基本信息
李思坤  男  博导  中国科学院上海光学精密机械研究所
电子邮件: lisikun@siom.ac.cn
通信地址: 上海市嘉定区清河路390号
邮政编码: 201800

研究领域

高端光电装备部党总支书记,实验室副主任,长期从事半导体光学光刻与极紫外光刻技术研究,主持多项国家科技重大专项“极大规模集成电路制造装备及成套工艺”、张江实验室、国家自然科学基金、上海市自然科学基金项目/课题/子课题,在Optics Letters、Optics Express、Journal of Micro/Nanolithography, Mems, and Moems等国际内外光学/光刻领域SCI/EI全刊检索学术期刊,以及SPIE Advanced Lithography等权威国际会议上发表SCI/EI检索学术论文110余篇,获授权发明专利40余项,多项专利已转移至国内集成电路制造装备与软件生产企业,出版《半导体先进光刻理论与技术》译著,《光刻机像质检测技术》上下册、《集成电路与光刻机》,参编出版我国首部全工具链《EDA技术白皮书》,多次受邀作国内外邀请/特邀学术报告。是科技部、国家自然科学基金委、上海市科委、北京市科委、浙江省科技厅、河北省科技厅项目(含科技奖励项目、人才项目)评议人,是复旦大学、华中科技大学、上海大学、四川大学、上海理工大学联聘研究生导师。

1.光刻建模与仿真:DUV光刻、EUV光刻、DSA光刻、接近式光刻、EBL,严格电磁场仿真技术

2.计算光刻关键技术:OPC、SMO、ILT、SRAF、激光直写掩模刻写专用MDP、GDSII文件处理

3.EUV光刻掩模缺陷检测:基于计算成像的缺陷检测与空间像复检

4.光刻机投影物镜波像差检测:剪切干涉系统建模、基于成像的检测技术、深度学习技术应用

5.量检测设备专用软件技术:套刻测量、CD测量、缺陷检测

6.激光直写光刻

7.新型深紫外激光器关键技术与器件


招生信息

   
招生专业
080300-光学工程
070207-光学
080401-精密仪器及机械
招生方向
高端光刻机技术、光学检测与软件
光电检测技术(集成电路量检测)
计算光刻、计算成像

工作经历

   
工作简历
2021-12~现在, 中国科学院上海光学精密机械研究所, 研究员
2013-07~2021-11,中科院上海光学精密机械研究所, 副研究员
2011-07~2013-07,中科院上海光学精密机械研究所, 助理研究员
社会兼职
2024-05-01-今,河北省科技厅项目评议人,
2023-06-17-2031-08-01,科技部XX评议人,
2021-12-31-2031-08-27,浙江省科技厅项目评议人,
2019-08-30-今,国际先进光刻技术研讨会(iWAPS)组委会委员), 会议组委会委员
2018-12-31-今,上海市科委项目通信评议人,
2015-02-28-今,国家自然科学基金委项目通信评议人,

