140100-集成电路科学与工程

极紫外光刻，极紫外光学测量

2009-09--2012-06   清华大学   硕士
2005-08--2009-07   清华大学   本科

   

2018-11~现在, 中国科学院微电子研究所, 工程师，高级工程师
2012-07~2018-10,中国科学院光电研究院, 助理工程师，工程师
2009-09~2012-06,清华大学, 硕士
2005-08~2009-07,清华大学, 本科

   

（ 1 ） 极紫外光刻机材料检测装置及测试方法, 2022, 第 5 作者, 专利号: CN113933454A

（ 2 ） 一种波带片及其制备方法, 2021, 第 4 作者, 专利号: CN113851248A

（ 3 ） 暗场成像检测系统, 2021, 第 4 作者, 专利号: CN113791076A

（ 4 ） 极紫外光刻机物料传递及污染控制系统、方法, 2021, 第 4 作者, 专利号: CN113311890A

（ 5 ） 动态气体锁的测试装置及应用其测试的方法, 2021, 第 3 作者, 专利号: CN113281463A

（ 6 ） 一种准分子激光器光学系统, 2021, 第 4 作者, 专利号: CN213278686U

（ 7 ） 一种极紫外光学元件性能参数测试系统, 2021, 第 1 作者, 专利号: CN110895192B

（ 8 ） 极紫外光学元件的微环境控制系统, 2021, 第 4 作者, 专利号: CN112255886A

（ 9 ） 载片系统及物料传递方法, 2021, 第 3 作者, 专利号: CN112198761A

（ 10 ） 动态气体隔离装置, 2020, 第 3 作者, 专利号: CN111965950A

（ 11 ） 一种痕量气体分析装置以及方法, 2020, 第 3 作者, 专利号: CN111896677A

（ 12 ） 高压气体采样试验装置及采样试验方法, 2020, 第 4 作者, 专利号: CN111665292A

（ 13 ） 一种低真空痕量气体的快速无损采样分析装置和方法, 2020, 第 4 作者, 专利号: CN111665103A

（ 14 ） 低真空气体的快速无损采样装置及采样方法, 2020, 第 4 作者, 专利号: CN111665102A

（ 15 ） 一种气体采样分析装置和方法, 2020, 第 4 作者, 专利号: CN111638263A

（ 16 ） 极紫外累积辐照损伤测试系统及方法, 2020, 第 1 作者, 专利号: CN111504889A

（ 17 ） 气体分压的在线测量装置, 2020, 第 6 作者, 专利号: CN210293526U

（ 18 ） 一种极紫外光刻胶放气污染测试系统, 2020, 第 1 作者, 专利号: CN110879198A

（ 19 ） 一种极紫外光辐照致材料氢脆性能的测试系统, 2020, 第 1 作者, 专利号: CN110879199A

（ 20 ） 气体分压的在线测量装置及其在线测量方法, 2019, 第 6 作者, 专利号: CN110376272A

（ 21 ） 成像方法及装置, 2019, 第 14 作者, 专利号: CN109900355A

（ 22 ） 关联成像方法及装置, 2019, 第 14 作者, 专利号: CN109900356A

（ 23 ） 成像方法及装置, 2019, 第 14 作者, 专利号: CN109900355A

（ 24 ） 一种基于随机光强涨落的成像方法和系统, 2019, 第 14 作者, 专利号: CN109752844A

（ 25 ） 在线测量能量的极紫外辐照损伤测试装置, 2017, 第 1 作者, 专利号: CN206114488U

（ 26 ） 一种可在线测量能量的极紫外辐照损伤测试系统, 2016, 第 1 作者, 专利号: CN106248564A

（ 27 ） 一种极紫外光源性能参数的测量系统, 2016, 第 1 作者, 专利号: CN205317449U

（ 28 ） 一种极紫外光源性能参数的测量系统, 2016, 第 1 作者, 专利号: CN105258925A

（ 29 ） 一种极紫外反射镜片的装调装置, 2015, 第 4 作者, 专利号: CN104597581A

（ 30 ） 一种极紫外反射镜片的四维装调装置, 2015, 第 4 作者, 专利号: CN104391367A

（ 31 ） 一种碎屑收集装置和包含该收集装置的EUV光源系统, 2014, 第 7 作者, 专利号: CN203645903U

（ 32 ） 一种碎屑收集装置和包括该装置的EUV光源系统, 2014, 第 2 作者, 专利号: CN203457399U

（ 33 ） 一种极紫外辐照损伤测试设备, 2014, 第 3 作者, 专利号: CN203414392U

（ 34 ） 一种使用电场降低碎屑的方法、装置和EUV光源系统, 2014, 第 7 作者, 专利号: CN103531263A

（ 35 ） 一种极紫外辐照材料测试系统, 2013, 第 3 作者, 专利号: CN103364401A

（ 36 ） 一种使用金属液滴帘降低碎屑的方法和装置, 2013, 第 2 作者, 专利号: CN103354694A

   

（1） 电镀件的真空放气特性研究, Vacuum Outgassing Characteristics of Electroplated Parts, 真空科学与技术学报, 2022, 第 4 作者
（2） Phase defect detection algorithm for extreme ultraviolet mask blank based on watershed edge detection, 2021 International Workshop on Advanced Patterning Solutions (IWAPS), 2022, 第 4 作者
（3） 对国家科技重大专项财务验收工作的思考, Thinking on the Financial Acceptance of National Science and Technology Major Projects, 科技和产业, 2021, 第 6 作者
（4） 不同基底材料对极紫外收集镜聚焦性能的影响, Effect of Different Substrate Materials on Focusing Beam Performance of EUV Collector, 激光与光电子学进展, 2020, 第 1 作者
（5） 极紫外光源参数对极紫外辐照损伤测试系统聚焦光束性能的影响, Effect of EUV Source Parameters on Focused Beam Performance of EUV Radiation-Damage-Test System, 中国激光, 2020, 第 1 作者
（6） 极紫外光刻动态气体锁抑制率的实验研究, Experimental Research on Suppression Ratio of Dynamic Gas Lock for Extreme Ultraviolet Lithography, 光学学报, 2017, 第 3 作者
（7） 极紫外光刻动态气体锁抑制率的仿真研究, Simulation Investigation on Suppression Ratio of Dynamic Gas Lock in Extreme Ultraviolet Lithography, 激光与光电子学进展, 2017, 第 3 作者
（8） 4-DOF mechanism design for reflectors in vacuum. Proceedings of the 3rd Annual International Conference on Mechanics and Mechanical Engineering, MME, 2016, 第 2 作者
（9） 极紫外光刻动态气体锁抑制率的理论研究, Theoretical Investigation on Suppression Ratio of Dynamic Gas Lock for Extreme Ultraviolet Lithography, 激光与光电子学进展, 2016, 第 3 作者

   

（ 1 ） EUV光源舱体诊断, 参与, 中国科学院计划, 2023-10--2027-07
（ 2 ） 计算光刻与图形优化, 参与, 国家任务, 2023-01--2025-12
（ 3 ） 表面颗粒检测与控制技术, 参与, 中国科学院计划, 2021-01--2023-12
（ 4 ） 基于在线计量技术的极紫外光致放气机理研究, 参与, 国家任务, 2020-01--2024-12
（ 5 ） 综合测试平台定制环境控制系统, 参与, 境内委托项目, 2018-01--2020-12
（ 6 ） EUV基础共性技术研究, 参与, 国家任务, 2012-01--2020-12
（ 7 ） EUVL动态真空与热环境技术研究, 参与, 国家任务, 2012-01--2020-12