基本信息
刘世杰  男  博导  中国科学院上海光学精密机械研究所
电子邮件: shijieliu@siom.ac.cn
通信地址: 上海市嘉定区汇旺东路899号
邮政编码: 201800

研究领域

精密光学检测技术、衍射光学

招生信息

招生专业
080300-光学工程
080501-材料物理与化学
招生方向
光学检测,衍射光学

教育背景

   
学历
研究生

学位
工学博士

工作经历

   
工作简历
2018-08~现在, 中国科学院上海光机所, 研究员
2011-09~2018-08,中国科学院上海光机所, 副研究员
2011-04~2011-08,中国科学院上海光机所, 助理研究员
2008-11~2011-04,德国弗劳恩霍夫集成系统和元器件研究所, 博士后研究员
2008-05~2008-06,德国Erlangen大学, 访问学者
2001-09~2005-03,陕西理工学院物理系, 讲师
社会兼职
2021-05-01-2026-05-01,全国光学和光子学标准化技术委员会光学材料和元件分技术委员会委员, 委员

教授课程

高功率激光光学元件导论

专利与奖励

   
奖励信息
(1) 大尺寸高性能激光偏振薄膜元件成套制备工艺技术及应用, 二等奖, 国家级, 2018
(2) 米级、高消光比、高损伤阈值偏振薄膜元件成套制备工艺技术与应用开发, 一等奖, 省级, 2017
(3) 强激光光学元件表面缺陷精密检测技术及应用, 一等奖, 省级, 2017
专利成果
( 1 ) 大口径光学元件表面缺陷三维形貌测量装置和方法, 专利授权, 2021, 第 2 作者, 专利号: CN109099859B

