基本信息

张心强 男 硕导 中国科学院微电子研究所
电子邮件: zhangxinqiang@ime.ac.cn
通信地址: 北京市朝阳区北土城西路3号
邮政编码:
电子邮件: zhangxinqiang@ime.ac.cn
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研究领域
招生信息
招生专业
080903-微电子学与固体电子学080901-物理电子学
招生方向
薄膜生长与设备功能材料与器件真空测量技术及器件
教育背景
2008-08--2011-06 北京有色金属研究总院 研究生/博士2005-09--2008-04 北京航空航天大学 研究生/硕士2001-09--2005-07 青岛科技大学 本科/学士学位
工作经历
工作简历
2021-09~现在, 中国科学院微电子研究所, 正高级工程师2019-01~2021-09,川北真空科技(北京)有限公司, 研究院副院长/真空规研究中心负责人2018-07~2018-12,汉能控股集团, 高级经理2014-04~2018-06,北京阿普徕德新材料科技有限公司, 总经理2011-07~2014-04,北京有色金属研究总院, 研发室负责人
专利与奖励
专利成果
[1] 一种真空规. 2022-08-22.[2] 一种传感器用微小电流信号传输连接器. 2020-12-29.[3] 一种真空规的捕集装置. 2020-03-03.[4] 陶瓷电极及具有该陶瓷电极的薄膜传感器. 2020-03-03.[5] 一种具有防沉积结构的薄膜传感器. 2020-03-03.[6] 一种具有防沉积结构的薄膜传感器. 2020-03-03.[7] 一种真空规阻挡机构和真空规系统. 2024-05-20.[8] 一种抑制沉积管及压力检测装置. 2022-06-22.[9] 压电式绝压真空计. 2024-03-19.[10] 一种薄膜式真空规用抑制沉积导流模块及薄膜式真空规. 2024-03-05.[11] 一种抑制沉积结构件及真空规. 2022-12-28.[12] 刘瑞琪, 李超波, 王迪, 林琳, 郜晨希, 郑旭, 远雁, 张心强, 靳毅, 陈林. 散热结构及电容压力传感器. CN: CN111174966A, 2020-05-19.[13] 王迪, 陈林, 林琳, 郜晨希, 刘瑞琪, 远雁, 郑旭, 李超波, 张心强, 靳毅. 真空压力计响应时间测量装置. CN: CN111044218A, 2020-04-21.[14] 郑旭, 林琳, 远雁, 张心强, 王迪, 郜晨希, 刘瑞琪, 靳毅, 陈林, 李超波. 电容式压力检测装置及传感器. CN: CN111122020A, 2020-05-08.[15] 王迪, 陈林, 林琳, 靳毅, 郜晨希, 刘瑞琪, 远雁, 郑旭, 李超波, 张心强. 一种检测膜片式真空压力计沉积物的装置及其应用. CN: CN111141813A, 2020-05-12.[16] 郑旭, 林琳, 远雁, 张心强, 王迪, 郜晨希, 刘瑞琪, 靳毅, 陈林, 李超波. 差分电容式压力检测装置. CN: CN111141424A, 2020-05-12.[17] 王迪, 陈林, 林琳, 郜晨希, 刘瑞琪, 远雁, 郑旭, 李超波, 张心强, 靳毅. 真空压力计响应时间测量装置及方法. CN: CN111044219A, 2020-04-21.[18] 林琳, 李超波, 郑旭, 张心强, 郜晨希, 王迪, 刘瑞琪, 靳毅, 陈林, 远雁. 环形支撑结构及应用其的陶瓷电容式压力传感器. CN: CN110987281A, 2020-04-10.[19] 郜晨希, 林琳, 张心强, 王迪, 刘瑞琪, 郑旭, 远雁, 李超波, 靳毅, 陈林. 一种防沉积匀气环. CN: CN110987282A, 2020-04-10.[20] 张心强, 靳毅, 齐英, 蔺宇, 陈林. 一种薄膜真空计. CN: CN210603717U, 2020-05-22.[21] 张心强, 靳毅, 陈林, 郜晨希, 王迪, 林琳, 郑旭, 远雁, 刘瑞琪, 李超波. 压差探测集成块. CN: CN210464772U, 2020-05-05.[22] 张心强, 靳毅, 陈林, 郜晨希, 王迪, 林琳, 郑旭, 远雁, 刘瑞琪, 李超波. 压差探测集成块及其制造方法. CN: CN110567636A, 2019-12-13.[23] 张心强, 靳毅, 陈林, 郜晨希, 王迪, 林琳, 郑旭, 远雁, 刘瑞琪, 李超波. 导气垫圈及其制造方法. CN: CN110411613A, 2019-11-05.[24] 张心强, 靳毅, 陈林, 郜晨希, 王迪, 林琳, 郑旭, 远雁, 刘瑞琪, 李超波. 导气垫圈. CN: CN210322097U, 2020-04-14.