专利与奖励

   
专利成果
( 1 ) 极紫外光刻掩模衍射谱的快速仿真方法, 发明专利, 2022, 第 2 作者, 专利号: CN114139358A

( 2 ) 基于深度优先搜索的全芯片光源掩模优化关键图形筛选方法, 发明专利, 2021, 第 2 作者, 专利号: CN113741140A

( 3 ) 基于双采样率像素化掩模图形快速光学邻近效应修正方法, 发明专利, 2021, 第 2 作者, 专利号: CN111856872B

( 4 ) 基于亚分辨率辅助图形种子插入的曲线型逆向光刻方法, 发明专利, 2021, 第 2 作者, 专利号: CN113589644A

( 5 ) 基于调制区块叠加合成掩模图形的曲线型逆向光刻方法, 发明专利, 2021, 第 2 作者, 专利号: CN113589643A

( 6 ) 基于快速协方差矩阵自适应进化策略的曲线型逆向光刻方法, 发明专利, 2021, 第 2 作者, 专利号: CN113568278A

( 7 ) 基于BFGS拟牛顿-内点算法的光刻机匹配方法, 发明专利, 2021, 第 2 作者, 专利号: CN113189851A

( 8 ) 基于协方差矩阵自适应进化策略算法的光源掩模优化方法, 专利授权, 2021, 第 2 作者, 专利号: CN111781804B

( 9 ) 用于全芯片光源掩模优化的关键图形筛选方法, 专利授权, 2021, 第 1 作者, 专利号: CN111624850B

( 10 ) 基于轮廓表征的全芯片光源掩模优化关键图形筛选方法, 专利授权, 2021, 第 1 作者, 专利号: CN111399336B

( 11 ) 基于多宽度表征的全芯片光源掩模优化关键图形筛选方法, 专利授权, 2021, 第 2 作者, 专利号: CN111338179B

( 12 ) 极紫外光刻掩模阴影效应补偿方法, 专利授权, 2021, 第 2 作者, 专利号: CN111045289B

( 13 ) 基于协方差矩阵自适应演化策略的光刻机匹配方法, 发明专利, 2021, 第 1 作者, 专利号: CN112558426A

( 14 ) 极紫外光刻光源掩模优化方法, 发明专利, 2021, 第 2 作者, 专利号: CN112394615A

( 15 ) 基于多边形区域表征的全芯片光源掩模优化关键图形筛选方法, 发明专利, 2020, 第 2 作者, 专利号: CN111929983A

( 16 ) 基于双采样率像素化掩模图形的快速光学邻近效应修正方法, 发明专利, 2020, 第 2 作者, 专利号: CN111856872A

( 17 ) 一种用于全芯片光源掩模联合优化关键图形筛选的掩模图形频谱包络分割方法, 发明专利, 2020, 第 2 作者, 专利号: CN111415362A

( 18 ) 极紫外光刻掩模多层膜相位型缺陷底部形貌检测方法, 专利授权, 2019, 第 2 作者, 专利号: CN109031894B

( 19 ) 光刻机多参数联合优化方法, 专利授权, 2019, 第 1 作者, 专利号: CN110554580A

( 20 ) 光刻机匹配方法, 专利授权, 2019, 第 1 作者, 专利号: CN110320764A

( 21 ) 基于斜入射校正的极紫外光刻掩模衍射谱仿真方法, 专利授权, 2019, 第 2 作者, 专利号: CN110320763A

( 22 ) 极紫外光刻掩模多层膜相位型缺陷检测方法, 发明专利, 2019, 第 2 作者, 专利号: CN110297401A

( 23 ) 光刻投影物镜热像差的快速仿真方法, 专利授权, 2018, 第 2 作者, 专利号: CN108873615A

( 24 ) 光学条纹图背景光成分抑制方法, 发明专利, 2018, 第 1 作者, 专利号: CN105426898B

( 25 ) 光刻机照明系统的微反射镜阵列配置方法, 专利授权, 2018, 第 3 作者, 专利号: CN108227406A

( 26 ) 光刻机匹配方法, 专利授权, 2018, 第 2 作者, 专利号: CN108170006A

( 27 ) 基于多偏振照明的光刻投影物镜高阶波像差检测方法, 发明专利, 2018, 第 2 作者, 专利号: CN108020400A

( 28 ) 光刻投影物镜热像差在线预测方法, 发明专利, 2017, 第 2 作者, 专利号: CN107121893A

( 29 ) 极紫外光刻三维接触孔掩模衍射谱快速仿真方法, 发明专利, 2017, 第 2 作者, 专利号: CN106773546A

( 30 ) 光刻投影物镜高阶波像差检测标记和检测方法, 发明专利, 2016, 第 2 作者, 专利号: CN105629677A

( 31 ) 光刻机掩模的优化方法, 发明专利, 2016, 第 3 作者, 专利号: CN105573066A

( 32 ) 基于非下采样轮廓波变换的光学条纹图背景光成分抑制方法, 发明专利, 2016, 第 1 作者, 专利号: CN105426898A

( 33 ) 基于快速建模的大数值孔径光刻投影物镜波像差检测方法, 发明专利, 2016, 第 2 作者, 专利号: CN105372948A

( 34 ) 基于非下采样轮廓波变换的光学条纹图抑噪方法, 发明专利, 2016, 第 1 作者, 专利号: CN105279744A

( 35 ) 小波变换轮廓术抑噪方法, 发明专利, 2015, 第 2 作者, 专利号: CN105066905A

( 36 ) 极紫外光刻含相位型缺陷接触孔掩模衍射谱的快速仿真方法, 发明专利, 2015, 第 3 作者, 专利号: CN104880915A

