刘玲，女，1982年生，副研究员，硕士生导师。自参加工作以来，一直从事亚波长科学与技术及微纳光学相关的研究，特别是微纳加工、超分辨率光学成像、纳米光刻、及表面等离子体光刻方面的研究。在微纳器件加工及超薄膜层制备方面有丰富的经验。参与了国家财政部重大仪器装备研制项目、国家973项目、国家自然科学基金面上及青年项目。迄今在国内外SCI学术期刊发表论文7篇，单篇论文影响因子达到10.706。

080402-测试计量技术及仪器

仪器科学与技术，光学工程

2005-09--2008-07   四川师范大学   理学硕士
2001-09--2005-07   四川师范大学   理学学士

   

2008-07~现在, 中国科学院光电技术研究所, 副研究员

   

[1] 罗先刚, 刘玲, 赵泽宇, 沈涛, 张党龙, 陈丽娟, 李夏楚秦. 利用有机薄膜快速去除颗粒的方法和装置. CN: CN115642077A, 2023-01-24.
[2] 罗先刚, 袁理, 孔维杰, 刘玲, 刘凯鹏, 高平. 透镜系统. CN: CN114217451A, 2022-03-22.
[3] 罗先刚, 蒲明博, 马晓亮, 刘玲, 王长涛. 一种基于共振腔结构实现大面积超分辨光刻方法. CN: CN109669323A, 2019-04-23.
[4] 罗先刚, 龚天诚, 赵承伟, 王长涛, 刘玲, 张健, 刘凯鹏. 一种基于白光干涉间隙检测和超精密对准套刻技术的分离式近场微纳光刻方法和装置. CN: CN108037640A, 2018-05-15.
[5] 罗先刚, 王彦钦, 王长涛, 刘玲, 孔维杰, 高平. 负折射成像光刻方法和设备. CN: CN109901363A, 2019-06-18.
[6] 罗先刚, 赵泽宇, 王长涛, 孔维杰, 王彦钦, 刘凯鹏, 刘玲, 蒲明博, 高平, 王炯. 一种照明深度可调的宽波段光源超分辨表层显微成像方法. CN: CN105954866A, 2016-09-21.
[7] 罗先刚, 王长涛, 赵泽宇, 王彦钦, 胡承刚, 蒲明薄, 王炯, 黄成, 刘玲, 罗云飞. 一种实现远场超分辨成像的方法和装置. CN: CN103901629A, 2014-07-02.
[8] 罗先刚, 王长涛, 赵泽宇, 王彦钦, 陶兴, 刘凯鹏, 姚纳, 刘玲, 黄成, 蒲明薄. 表面等离子体功能结构器件及低能电子的纳米光刻方法. CN: CN103488059A, 2014-01-01.
[9] 罗先刚, 王长涛, 赵泽宇, 王彦钦, 沈同圣, 刘玲, 胡承刚, 黄成, 杨磊磊, 潘思洁, 崔建华, 赵波. 一种基于双层胶技术的掩模平坦化方法. CN: CN103399461A, 2013-11-20.
[10] 罗先刚, 赵泽宇, 高平, 王长涛, 王彦钦, 黄成, 陶兴, 刘玲, 杨磊磊, 杨欢. 一种2,4-二硝基甲苯快速检测方法. CN: CN103091301A, 2013-05-08.
[11] 罗先刚, 王长涛, 赵泽宇, 王彦钦, 黄成, 陶兴, 刘玲, 杨磊磊, 蒲明薄, 杨欢. 一种光栅辅助纳米成像的光刻方法. CN: CN102866594A, 2013-01-09.
[12] 罗先刚, 赵泽宇, 王长涛, 王彦钦, 姚纳, 刘玲, 黄成, 陶兴, 蒲明薄, 刘凯鹏. 一种位相型纳米物体表面等离子体超分辨成像方法. CN: CN102879916A, 2013-01-16.
[13] 罗先刚, 高平, 杨欢, 赵泽宇, 冯沁, 陶兴, 刘玲, 刘凯鹏, 杨磊磊. 高灵敏度、高稳定性表面增强拉曼芯片的制备方法及应用方法. CN: CN102628808A, 2012-08-08.
[14] 罗先刚, 王长涛, 赵泽宇, 陶兴, 王彦钦, 冯沁, 方亮, 刘玲, 刘凯鹏, 杨磊磊. 一种利用超衍射离轴照明技术的纳米表层光学显微成像器件及成像方法. CN: CN102628985A, 2012-08-08.
[15] 罗先刚, 王长涛, 赵泽宇, 王彦钦, 冯沁, 陶兴, 杨磊磊, 刘凯鹏, 刘玲, 姚纳. 一种用于光刻的高效超分辨聚焦器件制备方法. CN: CN102621820A, 2012-08-01.