出版信息
发表论文
(1) Epitaxial growth and electrical properties of ultrathin La2Hf2O7 high-k gate dielectric films, APPLIED SURFACE SCIENCE, 2013, 第 5 作者(2) Epitaxial growth and characterization of Gd2O3-doped HfO2 film on Ge (001) substrates with zero interface layer, JOURNAL OF RARE EARTHS, 2013, 第 1 作者(3) Ni/Zr—Co—Re堆栈层薄膜吸气剂的吸气性能及Ni作用机理研究, Gas absorption property and mechanism of Ni of the stack Ni/Zr-Co-Re getter film, 功能材料, 2013, 第 3 作者(4) ZrCoRE薄膜的结构调控与吸气性能研究, Structure Modification and Sorption Characteristics of ZrCoRE Getter Films, RARE METAL MATERIALS AND ENGINEERING, 2013, 第 4 作者(5) Epitaxial growth and electrical properties of ultrathin La2Hf2O7 high-k gate dielectric films, APPLIED SURFACE SCIENCE, 2013, 第 5 作者(6) Epitaxial growth and characterization of Gd2O3-doped HfO2 film on Ge (001) substrates with zero interface layer, JOURNAL OF RARE EARTHS, 2013, 第 1 作者(7) Ni/Zr—Co—Re堆栈层薄膜吸气剂的吸气性能及Ni作用机理研究, Gas absorption property and mechanism of Ni of the stack Ni/Zr-Co-Re getter film, 功能材料, 2013, 第 3 作者(8) ZrCoRE薄膜的结构调控与吸气性能研究, Structure Modification and Sorption Characteristics of ZrCoRE Getter Films, RARE METAL MATERIALS AND ENGINEERING, 2013, 第 4 作者(9) Gd_2O_3-HfO_2栅介质薄膜的外延制备及Ge-MOS电学特性分析, Fabrication and Electronic Characterization of Epitaxial Gd_2O_3-Doped HfO_2 Dielectrics on Ge Substrates, 稀有金属, 2012, 第 1 作者(10) Atomic configuration of the interface between epitaxial Gd doped HfO2 high k thin films and Ge (001) substrates, JOURNALOFAPPLIEDPHYSICS, 2012, 第 1 作者(11) Gd_2O_3-HfO_2栅介质薄膜的外延制备及Ge-MOS电学特性分析, Fabrication and Electronic Characterization of Epitaxial Gd_2O_3-Doped HfO_2 Dielectrics on Ge Substrates, 稀有金属, 2012, 第 1 作者(12) Atomic configuration of the interface between epitaxial Gd doped HfO2 high k thin films and Ge (001) substrates, JOURNALOFAPPLIEDPHYSICS, 2012, 第 1 作者(13) Band structure and electronic characteristics of cubic La2O3 gate dielectrics epitaxially grown on InP substrates, APPLIED PHYSICS LETTERS, 2011, 第 1 作者(14) Fabrication and properties of Gd2O3-doped HfO2 high k film by Co-sputtering, RARE METALS, 2011, 第 2 作者(15) Effects of rapid thermal annealing on structure and electrical properties of Gd-doped HfO2 high k film, APPLIED PHYSICS LETTERS, 2011, 第 4 作者(16) Band structure and electronic characteristics of cubic La2O3 gate dielectrics epitaxially grown on InP substrates, APPLIED PHYSICS LETTERS, 2011, 第 1 作者(17) Fabrication and properties of Gd2O3-doped HfO2 high k film by Co-sputtering, RARE METALS, 2011, 第 2 作者(18) Effects of rapid thermal annealing on structure and electrical properties of Gd-doped HfO2 high k film, APPLIED PHYSICS LETTERS, 2011, 第 4 作者(19) Hetero-epitaxial growth of the cubic single crystalline HfO 2 film as high k materials by pulsed laser ablation, JOURNAL OF CRYSTAL GROWTH, 2010, 第 1 作者(20) Hetero-epitaxial growth of the cubic single crystalline HfO 2 film as high k materials by pulsed laser ablation, JOURNAL OF CRYSTAL GROWTH, 2010, 第 1 作者(21) 纳米硅薄膜制备及HIT太阳能电池, - Preparation of nc-Si : H film and HIT solar cell, 功能材料, 2007, 第 1 作者(22) 纳米硅薄膜制备及HIT太阳能电池, - Preparation of nc-Si : H film and HIT solar cell, 功能材料, 2007, 第 1 作者
科研活动
科研项目
( 1 ) 大尺寸超高真空分子束外延技术与装备, 负责人, 国家任务, 2022-12--2025-12( 2 ) 叠层微储能器件研究, 负责人, 国家任务, 2022-07--2024-06( 3 ) 电容式真空规的研发及产业化, 负责人, 国家任务, 2022-12--2024-11( 4 ) 10torr大量程高温高精度薄膜真空规, 负责人, 国家任务, 2023-06--2025-06