( 2 ) 吸收性缺陷单光束光热测量装置, 外观设计, 2021, 第 1 作者, 专利号: CN212646516U

( 3 ) 基于混沌激光的光学元件高反射率测量系统, 发明专利, 2021, 第 2 作者, 专利号: CN112234420A

( 4 ) 光学元件多模态原位缺陷测量装置和测量方法, 发明专利, 2021, 第 1 作者, 专利号: CN112229606A

( 5 ) 一种球面光学元件表面缺陷测量装置和测量方法, 发明专利, 2021, 第 2 作者, 专利号: CN112229854A

( 6 ) 超声可调光谱干涉测量装置和测量方法, 发明专利, 2020, 第 1 作者, 专利号: CN112066901A

( 7 ) 用于校准高透反射率测量系统的标准结构及校准方法, 发明专利, 2020, 第 2 作者, 专利号: CN111948179A

( 8 ) 一种动态双波长移相干涉测量装置和测量方法, 发明专利, 2020, 第 1 作者, 专利号: CN111947592A

( 9 ) 介质高反膜元件表面缺陷测量装置和测量方法, 发明专利, 2020, 第 1 作者, 专利号: CN111948223A

( 10 ) 用于干涉仪平面标准镜绝对面形检测的旋转机构, 专利授权, 2020, 第 3 作者, 专利号: CN110057287B

( 11 ) 倍频晶体定轴误差测量装置及测量方法, 专利授权, 2020, 第 1 作者, 专利号: CN109798849B

( 12 ) 原位时间分辨X射线吸收谱的测量装置和测量方法, 专利授权, 2020, 第 2 作者, 专利号: CN107219241B

( 13 ) 紫外-可见光-近红外透反射光谱测量装置和测量方法, 专利授权, 2020, 第 1 作者, 专利号: CN106841065B

( 14 ) 多波长激光干涉仪, 专利授权, 2020, 第 1 作者, 专利号: CN109029244B

( 15 ) 二氧化硅微球三维全形貌检测装置及其检测方法, 发明专利, 2020, 第 1 作者, 专利号: CN111474190A

( 16 ) 基于微偏振片阵列的偏振成像皮肤病变检测方法和检测装置, 发明专利, 2020, 第 1 作者, 专利号: CN111202497A

( 17 ) 用于绝对检测的大口径光学平面镜的旋转装置, 专利授权, 2020, 第 1 作者, 专利号: CN108955532B

( 18 ) 靶丸球形度检测分选机构和检测分选方法, 专利授权, 2020, 第 1 作者, 专利号: CN109174677B

( 19 ) 大口径熔石英玻璃低损伤阈值缺陷的测量装置和测量方法, 发明专利, 2020, 第 3 作者, 专利号: CN111007052A

( 20 ) 分光光度计, 专利授权, 2020, 第 1 作者, 专利号: CN106404695B

( 21 ) 分光光度计, 专利授权, 2020, 第 1 作者, 专利号: CN106404695B

( 22 ) 大口径熔石英玻璃低损伤阈值缺陷的测量装置和测量方法, 发明专利, 2020, 第 2 作者, 专利号: CN110736726A

( 23 ) 光学元件表层缺陷快速探测和识别的检测装置和检测方法, 发明专利, 2020, 第 3 作者, 专利号: CN110687080A

( 24 ) 抗振二维光学调整架和使用方法, 发明专利, 2019, 第 1 作者, 专利号: CN110596848A

( 25 ) 半球形光学元件透射率及其均匀性的测量装置和方法, 专利授权, 2019, 第 2 作者, 专利号: CN107402195B

( 26 ) 非接触式电光晶体通光面法线与Z轴偏离角测量装置及其测量方法, 专利授权, 2019, 第 1 作者, 专利号: CN106918310B

( 27 ) 电光晶体通光面法线与Z轴偏离角的测量装置及其测量方法, 专利授权, 2019, 第 1 作者, 专利号: CN106918309B

( 28 ) 大口径超光滑表面缺陷的检测装置和检测方法, 专利授权, 2019, 第 2 作者, 专利号: CN106442564B

( 29 ) 电子元器件外壳外观缺陷测量装置和测量方法, 发明专利, 2019, 第 1 作者, 专利号: CN110441310A

( 30 ) 显微散射偏振成像表面缺陷测量装置和测量方法, 发明专利, 2019, 第 2 作者, 专利号: CN110441309A

( 31 ) 一种大口径材料表面散射的高速测量装置和方法, 专利授权, 2019, 第 2 作者, 专利号: CN106404794B

( 32 ) 高速激光线扫描的表面缺陷检测装置, 专利授权, 2019, 第 2 作者, 专利号: CN106442565B

( 33 ) 双通道双波长干涉检测装置, 专利授权, 2019, 第 1 作者, 专利号: CN106197258B

( 34 ) 电光晶体通光面法线与晶体光轴的夹角测量装置和方法, 专利授权, 2019, 第 1 作者, 专利号: CN107505121B

( 35 ) 平面光学元件绝对面形检测装置, 专利授权, 2019, 第 1 作者, 专利号: CN107036554B

( 36 ) 大口径掠入射反射聚焦镜高精度面形检测方法, 专利授权, 2019, 第 1 作者, 专利号: CN106813594B

( 37 ) 原位时间分辨光栅衍射效率光谱测量装置和方法, 发明专利, 2018, 第 2 作者, 专利号: CN107063456B

( 38 ) 大口径光学元件干涉机械自动化检测辅助设备, 发明专利, 2018, 第 2 作者, 专利号: CN106500966B

( 39 ) PSD2干涉检测中局部采点的控制方法, 发明专利, 2018, 第 5 作者, 专利号: CN106168463B

( 40 ) 一种大口径光栅衍射效率的测量装置和测量方法, 发明专利, 2018, 第 2 作者, 专利号: CN106124166B

( 41 ) 基于单次曝光模式的光栅衍射效率光谱的测量装置和方法, 发明专利, 2018, 第 1 作者, 专利号: CN105928688B

( 42 ) 一种玻璃应力及缺陷的测量装置和测量方法, 发明专利, 2018, 第 1 作者, 专利号: CN108051443A

( 43 ) 条纹对比度可调的动态点衍射干涉仪, 发明专利, 2018, 第 2 作者, 专利号: CN105300273B

( 44 ) 用于测量干涉仪传递函数的台阶板的制作方法, 发明专利, 2018, 第 1 作者, 专利号: CN105352611B

( 45 ) 透明材料折射率的测量装置和测量方法, 发明专利, 2017, 第 2 作者, 专利号: CN107478604A