( 37 ) 一种大数值孔径光刻机投影物镜波像差检测方法, 发明专利, 2015, 第 2 作者, 专利号: CN104777718A

( 38 ) 极紫外光刻掩模多层膜振幅型缺陷衍射谱的快速仿真方法, 发明专利, 2015, 第 3 作者, 专利号: CN104730867A

( 39 ) 一种用于光刻机的光源掩模优化方法, 发明专利, 2015, 第 2 作者, 专利号: CN104714372A

( 40 ) 一种光束准直性检测方法, 发明专利, 2015, 第 1 作者, 专利号: CN104406702A

( 41 ) 极紫外光刻含缺陷掩模衍射谱的快速严格仿真方法, 发明专利, 2014, 第 2 作者, 专利号: CN104238282A

( 42 ) 一种光刻机光源的优化方法, 发明专利, 2014, 第 3 作者, 专利号: CN104155852A

( 43 ) 基于GPU并行计算小波变换的光学条纹图相位提取方法, 发明专利, 2014, 第 2 作者, 专利号: CN103983212A

( 44 ) 光刻机投影物镜波像差检测标记和检测方法, 发明专利, 2014, 第 2 作者, 专利号: CN103955117A

( 45 ) 光刻机光源与掩模的联合优化方法, 发明专利, 2014, 第 2 作者, 专利号: CN103926802A

( 46 ) 光刻机照明光源的描述方法, 发明专利, 2014, 第 3 作者, 专利号: CN103926803A

( 47 ) 光刻物镜奇像差原位检测方法, 发明专利, 2014, 第 3 作者, 专利号: CN103744270A

( 48 ) 光刻投影物镜波像差和成像最佳焦面的检测方法, 发明专利, 2014, 第 1 作者, 专利号: CN103744269A

( 49 ) 并行计算光学条纹图相位提取方法, 发明专利, 2014, 第 2 作者, 专利号: CN103729251A

( 50 ) 极紫外光刻无缺陷掩模衍射谱快速严格仿真方法, 发明专利, 2014, 第 2 作者, 专利号: CN103617309A

( 51 ) 基于相位环空间像主成分分析的投影物镜波像差检测方法, 发明专利, 2013, 第 3 作者, 专利号: CN103217871A

( 52 ) 光刻机投影物镜偏振像差原位检测方法, 发明专利, 2013, 第 3 作者, 专利号: CN103197512A

( 53 ) 极紫外光刻厚掩模缺陷的快速仿真方法, 发明专利, 2013, 第 2 作者, 专利号: CN103197503A

( 54 ) 三维信息光学加密系统和方法, 发明专利, 2013, 第 1 作者, 专利号: CN103093492A

出版信息

   
发表论文
(1) 深紫外计算光刻技术研究, Study on Deep Ultraviolet Computational Lithography Techniques, 激光与光电子学进展, 2022, 第 3 作者
(2) 基于深度优先搜索的全芯片光源掩模优化关键图形筛选方法, Critical Pattern Selection Method for Full-Chip Source and Mask Optimization Based on Depth-First Search, 光学学报, 2022, 第 2 作者
(3) 芯片制造语境下的计算光刻技术, Computational Lithography Technology Under Chip Manufacture Context, 激光与光电子学进展, 2022, 第 5 作者
(4) Through-focus EUV multilayer defect compensation considering optical proximity correction, APPLIED OPTICS, 2022, 通讯作者
(5) 光源掩模联合优化技术研究, Research on Source and Mask Optimization, 激光与光电子学进展, 2022, 第 2 作者
(6) EUV光刻三维掩模成像研究进展, Research Progress on the Imaging of Three-Dimensional Mask for Extreme Ultraviolet Lithography, 激光与光电子学进展, 2022, 第 2 作者
(7) 偏振相移点衍射干涉波像差检测技术研究, 中国激光, 2022, 第 7 作者
(8) 极紫外光刻掩模缺陷检测与补偿技术研究, Research on Mask Defect Inspection and Compensation Techniques in Extreme Ultraviolet Lithography, 激光与光电子学进展, 2022, 第 2 作者
(9) Fast heuristic-based source mask optimization for EUV lithography using dual edge evolution and partial sampling, OPTICS EXPRESS, 2021, 通讯作者
(10) Unitary learning for diffractive deep neural network, OPTICS AND LASERS IN ENGINEERING, 2021, 通讯作者
(11) Design and analysis of bilayer metallic grating polarizer in deep ultraviolet band, ACTA PHYSICA SINICA, 2021, 第 5 作者
