基本信息
谢婉露  女  硕导  中国科学院微电子研究所
电子邮件: xiewanlu@ime.ac.cn
通信地址: 北京海淀区邓庄南路9号
邮政编码:

招生信息

   
招生专业
080300-光学工程
招生方向
极紫外光刻,极紫外光学测量

教育背景

2009-09--2012-06   清华大学   硕士
2005-08--2009-07   清华大学   本科

工作经历

   
工作简历
2018-11~现在, 中国科学院微电子研究所, 工程师,高级工程师
2012-07~2018-10,中国科学院光电研究院, 助理工程师,工程师
2009-09~2012-06,清华大学, 硕士
2005-08~2009-07,清华大学, 本科

专利与奖励

   
专利成果
( 1 ) 极紫外光刻机材料检测装置及测试方法, 2022, 第 5 作者, 专利号: CN113933454A

( 2 ) 一种波带片及其制备方法, 2021, 第 4 作者, 专利号: CN113851248A

( 3 ) 暗场成像检测系统, 2021, 第 4 作者, 专利号: CN113791076A

( 4 ) 极紫外光刻机物料传递及污染控制系统、方法, 2021, 第 4 作者, 专利号: CN113311890A

( 5 ) 动态气体锁的测试装置及应用其测试的方法, 2021, 第 3 作者, 专利号: CN113281463A

( 6 ) 一种准分子激光器光学系统, 2021, 第 4 作者, 专利号: CN213278686U

( 7 ) 一种极紫外光学元件性能参数测试系统, 2021, 第 1 作者, 专利号: CN110895192B

( 8 ) 极紫外光学元件的微环境控制系统, 2021, 第 4 作者, 专利号: CN112255886A

( 9 ) 载片系统及物料传递方法, 2021, 第 3 作者, 专利号: CN112198761A

( 10 ) 动态气体隔离装置, 2020, 第 3 作者, 专利号: CN111965950A

( 11 ) 一种痕量气体分析装置以及方法, 2020, 第 3 作者, 专利号: CN111896677A

( 12 ) 高压气体采样试验装置及采样试验方法, 2020, 第 4 作者, 专利号: CN111665292A

( 13 ) 一种低真空痕量气体的快速无损采样分析装置和方法, 2020, 第 4 作者, 专利号: CN111665103A

( 14 ) 低真空气体的快速无损采样装置及采样方法, 2020, 第 4 作者, 专利号: CN111665102A

( 15 ) 一种气体采样分析装置和方法, 2020, 第 4 作者, 专利号: CN111638263A

( 16 ) 极紫外累积辐照损伤测试系统及方法, 2020, 第 1 作者, 专利号: CN111504889A

( 17 ) 气体分压的在线测量装置, 2020, 第 6 作者, 专利号: CN210293526U

( 18 ) 一种极紫外光刻胶放气污染测试系统, 2020, 第 1 作者, 专利号: CN110879198A

( 19 ) 一种极紫外光辐照致材料氢脆性能的测试系统, 2020, 第 1 作者, 专利号: CN110879199A

( 20 ) 气体分压的在线测量装置及其在线测量方法, 2019, 第 6 作者, 专利号: CN110376272A

( 21 ) 成像方法及装置, 2019, 第 14 作者, 专利号: CN109900355A

( 22 ) 关联成像方法及装置, 2019, 第 14 作者, 专利号: CN109900356A

( 23 ) 成像方法及装置, 2019, 第 14 作者, 专利号: CN109900355A

( 24 ) 一种基于随机光强涨落的成像方法和系统, 2019, 第 14 作者, 专利号: CN109752844A

( 25 ) 在线测量能量的极紫外辐照损伤测试装置, 2017, 第 1 作者, 专利号: CN206114488U

( 26 ) 一种可在线测量能量的极紫外辐照损伤测试系统, 2016, 第 1 作者, 专利号: CN106248564A

( 27 ) 一种极紫外光源性能参数的测量系统, 2016, 第 1 作者, 专利号: CN205317449U

( 28 ) 一种极紫外光源性能参数的测量系统, 2016, 第 1 作者, 专利号: CN105258925A

( 29 ) 一种极紫外反射镜片的装调装置, 2015, 第 4 作者, 专利号: CN104597581A

( 30 ) 一种极紫外反射镜片的四维装调装置, 2015, 第 4 作者, 专利号: CN104391367A

( 31 ) 一种碎屑收集装置和包含该收集装置的EUV光源系统, 2014, 第 7 作者, 专利号: CN203645903U

( 32 ) 一种碎屑收集装置和包括该装置的EUV光源系统, 2014, 第 2 作者, 专利号: CN203457399U

( 33 ) 一种极紫外辐照损伤测试设备, 2014, 第 3 作者, 专利号: CN203414392U

( 34 ) 一种使用电场降低碎屑的方法、装置和EUV光源系统, 2014, 第 7 作者, 专利号: CN103531263A

( 35 ) 一种极紫外辐照材料测试系统, 2013, 第 3 作者, 专利号: CN103364401A

( 36 ) 一种使用金属液滴帘降低碎屑的方法和装置, 2013, 第 2 作者, 专利号: CN103354694A

出版信息

   
发表论文
(1) 电镀件的真空放气特性研究, Vacuum Outgassing Characteristics of Electroplated Parts, 真空科学与技术学报, 2022, 第 4 作者
(2) Phase defect detection algorithm for extreme ultraviolet mask blank based on watershed edge detection, 2021 International Workshop on Advanced Patterning Solutions (IWAPS), 2022, 第 4 作者
(3) 对国家科技重大专项财务验收工作的思考, Thinking on the Financial Acceptance of National Science and Technology Major Projects, 科技和产业, 2021, 第 6 作者
(4) 不同基底材料对极紫外收集镜聚焦性能的影响, Effect of Different Substrate Materials on Focusing Beam Performance of EUV Collector, 激光与光电子学进展, 2020, 第 1 作者
(5) 极紫外光源参数对极紫外辐照损伤测试系统聚焦光束性能的影响, Effect of EUV Source Parameters on Focused Beam Performance of EUV Radiation-Damage-Test System, 中国激光, 2020, 第 1 作者
(6) 极紫外光刻动态气体锁抑制率的实验研究, Experimental Research on Suppression Ratio of Dynamic Gas Lock for Extreme Ultraviolet Lithography, 光学学报, 2017, 第 3 作者
(7) 极紫外光刻动态气体锁抑制率的仿真研究, Simulation Investigation on Suppression Ratio of Dynamic Gas Lock in Extreme Ultraviolet Lithography, 激光与光电子学进展, 2017, 第 3 作者
(8) 4-DOF mechanism design for reflectors in vacuum. Proceedings of the 3rd Annual International Conference on Mechanics and Mechanical Engineering, MME, 2016, 第 2 作者
(9) 极紫外光刻动态气体锁抑制率的理论研究, Theoretical Investigation on Suppression Ratio of Dynamic Gas Lock for Extreme Ultraviolet Lithography, 激光与光电子学进展, 2016, 第 3 作者

科研活动

   
科研项目
( 1 ) EUV基础共性技术研究, 参与, 国家任务, 2012-01--2020-12
( 2 ) EUVL动态真空与热环境技术研究, 参与, 国家任务, 2012-01--2020-12
( 3 ) 综合测试平台定制环境控制系统, 参与, 境内委托项目, 2018-01--2020-12
( 4 ) 基于在线计量技术的极紫外光致放气机理研究, 参与, 国家任务, 2020-01--2024-12
( 5 ) 表面颗粒检测与控制技术, 参与, 中国科学院计划, 2021-01--2024-06