[16] 罗先刚, 赵泽宇, 冯沁, 刘凯鹏, 王长涛, 高平, 杨磊磊, 刘玲. 一种用于表面等离子体光刻的纳米光栅掩模制备方法. CN: CN102629073A, 2012-08-08.
[17] 罗先刚, 刘凯鹏, 赵泽宇, 王长涛, 高平, 冯沁, 刘玲. 亚微米尺度球面或者柱面微透镜阵列的制备方法. CN: CN102621604A, 2012-08-01.
[18] 罗先刚, 赵泽宇, 王长涛, 王彦钦, 高平, 刘玲, 冯沁, 黄成, 杨磊磊, 陶兴. 一种利用两次离子束刻蚀技术制备成像面为平面的超透镜制备方法. CN: CN102633229A, 2012-08-15.
[19] 刘玲, 罗先刚, 王长涛, 刘凯鹏, 冯沁, 方亮, 邢卉. 一种利用两次膜层沉积和干湿法相结合制备半圆柱形微细沟槽的方法. CN: CN102153046A, 2011-08-17.
[20] 刘凯鹏, 罗先刚, 王长涛, 刘玲, 冯沁, 赖之安, 杨欢. 一种制备平面缩放倍率超分辨成像透镜的方法. CN: CN102096123A, 2011-06-15.
[21] 刘尧, 王长涛, 罗先刚, 方亮, 刘玲, 刘凯鹏. 一种利用岛型结构掩模提高超衍射光刻分辨力和光刻质量的方法. CN: CN102096316A, 2011-06-15.
[22] 方亮, 罗先刚, 王长涛, 刘玲, 冯沁, 赖之安, 杨欢. 一种制作高深宽比周期性纳米结构的制作方法. CN: CN102096317A, 2011-06-15.
[23] 王长涛, 方亮, 罗先刚, 刘玲, 冯沁, 赖之安, 杨欢. 一种基于移相原理提高分辨率的超衍射成像器件及其制作方法. CN: CN102096334A, 2011-06-15.
[24] 罗先刚, 王长涛, 冯沁, 刘凯鹏, 刘玲, 潘丽, 刘尧, 邢卉, 方亮. 一种制备多层浮雕结构复合膜层的方法. CN: CN101792111A, 2010-08-04.
[25] 罗先刚, 王长涛, 冯沁, 潘丽, 刘尧, 方亮, 刘玲, 邢卉. 一种用于高深宽比纳米图形加工的表面等离子体成像光刻方法. CN: CN101825845A, 2010-09-08.
[26] 刘玲, 王长涛, 罗先刚, 冯沁, 刘尧, 刘凯鹏, 邢卉, 潘丽. 一种利用两次膜层沉积和湿法腐蚀制备半圆柱形微细沟槽的方法. CN: CN101723307A, 2010-06-09.
[27] 刘凯鹏, 王长涛, 罗先刚, 冯沁, 刘尧, 刘玲, 方亮, 邢卉, 潘丽. 基于移动编码掩模原理制备多层浮雕结构复合膜层的方法. CN: CN101718952A, 2010-06-02.
[28] 罗先刚, 王长涛, 冯沁, 邢卉, 潘丽, 刘尧, 方亮, 刘玲. 一种用于高深宽比纳米图形加工的反射式表面等离子体成像光刻方法. CN: CN101727007A, 2010-06-09.
[29] 罗先刚, 王长涛, 冯沁, 刘凯鹏, 潘丽, 邢卉, 刘尧, 刘玲. 一种用于缩小投影超分辨成像器件和光刻方法. CN: CN101794070A, 2010-08-04.
[30] 邢卉, 王长涛, 罗先刚, 潘丽, 方亮, 刘尧, 刘玲, 刘凯鹏. 一种利用显微镜测量自撑膜的弹性变形量的方法. CN: CN101876539A, 2010-11-03.
[31] 刘尧, 王长涛, 罗先刚, 潘丽, 邢卉, 刘玲, 刘凯鹏. 一种利用金属反射膜结构实现提高表面等离子体光刻质量的方法. CN: CN101726998A, 2010-06-09.
[32] 罗先刚, 刘凯鹏, 王长涛, 潘丽, 刘玲, 刘尧, 邢卉. 一种利用阴影蒸镀和湿法腐蚀来制备半圆柱形沟槽的方法. CN: CN101736287A, 2010-06-16.
[33] 方亮, 王长涛, 罗先刚, 潘丽, 刘尧, 刘玲, 邢卉, 刘凯鹏. 一种用于200nm以下线宽超衍射光刻的硅掩模及其制作方法. CN: CN101726990A, 2010-06-09.
[34] 基于聚合物材料去除基底表面金属膜层的方法及光刻方法. 2023-03-07.

