基本信息
卢维尔  女  硕导  中国科学院微电子研究所
电子邮件: luweier@ime.ac.cn
通信地址: 北京市朝阳区北土城西路3号中科院微电子研究所
邮政编码:

招生信息

   
招生专业
080903-微电子学与固体电子学
招生方向
模拟电路测试表征技术
SOI材料与工艺技术

教育背景

2008-09--2012-06   中国科学院理化技术研究所   博士研究生

工作经历

   
工作简历
2017-04~现在, 中国科学院微电子研究所, 副研究员
2012-07~现在, 中国科学院微电子研究所, 助理研究员
2008-09~2012-06,中国科学院理化技术研究所, 博士研究生

教授课程

微电子工艺与装备技术
半导体工艺与制造技术

专利与奖励

   
专利成果
( 1 ) '2023102499850, 2023, 第 1 作者, 专利号: '2023102499850

( 2 ) 一种菲涅尔波带片的设计方法、制作方法和设计装置, 2021, 第 2 作者, 专利号: CN113625379A

( 3 ) 一种薄膜材料结晶的装置和方法, 2021, 第 2 作者, 专利号: CN112899655A

( 4 ) 一种刻蚀装置及刻蚀方法, 2019, 第 3 作者, 专利号: CN110581095A

( 5 ) 一种MOS器件原子层沉积原位制备方法, 2018, 第 2 作者, 专利号: CN108063089A

出版信息

   
发表论文
(1) Fabrication of multilayer Fresnel zone plate for hard X-ray microscopy by atomic layer deposition and focused ion beam milling, VACUUM, 2023, 通讯作者
(2) 3D fiber-probe surface plasmon resonance microsensor towards small volume sensing, SENSORS AND ACTUATORS: B. CHEMICAL, 2023, 通讯作者
(3) 基于严格耦合波理论的硬X射线菲涅耳波带片设计, Design of Hard X-Ray Fresnel Zone Plates Based on Rigorous Coupled Wave Theory, 光学学报, 2021, 第 3 作者
(4) 原子层沉积生长速率的控制研究进展, Research Progress on Growth Rate Controlling of Atomic Layer Deposition, JOURNAL OF INORGANIC MATERIALS, 2014, 通讯作者
(5) Femtosecond direct laser writing of gold nanostructures by ionic liquid assisted multiphoton photoreduction, OPTICAL MATERIALS EXPRESS, 2013, 通讯作者

科研活动

   
科研项目
( 1 ) 微焦X射线菲涅耳透镜的批量化制备技术, 负责人, 国家任务, 2018-10--2021-10
( 2 ) 场极化作用下石墨烯表面原子层沉积高k栅介质的生长机制研究, 负责人, 国家任务, 2016-01--2019-12
( 3 ) 脉冲气相沉积技术及大尺寸石墨烯生长机制研究, 负责人, 地方任务, 2017-05--2018-04
( 4 ) 高性能激光脉冲薄膜制备系统, 负责人, 中国科学院计划, 2014-01--2016-12
参与会议
(1)High performance Fresnel X-ray zone plate preparation technique based on atomic layer deposition   卢维尔   2019-04-12