(12) 深紫外双层金属光栅偏振器的设计与分析, Design and analysis of bilayer metallic grating polarizer in deep ultraviolet band, 物理学报, 2021, 第 5 作者
(13) Source mask optimization for extreme-ultraviolet lithography based on thick mask model and social learning particle swarm optimization algorithm, OPTICS EXPRESS, 2021, 通讯作者
(14) Efficient optical proximity correction based on virtual edge and mask pixelation with two-phase sampling, OPTICS EXPRESS, 2021, 通讯作者
(15) Fast mask model for extreme ultraviolet lithography with a slanted absorber sidewall, APPLIED OPTICS, 2021, 通讯作者
(16) Extreme ultraviolet phase defect characterization based on complex amplitudes of the aerial images, APPLIED OPTICS, 2021, 通讯作者
(17) Source mask optimization using the covariance matrix adaptation evolution strategy, OPTICS EXPRESS, 2020, 通讯作者
(18) Fast rigorous mask model for extreme ultraviolet lithography, APPLIED OPTICS, 2020, 第 2 作者
(19) 极紫外光刻掩模相位型缺陷的形貌重建方法, Method for Profile Reconstruction of Phase Defects in Extreme Ultraviolet Lithography Mask, 光学学报, 2020, 第 2 作者
(20) Critical pattern selection method for full-chip source and mask optimization, OPTICS EXPRESS, 2020, 通讯作者
(21) Micromirror array allocation algorithm based on deconvolution, APPLIED OPTICS, 2020, 第 4 作者
(22) Large-scale structured light 3D shape measurement with reverse photography, OPTICS AND LASERS IN ENGINEERING, 2020, 第 3 作者
(23) 基于衍射谱分析的全芯片光源掩模联合优化关键图形筛选, Critical Pattern Selection Based on Diffraction Spectrum Analysis for Full-Chip Source Mask Optimization, 光学学报, 2020, 第 2 作者
(24) Predictor of thermal aberrations via particle filter for online compensation, JOURNAL OF MICRO-NANOLITHOGRAPHY MEMS AND MOEMS, 2019, 通讯作者
(25) Jones pupil metrology of lithographic projection lens and its optimal configuration in the presence of error sources, OPTICS EXPRESS, 2019, 通讯作者
(26) 穆勒矩阵成像椭偏仪误差源的简化分析方法, Simplified Analytical Method for Error Sources in Mueller Matrix Imaging Polarimeter, 光学学报, 2019, 第 2 作者
(27) High-order wavefront aberration measurement method for hyper-NA lithographic projection lens based on a binary target and rotated regression matrix, OPTICS COMMUNICATIONS, 2019, 通讯作者
(28) 光刻投影物镜的琼斯光瞳检测方法, Jones Pupil Measurement Method of Lithographic Projection Lens, 光学学报, 2019, 第 2 作者
(29) Optimization of defect compensation for extreme ultraviolet lithography mask by covariance-matrix-adaption evolution strategy (vol 17, 043505, 2018), JOURNAL OF MICRO-NANOLITHOGRAPHY MEMS AND MOEMS, 2019, 第 2 作者
