基本信息
王丽萍  女  博导  中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
电子邮件: wlp8121@126.com
通信地址: 长春市东南湖大路3888号
邮政编码:

招生信息

   
招生专业
080300-光学工程
招生方向
光学设计

教育背景

2004-09--2009-06   中国科学院长春光学精密机械与物理研究所   硕博连读 理学博士
2000-09--2004-06   长春理工大学   工学学士

工作经历

   
工作简历
2009-07~现在, 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所, 博士学位
2004-09~2009-06,中国科学院长春光学精密机械与物理研究所, 硕博连读 理学博士
2000-09~2004-06,长春理工大学, 工学学士

专利与奖励

   
专利成果
( 1 ) 一种六自由度调整转台的控制方法, 2021, 第 4 作者, 专利号: CN110968118B

( 2 ) 一种光学系统薄膜分析方法、设备及存储介质, 2021, 第 2 作者, 专利号: CN110703564B

( 3 ) 一种多自由度位移平台控制解耦方法及装置, 2020, 第 4 作者, 专利号: CN111077774A

( 4 ) 一种复杂机电系统的辨识控制方法和系统, 2020, 第 4 作者, 专利号: CN110989357A

( 5 ) 双层金属波导耦合表面等离子体共振芯片及其制备方法, 2020, 第 3 作者, 专利号: CN110879224A

( 6 ) 一种控制系统及设计方法, 2020, 第 4 作者, 专利号: CN110879532A

( 7 ) 一种六自由度运动平台的控制系统, 2019, 第 3 作者, 专利号: CN110501958A

( 8 ) 相移干涉成像-定向发射表面增强拉曼光谱仪, 2019, 第 3 作者, 专利号: CN110455774A

( 9 ) 一种磁悬浮支撑装置, 2019, 第 3 作者, 专利号: CN110376707A

( 10 ) 一种用于支撑光学元件的装置, 2019, 第 5 作者, 专利号: CN107907958B

( 11 ) 一种用于极紫外光刻的掩模结构及其制备方法, 2019, 第 2 作者, 专利号: CN106249538B

( 12 ) 一种独立支撑单元以及光学元件支撑装置, 2019, 第 5 作者, 专利号: CN106556911B

( 13 ) 一种物像面定位系统以及定位方法, 2018, 第 5 作者, 专利号: CN106569397B

( 14 ) 用于超高精度凹非球面检测的补偿器光学系统, 2018, 第 1 作者, 专利号: CN105445931B

( 15 ) 一种离轴非球面元件的面形误差的测量方法, 2018, 第 4 作者, 专利号: CN108195309A

( 16 ) 一种同步检测装置, 2018, 第 4 作者, 专利号: CN108037107A

( 17 ) 检测平台姿态变化的方法, 2018, 第 6 作者, 专利号: CN105444722B

( 18 ) 可实现光学元件主动面形控制的支撑装置, 2018, 第 5 作者, 专利号: CN105403154B

( 19 ) 一种用于光学元件检测的可调支撑装置, 2018, 第 5 作者, 专利号: CN107702677A

( 20 ) 有限距成像系统垂轴放大率的测量方法, 2018, 第 3 作者, 专利号: CN105388000B

( 21 ) 微缩投影系统波像差检测过程中的视场点定位方法, 2017, 第 3 作者, 专利号: CN105589305B

( 22 ) 五自由度调整装置, 2017, 第 4 作者, 专利号: CN105572830B

( 23 ) 一种基于遗传算法的光刻衰减型掩模的优化方法, 2017, 第 1 作者, 专利号: CN105069194B

( 24 ) 用于光学元件支撑的调整机构, 2017, 第 5 作者, 专利号: CN105445887B

( 25 ) 一种用于高精度光学元件的多点柔性支撑装置, 2017, 第 5 作者, 专利号: CN105467544B

( 26 ) 用于极紫外光刻装置中的锆膜置换机构, 2017, 第 5 作者, 专利号: CN105573065B

( 27 ) 并联机器人工作空间的求解方法, 2017, 第 2 作者, 专利号: CN106777702A

( 28 ) 用于EUV光刻的变形镜及其制备方法, 2017, 第 1 作者, 专利号: CN106646856A

( 29 ) 一种折反射光学系统及折反射光学成像方法, 2017, 第 1 作者, 专利号: CN106597653A

( 30 ) Nd:YAG晶体及其表面抛光方法, 2017, 第 2 作者, 专利号: CN106531627A

( 31 ) 一种透镜以及线光源系统, 2017, 第 1 作者, 专利号: CN106444051A

( 32 ) 一种微缩投影系统波像差检测系统及波像差检测方法, 2017, 第 3 作者, 专利号: CN106338379A

( 33 ) 一种用于测试气体对极紫外光吸收率的测试装置及方法, 2017, 第 3 作者, 专利号: CN106338471A

( 34 ) 一种基于柔性片体和球面轴承的可升降倾斜调整装置, 2016, 第 6 作者, 专利号: CN105600704A

( 35 ) 一种柔性六自由度并联精密调整装置运动控制方法, 2016, 第 2 作者, 专利号: CN105508823A

( 36 ) 光刻系统中照明均匀性测量方法, 2016, 第 1 作者, 专利号: CN105446086A

( 37 ) 一种用于弹性发射加工的工具轮, 2016, 第 3 作者, 专利号: CN105563271A

( 38 ) 用于超高精度凸非球面检测的补偿器光学系统, 2016, 第 1 作者, 专利号: CN105572864A

( 39 ) 一种用于真空环境下的光学元件水冷装置, 2016, 第 5 作者, 专利号: CN105552695A