( 46 ) 一种材料折射率的测量装置, 实用新型, 2017, 第 1 作者, 专利号: CN206557092U

( 47 ) 光栅衍射效率光谱测量装置和测量方法, 发明专利, 2017, 第 1 作者, 专利号: CN106596058A

( 48 ) 米级光栅衍射波前拼接检测装置和检测方法, 发明专利, 2016, 第 1 作者, 专利号: CN105973163A

( 49 ) 大口径高平行度光学元件波前检测装置, 发明专利, 2016, 第 1 作者, 专利号: CN105675262A

( 50 ) 基于微偏振片阵列的动态点衍射干涉仪, 发明专利, 2016, 第 2 作者, 专利号: CN105300272A

( 51 ) 紫外光刻二维平台, 发明专利, 2015, 第 1 作者, 专利号: CN104597721A

( 52 ) 单幅载频干涉条纹相位提取方法及检测装置, 发明专利, 2014, 第 2 作者, 专利号: CN104006765A

( 53 ) 梯形金属介质膜宽带脉冲压缩光栅, 发明专利, 2014, 第 3 作者, 专利号: CN103728685A

( 54 ) 全内反射原位照明装置及其控制方法, 发明专利, 2013, 第 2 作者, 专利号: CN103424843A

( 55 ) 偏振无关1550纳米高衍射效率双层透射光栅, 发明专利, 2013, 第 3 作者, 专利号: CN103364855A

( 56 ) 金属介质膜宽带脉冲压缩光栅, 发明专利, 2013, 第 6 作者, 专利号: CN102928905A

( 57 ) 干涉测量光学材料均匀性的方法, 发明专利, 2013, 第 2 作者, 专利号: CN102928200A

( 58 ) 1053纳米波段的金属介质膜反射式偏振分束光栅, 发明专利, 2011, 第 3 作者, 专利号: CN102289014A

( 59 ) 脉冲压缩光栅用多层介质膜的优化设计方法, 发明专利, 2008, 第 1 作者, 专利号: CN101140400

出版信息

   
发表论文
[1] Optics Express. 2024,   通讯作者  
[2] Applied Optics. 2022,   通讯作者  
[3] Lu, Qi, Liu, Shijie, Zhang, Xiangchao, Xu, Tianzhu, Pan, Jingyu, Xu, Min, Shao, Jianda. High-accuracy and high-repeatability measurement of the cut error of a nonlinear uniaxial crystal. APPLIED OPTICS[J]. 2021, 第 2 作者  通讯作者  60(1): 41-46, https://www.webofscience.com/wos/woscc/full-record/WOS:000602799100006.
[4] Zhou, You, Liu, Shijie, Lu, Qi, Bai, Yunbo, Wu, Fulin, Shao, Jianda. In situ absolute surface metrology for a 600 mm aperture interferometer. OPTICS AND LASERS IN ENGINEERING[J]. 2020, 第 2 作者  通讯作者  129: http://dx.doi.org/10.1016/j.optlaseng.2020.106054.
[5] Wang Shenghao, Shao Jianda, Liu Shijie, Li Lingqiao, Wu Zhouling, Chen Jiang, Huang Ming. Error Analysis of the New Measurement Technique for Obtaining the Spectral Diffraction Efficiencies of a Grating. SPECTROSCOPY AND SPECTRAL ANALYSIS[J]. 2020, 第 3 作者  通讯作者  40(6): 1973-1978, https://www.webofscience.com/wos/woscc/full-record/WOS:000545315300052.
[6] 王晨, 周游, 鲁棋, 徐天柱, 刘世杰. 反射式偏振相移动态点衍射干涉技术的研究. 中国激光[J]. 2020, 第 5 作者47(10): 156-163, http://lib.cqvip.com/Qikan/Article/Detail?id=7103301802.
[7] Wang, Shenghao, Zan, Guibin, Wang, Qiuping, Liu, Shijie. Preliminary demonstration of flexible dual-energy x-ray phase-contrast imaging. OPTICAL ENGINEERING[J]. 2019, 第 4 作者  通讯作者  58(11): 
[8] Ni, Kaizao, Cheng, Xin, Huang, Baoming, Liu, Shijie, Shao, Jianda, Wu, Zhouling, Chen, Jian, Huang, Ming. Quantitative Evaluation of Subsurface Damage by Improved Total Internal Reflection Microscopy. APPLIED SCIENCES-BASEL[J]. 2019, 第 4 作者  通讯作者  9(9): http://dx.doi.org/10.3390/app9091819.
[9] Lu, Qi, Liu, Shijie, Shao, Jianda, Zhou, You, Xu, Tianzhu, Pan, Jingyu, Wang, Shenghao, Bai, Yunbo, Xu, Xueke. A simple high-precision wide-spectrum interferometric system. REVIEW OF SCIENTIFIC INSTRUMENTS[J]. 2019, 第 2 作者  通讯作者  90(7): https://www.webofscience.com/wos/woscc/full-record/WOS:000478661400063.
[10] 刘世杰. 大口径激光钕玻璃均匀性拼接检测技术研究. 光学学报. 2018, 第 1 作者  通讯作者  