(30) Fast optimization of defect compensation and optical proximity correction for extreme ultraviolet lithography mask, OPTICS COMMUNICATIONS, 2019, 通讯作者
(31) 基于差分空间像主成分分析的偏振像差检测方法, Polarization Aberration Measurement Method Based on Principal Component Analysis of Differential Aerial Images, 光学学报, 2019, 第 2 作者
(32) Fast thermal aberration model for lithographic projection lenses, OPTICS EXPRESS, 2019, 通讯作者
(33) Optical fringe-reflection deflectometry with sparse representation, OPTICS AND LASERS IN ENGINEERING, 2018, 第 2 作者
(34) Optical fringe-reflection deflectometry with bundle adjustment, OPTICS AND LASERS IN ENGINEERING, 2018, 第 2 作者
(35) Modeling and optimization of lens heating effect for lithographic projector, JOURNAL OF MICRO-NANOLITHOGRAPHY MEMS AND MOEMS, 2018, 通讯作者
(36) Nonlinear gamma correction via normed bicoherence minimization in optical fringe projection metrology, OPTICAL ENGINEERING, 2018, 通讯作者
(37) 基于改进型结构分解的极紫外光刻掩模衍射谱快速仿真方法, A Rapid Simulation Method for Diffraction Spectra of EUV Lithography Mask Based on Improved Structural Decomposition, 光学学报, 2018, 第 2 作者
(38) A Rapid Simulation Method for Diffraction Spectra of EUV Lithography Mask Based on Improved Structural Decomposition, ACTA OPTICA SINICA, 2018, 第 2 作者
(39) Towards gamma-effect elimination in phase measurement profilometry, OPTIK, 2018, 通讯作者
(40) 基于机器学习校正的极紫外光刻含缺陷掩模仿真方法, 3D Rigorous Simulation of Defective Masks used for EUV Lithography via Machine Learning-Based Calibration, 光学学报, 2018, 第 2 作者
(41) Optimization of defect compensation for extreme ultraviolet lithography mask by covariance-matrix-adaption evolution strategy, JOURNAL OF MICRO-NANOLITHOGRAPHY MEMS AND MOEMS, 2018, 通讯作者
(42) Optimal defocus selection based on normed Fourier transform for digital fringe pattern profilometry, APPLIED OPTICS, 2017, 第 3 作者
(43) 基于粒子群优化算法的光刻机光源掩模投影物镜联合优化方法, Source Mask Projector Optimization Method of Lithography Tools Based on Particle Swarm Optimization Algorithm, 光学学报, 2017, 第 2 作者
(44) 超高NA光刻投影物镜高阶波像差检测方法, High-Order Aberration Measurement Method for Hyper-NA Lithographic Projection Lens, 光学学报, 2017, 第 3 作者
(45) Optimal defocus selection based on normed Fourier transform for digital fringe pattern profilometry, APPL. OPTICS, 2017, 第 3 作者
(46) Pixelated source optimization for optical lithography via particle swarm optimization, JOURNAL OF MICRO-NANOLITHOGRAPHY MEMS AND MOEMS, 2016, 第 2 作者
(47) Wavefront aberration measurement method for a hyper-NA lithographic projection lens based on principal component analysis of an aerial image, APPL. OPTICS, 2016, 第 3 作者