( 40 ) 一种用于真空环境下的光学元件热应力评估系统, 2016, 第 5 作者, 专利号: CN105466354A

( 41 ) 一种具有面形调整功能的光学元件支撑装置, 2016, 第 5 作者, 专利号: CN105467545A

( 42 ) 用于高NA极紫外光刻物镜的掩模结构, 2016, 第 2 作者, 专利号: CN105446071A

( 43 ) 一种可以实现主动面形调整的多点柔性支撑装置, 2016, 第 5 作者, 专利号: CN105425389A

( 44 ) 一种用于高精度光学元件面形检测的柔性支撑装置, 2016, 第 5 作者, 专利号: CN105423989A

( 45 ) 一种曝光系统中曝光剂量的监控方法、曝光方法及其曝光系统, 2016, 第 2 作者, 专利号: CN105404100A

( 46 ) 一种用于镜体检测的吸附夹具, 2016, 第 6 作者, 专利号: CN105372777A

( 47 ) 元器件真空兼容性评估实验平台, 2015, 第 4 作者, 专利号: CN104635090A

( 48 ) 一种用于大数值孔径的极紫外光刻掩模结构, 2015, 第 2 作者, 专利号: CN104298068A

( 49 ) 一种基于柔性片体的六自由度并联精密调整装置, 2015, 第 2 作者, 专利号: CN104793646A

( 50 ) 一种用于极紫外光刻的类临界照明系统, 2015, 第 2 作者, 专利号: CN104483816A

( 51 ) 极紫外光刻系统中与杂散光有关的镜面加工误差分析方法, 2015, 第 2 作者, 专利号: CN104317168A

( 52 ) 一种基于光学元件面形的计算机辅助装调模型的建立方法, 2014, 第 2 作者, 专利号: CN103984808A

( 53 ) 高复现性光学元件面形检测支撑装置, 2014, 第 5 作者, 专利号: CN103968796A

( 54 ) 一种基于光学系统失调量解算的光机结构稳定性评估方法, 2014, 第 2 作者, 专利号: CN103969034A

( 55 ) 一种基于能量守恒定律的光学系统分析设计方法, 2013, 第 2 作者, 专利号: CN103226241A

( 56 ) 一种用于高精度面形检测的光学元件支撑装置, 2012, 第 3 作者, 专利号: CN102506752A

( 57 ) 一种用于EUV光刻系统的复眼反射镜制作方法, 2012, 第 5 作者, 专利号: CN102385082A

( 58 ) 一种高精度光学元件的装配装置及无应力装配方法, 2012, 第 4 作者, 专利号: CN102368113A

( 59 ) 可见光点衍射干涉仪中参考球面波偏差检测装置及方法, 2011, 第 3 作者, 专利号: CN102297725A

( 60 ) 光学系统波像差检测装置, 2011, 第 2 作者, 专利号: CN102289152A

( 61 ) 光学系统波像差标定装置及该装置测试误差的标定方法, 2011, 第 2 作者, 专利号: CN102261985A

( 62 ) 双谱段电晕探测折反射全景光学系统, 2010, 第 2 作者, 专利号: CN101710208

出版信息

   
发表论文
(1) Method to construct the initial structure of optical systems based on full-field aberration correction, Applied Optics, 2023, 第 11 作者
(2) 变步长搜索的计算全息图编码方法, CGH encoding with variable step size search, 中国光学, 2021, 第 6 作者
(3) Design method for an off-axis reflective anamorphic optical system with aberration balance and constraint control, APPLIED OPTICS, 2021, 第 2 作者
(4) Design of off-axis multi-reflective optical system based on particle swarm optimization, CHINESEOPTICS, 2021, 第 11 作者
(5) Long-Range Surface Plasmon Resonance Configuration for Enhancing SERS with an Adjustable Refractive Index Sample Buffer to Maintain the Symmetry Condition, ACS OMEGA, 2020, 第 11 作者
(6) Design method for off-axis aspheric reflective optical system with extremely low aberration and large field of view, APPLIED OPTICS, 2020, 第 11 作者
(7) 基于神经网络的机器人抛光材料去除提升模型, An improved material removal model for robot polishing based on neural networks, 红外与激光工程, 2019, 第 5 作者
(8) Adjustable flexure mount to compensate for deformation of an optic surface, APPLIED OPTICS, 2019, 第 3 作者
(9) Method for designing error-resistant phase-shifting algorithm, OPTICS COMMUNICATIONS, 2019, 第 6 作者
(10) 基于神经网络的机器人抛光材料去除提升模型, An improved material removal model for robot polishing based on neural networks, 红外与激光工程, 2019, 第 5 作者