   

[1] Frontiers in Materials. 2023, 第 4 作者
[2] Nanoscale Advances. 2022, 第 1 作者
[3] Jin, Qijian, Liang, Gaofeng, Kong, Weijie, Liu, Ling, Wen, Zhongquan, Zhou, Yi, Wang, Changtao, Chen, Gang, Luo, Xiangang. Negative index metamaterial at ultraviolet range for subwavelength photolithography. NANOPHOTONICS[J]. 2022, 第 4 作者11(8): 1643-1651, http://apps.webofknowledge.com/CitedFullRecord.do?product=UA&colName=WOS&SID=5CCFccWmJJRAuMzNPjj&search_mode=CitedFullRecord&isickref=WOS:000789610800014.
[4] Kong, Weijie, Luo, Yunfei, Zhao, Chengwei, Liu, Ling, Gao, Ping, Pu, Mingbo, Wang, Changtao, Luo, Xiangang. Plasmonic Interference Lithography for Low-Cost Fabrication of Dense Lines with Sub-50 nm Half-Pitch. ACS APPLIED NANO MATERIALS[J]. 2019, 第 4 作者2(1): 489-496, 
[5] Huang, Yijia, Liu, Ling, Pu, Mingbo, Li, Xiong, Ma, Xiaoliang, Luo, Xiangang. A refractory metamaterial absorber for ultra-broadband, omnidirectional and polarization-independent absorption in the UV-NIR spectrum. NANOSCALE[J]. 2018, 第 2 作者10(17): 8298-8303, https://www.webofscience.com/wos/woscc/full-record/WOS:000432261400049.
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[9] Liu, Hongchao, Kong, Weijie, Liu, Kaipeng, Zhao, Chengwei, Du, Wenjuan, Wang, Changtao, Liu, Ling, Gao, Ping, Pu, Mingbo, Luo, Xiangang. Deep subwavelength interference lithography with tunable pattern period based on bulk plasmon polaritons. OPTICS EXPRESS[J]. 2017, 第 7 作者25(17): 20511-20521, http://ir.ioe.ac.cn/handle/181551/8871.
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[13] Yan, Kai, Liu, Ling, Yao, Na, Liu, Kaipeng, Du, Wenjuan, Zhang, Wei, Yan, Wei, Wang, Changtao, Luo, Xiangang. Far-Field Super-Resolution Imaging of Nano-transparent Objects by Hyperlens with Plasmonic Resonant Cavity. PLASMONICS[J]. 2016, 第 2 作者11(2): 475-481, http://ir.ioe.ac.cn/handle/181551/3857.
[14] Wang, Changtao, Gao, Ping, Zhao, Zeyu, Yao, Na, Wang, Yanqin, Liu, Ling, Liu, Kaipeng, Luo, Xiangang. Deep sub-wavelength imaging lithography by a reflective plasmonic slab. OPTICS EXPRESS[J]. 2013, 第 6 作者21(18): 20683-20691, http://ir.ioe.ac.cn/handle/181551/1198.
[15] Ren, Guowei, Lai, Zhian, Wang, Changtao, Feng, Qin, Liu, Ling, Liu, Kaipeng, Luo, Xiangang. Subwavelength focusing of light in the planar anisotropic metamaterials with zone plates. OPTICS EXPRESS[J]. 2010, 第 5 作者18(17): 18151-18157, http://ir.ioe.ac.cn/handle/181551/3349.
[16] Zeng, Beibei, Pan, Li, Liu, Ling, Fang, Liang, Wang, Changtao, Luo, Xiangang. Improved near field lithography by surface plasmon resonance in groove-patterned masks. JOURNAL OF OPTICS A-PURE AND APPLIED OPTICS[J]. 2009, 第 3 作者11(12): http://ir.ioe.ac.cn/handle/181551/3276.

   

（ 1 ） 波的衍射极限关键科学问题研究, 参与, 国家级, 2013-07--2018-07
（ 2 ） 超分辨光刻装备研制, 参与, 国家级, 2012-01--2018-12

现指导学生

王俊杰  硕士研究生  080402-测试计量技术及仪器