(48) Source Mask Optimization Based on Dynamic Fitness Function, 光学学报, 2016, 第 2 作者
(49) Source Mask Optimization Based on Dynamic Fitness Function, 光学学报, 2016, 第 2 作者
(50) Pixelated Source Mask Optimization Based on Multi Chromosome Genetic Algorithm, 光学学报, 2016, 第 2 作者
(51) General analytical expressions for the impact of polarization aberration on lithographic imaging under linearly polarized illumination, JOPTSOCAMAOPTIMAGESCIVIS, 2016, 第 4 作者
(52) Nonsubsampled contourlet transform method for optical fringe pattern analysis in profilometry and interferometry, APPL. OPTICS, 2016, 第 1 作者
(53) Radial period extraction method employing frequency measurement for quantitative collimation testing, OPT. COMMUN., 2016, 第 1 作者
(54) Pixelated Source Mask Optimization Based on Multi Chromosome Genetic Algorithm, 光学学报, 2016, 第 2 作者
(55) 基于分离变量法的极紫外光刻三维掩模快速仿真方法, 第十六届全国光学测试学术交流会摘要集, 2016, 第 2 作者
(56) Nonsubsampled contourlet transform method for optical fringe pattern analysis in profilometry and interferometry, APPLIED OPTICS, 2016, 第 1 作者
(57) Pixelated source optimization for optical lithography via particle swarm optimization, J. MICRO-NANOLITHOGR. MEMS MOEMS, 2016, 第 2 作者
(58) General analytical expressions for the impact of polarization aberration on lithographic imaging under linearly polarized illumination, JOURNAL OF THE OPTICAL SOCIETY OF AMERICA A-OPTICS IMAGE SCIENCE AND VISION, 2016, 第 3 作者
(59) Wavefront aberration measurement method for a hyper-NA lithographic projection lens based on principal component analysis of an aerial image, APPLIED OPTICS, 2016, 第 3 作者
(60) Radial period extraction method employing frequency measurement for quantitative collimation testing, OPTICSCOMMUNICATIONS, 2016, 第 1 作者
(61) 投影物镜偏振像差对光刻成像质量影响的解析分析方法, 光学学报, 2015, 第 2 作者
(62) 极紫外光刻含缺陷掩模仿真模型及缺陷的补偿, 光学学报, 2015, 第 3 作者
(63) 基于等效膜层法的极紫外光刻含缺陷掩模多层膜仿真模型, 光学学报, 2015, 第 3 作者
(64) Optimal shift of pattern shifting for mitigation of mask defects in extreme ultraviolet lithography, JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY B, 2015, 第 2 作者
(65) 基于粒子群优化算法的光刻机光源优化方法, 光学学报, 2015, 第 2 作者
(66) Source Optimization using Particle Swarm Optimization Algorithm in Photolithography, OPTICAL MICROLITHOGRAPHY XXVIII, 2015, 第 2 作者
(67) In situ aberration measurement method using a phase-shift ring mask, JOURNAL OF MICRO-NANOLITHOGRAPHY MEMS AND MOEMS, 2015, 第 1 作者
(68) Analytical analysis for impact of polarization aberration of projection lens on lithographic imaging quality, OPTICAL MICROLITHOGRAPHY XXVIII, 2015, 第 2 作者