(11) Influence of motion modes on surface quality in CCOS, OPTICAL PRECISION MANUFACTURING, TESTING, AND APPLICATIONS, 2018, 第 8 作者
(12) 一种光机系统结构稳定性评估方法, Stability Evaluation of Opto-Mechanical Systems, 激光与光电子学进展, 2016, 第 4 作者
(13) 微缩投影系统的垂轴放大率测量, Measurement of transversal magnification for reduced projection system, 光学精密工程, 2016, 第 2 作者
(14) 极紫外光刻物镜分组可视化界面设计优化, 光学学报, 2015, 第 2 作者
(15) 基于面形检测的光学元件多层膜均匀性测量, 中国激光, 2015, 第 7 作者
(16) 光纤相移点衍射干涉仪关键技术, Key technology for fiber phase-shifting point diffraction interferometer, 红外与激光工程, 2015, 第 4 作者
(17) 光纤点衍射干涉仪中球面参考源偏振控制系统的设计, 光学学报, 2014, 第 3 作者
(18) 微缩投影系统的计算机辅助装调, Computer-aided alignment for reduced projection systems, 光学精密工程, 2014, 第 3 作者
(19) 极紫外光刻投影物镜中多层膜分析模型的建立及应用, 光学学报, 2014, 第 3 作者
(20) A model for multilayer analysis in a coated extreme ultra-violet lithography projection system, OPTICS COMMUNICATIONS, 2014, 第 3 作者
(21) A model for multilayers analysis in a coated extreme ultraviolet lithography projection system, Optics Communications, 2014, 第 1 作者
(22) 双光纤相移点衍射干涉仪装调技术, 红外与激光工程, 2014, 第 4 作者
(23) 高精度光学元件支撑装置面形复现性分析与测量, Analysis and Metrology of Reproducibility of High-Precision Optic Mount, 中国激光, 2013, 第 3 作者
(24) 可见光移相点衍射干涉仪的空气扰动误差分析, Analysis of air turbulence errors for visible light phase shifting point diffraction interferometer, 红外与激光工程, 2012, 第 4 作者
(25) 干涉测量框架结构设计及稳定性分析, 中国激光, 2012, 第 3 作者
(26) 点衍射干涉仪波前参考源标定算法的研究, Study of Calibrating Algorithm for Wavefront Reference Source of Point Diffraction Interferometer, 中国激光, 2012, 第 4 作者
(27) 可见光移相点衍射干涉仪的测试误差分析, Analysis of measuring errors for the visible light phase shifting point diffraction interferometer, 红外与激光工程, 2012, 第 4 作者
(28) 高复现性面形检测支撑装置研制, 中国激光, 2012, 第 4 作者
(29) 极紫外光刻物镜系统波像差检测技术研究, Measuring technology for wavefront aberration of EUVL objective system, 红外与激光工程, 2012, 第 4 作者
(30) 用于极紫外光刻非球面光学元件检测的补偿器检测系统, 中国激光, 2012, 第 1 作者
(31) 极紫外光刻离轴照明技术研究, 光学学报, 2012, 第 3 作者
(32) “日盲”紫外折反射全景光学系统设计, Design of catadioptric omnidirectional imaging system in solar blind UV, 光学精密工程, 2011, 第 1 作者
(33) 极紫外三维小孔矢量衍射波面质量分析, Wave-Front Quality Analysis of Three-Dimension Pinhole Vector Diffractional in Extreme Ultraviolet Region, 光学学报, 2010, 第 4 作者
(34) 双谱段全景电晕探测光学系统, Optical Design for Dual Spectral Panoramic Imaging System Applied in Corona Detector, 光子学报, 2010, 第 1 作者
(35) 极紫外投影光刻光学系统, Optical system of extreme ultraviolet lithography, 中国光学与应用光学, 2010, 第 1 作者

科研活动

   
科研项目
( 1 ) 复杂光学系统设计及物理建模研究, 负责人, 境内委托项目, 2022-01--2026-12
( 2 ) 六镜极紫外光刻投影物镜研发与验证, 参与, 国家任务, 2018-01--2021-09
( 3 ) 极紫外光刻机核心子系统关键技术攻关 与验证, 参与, 国家任务, 2018-01--2021-09
( 4 ) 中国科学院青年创新促进会, 负责人, 中国科学院计划, 2015-01--2018-12
( 5 ) EUVL物镜离轴非球面面形检测装置研发, 负责人, 国家任务, 2012-01--2020-07
( 6 ) 极紫外光刻原理试验装置曝光光学系统研制, 负责人, 国家任务, 2009-01--2017-06
参与会议
(1)极紫外光刻技术及挑战   极紫外光刻技术研讨会   2018-12-14