( 28 ) 对准误差测量方法及装置, 2021, 第 1 作者, 专利号: CN110824865B

( 29 ) 多光束合束调节装置及调节方法, 2021, 第 2 作者, 专利号: CN112925064A

( 30 ) 第9衍射级衍射效率增强的相位光栅结构, 2021, 第 2 作者, 专利号: CN112902996A

( 31 ) 减小相位光栅非对称性对位置测量精度影响的方法, 2021, 第 1 作者, 专利号: CN112833790A

( 32 ) 真空温度场测量装置及方法, 2021, 第 3 作者, 专利号: CN110926617B

( 33 ) 带密闭设计及光电信号无失真的光电探测装置及实现方法, 2021, 第 1 作者, 专利号: CN112539833A

( 34 ) 自参考干涉仪棱镜的退偏补偿方法, 2021, 第 4 作者, 专利号: CN112539696A

( 35 ) 一种能够降低光程差的偏振分光棱镜, 2021, 第 4 作者, 专利号: CN112394531A

( 36 ) 一种同步控制方法以及系统, 2021, 第 2 作者, 专利号: CN110879567B

( 37 ) 大口径紧凑型索雷-巴比涅补偿器装置, 2021, 第 2 作者, 专利号: CN112255779A

( 38 ) 一种反射式样品形貌测量装置及方法, 2020, 第 5 作者, 专利号: CN111982020A

( 39 ) 基于OpenVPX架构的测控系统同步控制系统, 2020, 第 3 作者, 专利号: CN110968000B

( 40 ) 一种基于空间分光的形貌测量装置及方法, 2020, 第 4 作者, 专利号: CN111678460A

( 41 ) 一种用于精密运动控制的反演抗积分饱和方法, 2020, 第 2 作者, 专利号: CN111624870A

( 42 ) 一种用于精密运动控制的变结构抗积分饱和方法, 2020, 第 2 作者, 专利号: CN111624871A

( 43 ) 一种衍射光栅的设计方法及系统, 2020, 第 1 作者, 专利号: CN111610586A

( 44 ) 一种衍射光栅结构及其制备方法, 2020, 第 3 作者, 专利号: CN111580206A

( 45 ) 用于EUV真空环境中的光电转换电子学装置及光刻机, 2020, 第 6 作者, 专利号: CN110967944A

( 46 ) 一种测量标记结构的方法、装置及系统, 2020, 第 3 作者, 专利号: CN110927116A

( 47 ) 高稳定低串扰分束装置, 2020, 第 2 作者, 专利号: CN110927983A

( 48 ) 硅片对准标记布局的优化方法, 2020, 第 1 作者, 专利号: CN110880469A

( 49 ) 调整吸盘吸力分布改善硅片翘曲的方法, 2019, 第 1 作者, 专利号: CN110620067A

( 50 ) 一种多轴干涉仪测量装置, 2019, 第 3 作者, 专利号: CN110146011A

( 51 ) 一种减振装置, 2019, 第 4 作者, 专利号: CN110081117A

( 52 ) 一种减振装置, 2019, 第 4 作者, 专利号: CN110081117A

( 53 ) 一种活动密封装置, 2019, 第 3 作者, 专利号: CN110067493A

( 54 ) 一种气浴装置, 2019, 第 6 作者, 专利号: CN110068122A

( 55 ) 一种具有振动隔离嵌套结构的检测装置, 2019, 第 5 作者, 专利号: CN110031027A

( 56 ) 一种穿板密封装置, 2019, 第 5 作者, 专利号: CN110030436A

出版信息

   
发表论文
(1) 光刻调焦调平测量技术的研究进展, Research Progress of Lithography Focusing and Leveling Measurement Technology, 激光与光电子学进展, 2022, 第 4 作者
(2) 增强型相位光栅衍射效率研究, 光学学报, 2021, 通讯作者
(3) Analytic Design of Segmented Phase Grating for Optical Sensing in High-Precision Alignment System, SENSORS, 2021, 通讯作者
(4) 光束偏振对自参考干涉信号对比度影响分析, 激光与光电子学进展, 2021, 第 4 作者
(5) 相位光栅非对称性对位置测量精度影响研究, 光学学报, 2021, 通讯作者
(6) 从ASML和Nikon专利诉讼案例看国产光刻设备知识产权建设, The Intellectual Property Construction of Domestic Lithography Equipment from the Case of ASML and Nikon Patent Litigation, 科技和产业, 2020, 第 2 作者
发表著作
Analysis of the Perception of Graphical Encodings for Information Visualization, Eindhoven University of Technology, 2010-12, 第 1 作者

科研活动

   
科研项目
( 1 ) 14nm浸没光刻套刻对准关键技术研究, 负责人, 国家任务, 2018-10--2022-03
( 2 ) 测控系统真空实验研究, 负责人, 中国科学院计划, 2020-06--2023-06
( 3 ) 光刻系统集成关键技术, 负责人, 研究所自主部署, 2018-11--2023-12
( 4 ) EUV系统协同及综合试验验证平台, 负责人, 中国科学院计划, 2019-09--2020-12
( 5 ) 核心控制机构技术研究, 负责人, 研究所自主部署, 2020-06--2020-11