(69) Analytical analysis of the impact of polarization aberration of projection lens on lithographic imaging, JOURNAL OF MICRO-NANOLITHOGRAPHY MEMS AND MOEMS, 2015, 第 2 作者
(70) Wavefront reconstruction for lateral shearing interferometry based on difference polynomial fitting, JOURNAL OF OPTICS, 2015, 第 6 作者
(71) Fast model for mask spectrum simulation and analysis of mask shadowing effects in extreme ultraviolet lithography, JOURNAL OF MICRO-NANOLITHOGRAPHY MEMS AND MOEMS, 2014, 第 3 作者
(72) Aberration measurement technique based on an analytical linear model of a through-focus aerial image, OPTICS EXPRESS, 2014, 第 3 作者
(73) Aberration measurement based on principal component analysis of aerial images of optimized marks, OPTICS COMMUNICATIONS, 2014, 第 3 作者
(74) 基于随机并行梯度速降算法的光刻机光源与掩模联合优化方法, 光学学报, 2014, 第 2 作者
(75) 极紫外光刻含缺陷多层膜衍射谱仿真简化模型, 光学学报, 2014, 第 2 作者
(76) Efficient source mask optimization using multipole source representation, JOURNAL OF MICRO-NANOLITHOGRAPHY MEMS AND MOEMS, 2014, 第 2 作者
(77) 基于二次规划的光刻机光源优化方法, 光学学报, 2014, 第 2 作者
(78) Adaptive denoising method to improve aberration measurement performance, OPTICS COMMUNICATIONS, 2013, 第 3 作者
(79) Robust pixel-based source and mask optimization for inverse lithography, OPTICS AND LASER TECHNOLOGY, 2013, 第 1 作者
(80) High-order aberration measurement technique based on a quadratic Zernike model with optimized source, OPTICAL ENGINEERING, 2013, 第 3 作者
(81) Defect parameters retrieval based on optical projection images, MODELING ASPECTS IN OPTICAL METROLOGY IV, 2013, 第 2 作者
(82) Three-dimensional information security combined fringe projection with double random phase encoding, OPTICS COMMUNICATIONS, 2013, 第 1 作者
(83) Analytical approach to the impact of polarization aberration on lithographic imaging, OPTICS LETTERS, 2012, 第 3 作者
(84) Hilbert assisted wavelet transform method of optical fringe pattern phase reconstruction for optical profilometry and interferometry, OPTIK - INTERNATIONAL JOURNAL FOR LIGHT AND ELECTRON OPTICS, 2012, 第 1 作者
(85) Two-dimensional wavelet transform for reliability-guided phase unwrapping in optical fringe pattern analysis, APPLIED OPTICS, 2012, 第 1 作者
(86) A new wavelet transform for reliability-guided phase unwrapping of optical fringe patterns, OPTICS COMMUNICATIONS, 2011, 第 1 作者
发表著作
(1) 集成电路与光刻机, 科学出版社, 2020-08, 第 3 作者
(2) 光刻机像质检测技术, 科学出版社, 2021-03, 第 2 作者
(3) 半导体先进光刻理论与技术, 化学工业出版社, 2023-08, 第 1 作者

