李思坤-中国科学院大学-UCAS

研究领域

研究员，博士生导师，中国科学院上海光机所高端光电装备技术支撑中心副主任，高端光电装备部党支部书记，中国科学院光电技术研究所客座研究员，吉林省超快与极紫外光学重点实验室学术委员会委员，长期从事半导体光学光刻与极紫外光刻技术研究，主持多项科技部国家科技重大专项“极大规模集成电路制造装备及成套工艺”、中国科学院、张江实验室、国家自然科学基金、上海市自然科学基金项目/课题/子课题，在Optics Letters、Optics Express、Journal of Micro/Nanolithography, Mems, and Moems等国内外光学/光刻领域SCI/EI全刊检索学术期刊,以及SPIE Advanced Lithography等权威国际会议上发表SCI/EI检索学术论文150余篇，获授权发明专利50余项，多项专利已转移至国内集成电路制造装备与软件生产企业，出版《半导体先进光刻理论与技术》译著，《光刻机像质检测技术》上下册、《集成电路与光刻机》，参编出版我国首部全工具链《EDA技术白皮书》，多次受邀作国内外邀请/特邀学术报告。牵头国内头部企事业单位完成OPC关键技术标准、掩模数据准备标准，获得EDA²“标准突出贡献奖”。是科技部、国家自然科学基金委、上海市科委、北京市科委、浙江省科技厅、河北省科技厅项目(含科技奖励项目、人才项目)评议专家，是浙江大学、复旦大学、华中科技大学、上海大学、四川大学、上海理工大学联聘研究生导师。课题组与德国FraunhoferIISB研究所国际知名光刻技术专家Andreas Erdmann教授长期合作。

1.光刻建模与仿真EDA：DUV光刻、EUV光刻、DSA光刻、接近式光刻、EBL，严格电磁场仿真技术

2.计算光刻EDA关键技术：OPC、SMO、ILT、SRAF、激光直写掩模刻写专用MDP、GDSII文件处理

3.EUV光刻掩模缺陷检测：基于计算成像的缺陷检测与空间像复检

4.光刻机投影物镜波像差检测：剪切干涉系统建模、基于成像的检测技术、深度学习技术应用

5.量检测设备专用软件技术：套刻测量、CD测量、缺陷检测

6.激光直写光刻

7.新型深紫外激光器关键技术与器件

招生信息

招生专业

080300-光学工程
070207-光学
080401-精密仪器及机械

招生方向

高端光刻机技术、光学检测与软件
光电检测技术（集成电路量检测）
计算光刻、计算成像

工作经历

工作简历

2021-12~现在, 中国科学院上海光学精密机械研究所, 研究员
2013-07~2021-11,中科院上海光学精密机械研究所, 副研究员
2011-07~2013-07,中科院上海光学精密机械研究所, 助理研究员

社会兼职

2024-06-30-2026-12-30,中国科学院光电技术研究所客座研究员, 客座研究员
2024-05-01-今,河北省科技厅项目评议人,
2023-06-17-2031-08-01,科技部XX评议人,
2021-12-31-2031-08-27,浙江省科技厅项目评议人,
2019-08-30-今,国际先进光刻技术研讨会（iWAPS)组委会委员）, 会议组委会委员
2018-12-31-今,上海市科委项目通信评议人,
2015-02-28-今,国家自然科学基金委项目通信评议人,