[11] Lu, Qi, Wang, Shenghao, Zhou, You, Liu, Shijie, Shao, Jianda. High-precision determination of the cut angle of an electro-optic crystal by conoscopic interference. APPLIED OPTICS[J]. 2018, 第 4 作者  通讯作者  57(24): 6886-6891, https://www.webofscience.com/wos/woscc/full-record/WOS:000442105200006.
[12] Wang Shenghao, Liu Shijie, Wang Weiwei, Zhang Zhigang. Fast and High-Accuracy Measuring Technique for Transmittance Spectrum in VIS-NIR. SPECTROSCOPY AND SPECTRAL ANALYSIS[J]. 2018, 第 2 作者  通讯作者  38(1): 308-313, https://www.webofscience.com/wos/woscc/full-record/WOS:000423649200056.
[13] Wang, Shenghao, Liu, Shijie, Shao, Jianda, Jin, Yunxia, Kong, Fanyu, Wang, Yonglu. Motionless and fast measurement technique for obtaining the spectral diffraction efficiencies of a grating. REVIEW OF SCIENTIFIC INSTRUMENTS[J]. 2018, 第 2 作者  通讯作者  89(7): https://www.webofscience.com/wos/woscc/full-record/WOS:000440590200002.
[14] Xu, Longbo, Liu, Shijie, Zhu, Rihong, Zhou, You, Chen, Jie. Absolute surface form measurement of flat optics based on oblique incidence method. CHINESE OPTICS LETTERS[J]. 2018, 第 2 作者  通讯作者  16(10): http://lib.cqvip.com/Qikan/Article/Detail?id=676698458.
[15] Wang, Shenghao, Liu, Shijie, Shao, Jianda, Xu, Tianzhu, Lu, Qi, Qi, Shen, Feng, Minghui, Zhang, Long. Apparatus for measuring the uniformity of the optical transmittance of a semispherical surface at normal incidence. APPLIED OPTICS[J]. 2018, 第 2 作者  通讯作者  57(13): 3395-3400, https://www.webofscience.com/wos/woscc/full-record/WOS:000431175200011.
[16] 刘世杰. 光学平面绝对测量方法仿真和实验研究. 激光与光电子学进展. 2017, 第 1 作者  通讯作者  
[17] 徐隆波, 周游, 朱日宏, 刘世杰. 惯性约束聚变系统中米量级光学元件波面误差检测技术研究进展. 激光与光电子学进展[J]. 2016, 第 4 作者53(12): 1-10, http://lib.cqvip.com/Qikan/Article/Detail?id=670876968.
[18] 刘世杰. SLM像素尺寸对非球面检测误差影响分析. 中国激光. 2016, 第 1 作者  通讯作者  
[19] 刘世杰. Investigation on measurement of mid-frequency wavefront error for large optics in high-power laser system. SPIE. 2015, 第 1 作者
[20] 刘世杰. 厚层接近式光刻中掩模优化研究. 强激光与粒子束. 2015, 第 1 作者  通讯作者  
[21] Zhang Bo, Kong Fanyu, Wu Zhouling, Liu Shijie. Investigation on optical surface defect extraction algorithm based on background correction and image segmentation method. PACIFIC RIM LASER DAMAGE 2015: OPTICAL MATERIALS FOR HIGH-POWER LASERS. 2015, 第 4 作者http://www.corc.org.cn/handle/1471x/2267503.
[22] 崔辉, 刘世杰, 赵元安, 杨俊, 刘杰, 刘文文. 全内反射显微技术探测亚表面缺陷新方法研究. 光学学报[J]. 2014, 第 2 作者34(6): 612004, http://ir.siom.ac.cn/handle/181231/13727.
[23] Jin, Chunxiang, Liu, Shijie, Zhou, You, Xu, Xueke, Wei, Chaoyang, Shao, Jianda. Study on measurement of medium and low spatial wavefront errors of long focal length lens. CHIN. OPT. LETT.[J]. 2014, 第 2 作者12: S21203, http://ir.siom.ac.cn/handle/181231/13070.
[24] He, Kai, Wang, Jianpeng, Hou, Yongqiang, Li, Xu, Guan, Heyuan, Kong, Fanyu, Liu, Shijie, Jin, Yunxia, Yi, Kui. High-spectral-resolution characterization of broadband high-efficiency reflection gratings. APPLIED OPTICS[J]. 2013, 第 7 作者  通讯作者  52(4): 653-658, https://www.webofscience.com/wos/woscc/full-record/WOS:000314684600026.