科研活动

   
科研项目
( 1 ) 提高小波变换条纹图像处理技术精度和速度的方法, 负责人, 国家任务, 2013-01--2015-12
( 2 ) 极紫外光刻掩模缺陷计算补偿方法, 参与, 国家任务, 2015-01--2018-12
( 3 ) EUVL三维厚掩模衍射成像建模与仿真研究, 负责人, 国家任务, 2012-01--2020-12
( 4 ) 基于空间像矢量分析的偏振像差在线检测与像质优化方法, 参与, 国家任务, 2013-04--2016-12
( 5 ) 光刻机光源与掩模联合优化理论与方法, 负责人, 境内委托项目, 2015-12--2016-12
( 6 ) 光刻过程中的透镜热效应仿真理论与方法, 负责人, 境内委托项目, 2015-12--2016-12
( 7 ) 面向10nm及更小节点集成电路制造的全芯片光刻多参数协同优化方法研究, 负责人, 地方任务, 2017-05--2020-04
( 8 ) 光刻工艺窗口优化与控制工程模型研发, 负责人, 国家任务, 2017-01--2023-12
( 9 ) DSAXXXX技术研究, 负责人, 国家任务, 2021-04--2023-03
( 10 ) RCWA模块研发, 负责人, 境内委托项目, 2021-08--2023-12
( 11 ) EUV光刻掩模缺陷检测与补偿技术的研究, 参与, 国家任务, 2023-01--2026-12
( 12 ) 基于部分相干理论的极紫外光刻相位型缺陷三维形貌检测技术研究, 负责人, 国家任务, 2024-01--2027-12
( 13 ) 基于空间像的光刻机投影物镜波像差检测理论与方法, 负责人, 其他, 2022-05--2024-05
( 14 ) XXXX激光微纳曝光, 参与, 国家任务, 2023-11--2026-11
参与会议
(1)光刻仿真技术及其应用   中国光学学会、电子学会光刻技术系列主题讲座   2024-03-29
(2)xxx   2022-08-07
(3)光刻仿真技术及其应用   第十六届全国激光技术与光电子学学术会议   2021-06-03
(4)光刻仿真技术及其在波像差检测中的应用   机器视觉与智能光电检测技术及应用研讨会   2021-05-20
(5)Computational lithography: modeling and performance enhancement techniques for lithographic imaging   International conference onoptical and photonic engimeering   2019-07-16
(6)Ptrfivyion of lens heating induced aberration via particle filter in optical lithography   SPIE Advanced Lithography 2018   2018-02-25
(7)The thermal aberration analysis of a lithography projection lens   SPIE Advanced Lithography 2017   2017-02-26
(8)Pixel-based mask optimization via particle swarm optimization algorithm for inverse lithography   SPIE Advanced Lithography 2016   2016-02-23
(9)Optimal shift of pattern shifting for mitigation of mask defects in extreme ultraviolet lithography   2015 international workshop on EUV Lithography   Sikun Li, Xiangzhao Wang, Xiaolei Liu, et al   2015-06-22
(10)Source Optimization using Particle Swarm Optimization Algorithm in Photolithography   SPIE Advanced Lithography   Lei Wang, Sikun Li, Xiangzhao Wang, Guanyong Yan, Chaoxing Yang    2015-02-22
(11)A defocus measurement method for an in situ aberration measurement method using a phase-shift ring mask   SPIE Advanced Lithography   Sikun Li, Xiangzhao Wang , JishuoYang, Feng Tang, Guanyong Yan, Andreas Erdmann   2014-02-23
(12)Source representation for SMO using genetic algorithm   10th Fraunhofer IISB Lithography Simulation Workshop   Xiangzhao Wang, Sikun Li, C. Yang, G. Yan   2013-09-26
(13)Research on in situ aberration measurement of lithographic projection lenses   11th Fraunhofer IISB Lithography Simulation Workshop   Xiangzhao Wang, Sikun Li, L. Duan, J. Yang, and G. Yan   2012-09-20

指导学生

已指导学生

张恒  博士研究生  080300-光学工程  

杨欣华  硕士研究生  080300-光学工程  

刘洋  博士研究生  080300-光学工程  

雷威  硕士研究生  080300-光学工程  

张子南  博士研究生  080300-光学工程  

廖陆峰  博士研究生  080300-光学工程  

陈国栋  博士研究生  080300-光学工程  

成维  博士研究生  080300-光学工程  

现指导学生

张涛  博士研究生  080300-光学工程  

刘宇洋  硕士研究生  080300-光学工程  

王浩岚  硕士研究生  080300-光学工程  

潘东超  博士研究生  080300-光学工程  

付迪宇  硕士研究生  080300-光学工程  

江一鹏  博士研究生  080300-光学工程  

研究生参加国际会议获奖照片


毕业生就业去向

光刻设备与软件、通信领域国内外头部企事业单位,包括:
  • 华为

  • 荷兰ASML公司

  • 美国KLA公司

  • 德国西门子Mentor Graphics

  • 上海微电子装备(集团)有限公司

  • 中芯国际

  • 东方晶源

  • 全芯智造

  • 科研院所与高校等