科研活动

   
科研项目
( 1 ) 倾斜/旋转紫外光刻技术及其在MEMS中的应用, 负责人, 国家任务, 2012-01--2014-12
( 2 ) 宽带高阈值压缩光栅的研制, 参与, 国家任务, 2012-06--2013-06
( 3 ) 大口径衍射光栅研制, 参与, 国家任务, 2012-06--2013-06
( 4 ) 高负载能力表面织构减反射石英元件, 参与, 国家任务, 2012-06--2013-06
( 5 ) 介质膜近场滤波技术研究, 参与, 国家任务, 2012-06--2013-06
( 6 ) 大口径光学检测技术研究与设备样机验证, 负责人, 国家任务, 2013-04--2014-03
( 7 ) 大口径光学检测技术研究与设备样机验证, 负责人, 国家任务, 2013-01--2015-12
( 8 ) 大口径光学检测技术研究与设备样机验证, 负责人, 国家任务, 2016-01--2018-12
( 9 ) 24吋激光平面干涉仪超高精度面形检测技术功能开发, 负责人, 中国科学院计划, 2018-09--2019-09
( 10 ) 高解析度高效自动XXX检测设备, 负责人, 国家任务, 2019-06--2021-06
( 11 ) 多波长高精度激光平面干涉仪, 负责人, 中国科学院计划, 2020-01--2021-12
( 12 ) 大口径反射式干涉曝光技术, 负责人, 国家任务, 2020-12--2025-11
( 13 ) 超强超快激光科学及先进激光材料, 参与, 中国科学院计划, 2021-01--2023-12

指导学生

已指导学生

金春祥  硕士研究生  085202-光学工程  

何骏  硕士研究生  080300-光学工程  

马啸  硕士研究生  080502-材料学  

王晨  硕士研究生  085202-光学工程  

杨为香  硕士研究生  085400-电子信息  

现指导学生

张徐  博士研究生  080300-光学工程  

王培力  硕士研究生  085400-电子信息  

丁毅凡  博士研究生  080300-光学工程  

高鹏  硕士研究生  080300-光学工程  

倪开灶  博士研究生  085600-材料与化工