基本信息
王丽萍  女  博导  中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
电子邮件: wlp8121@126.com
通信地址: 长春市东南湖大路3888号
邮政编码:

招生信息

   
招生专业
080300-光学工程
招生方向
光学设计

教育背景

2004-09--2009-06   中国科学院长春光学精密机械与物理研究所   硕博连读 理学博士
2000-09--2004-06   长春理工大学   工学学士

工作经历

   
工作简历
2009-07~现在, 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所, 博士学位
2004-09~2009-06,中国科学院长春光学精密机械与物理研究所, 硕博连读 理学博士
2000-09~2004-06,长春理工大学, 工学学士

专利与奖励

   
专利成果
( 1 ) 一种六自由度调整转台的控制方法, 2021, 第 4 作者, 专利号: CN110968118B

( 2 ) 一种光学系统薄膜分析方法、设备及存储介质, 2021, 第 2 作者, 专利号: CN110703564B

( 3 ) 一种多自由度位移平台控制解耦方法及装置, 2020, 第 4 作者, 专利号: CN111077774A

( 4 ) 一种复杂机电系统的辨识控制方法和系统, 2020, 第 4 作者, 专利号: CN110989357A

( 5 ) 双层金属波导耦合表面等离子体共振芯片及其制备方法, 2020, 第 3 作者, 专利号: CN110879224A

( 6 ) 一种控制系统及设计方法, 2020, 第 4 作者, 专利号: CN110879532A

( 7 ) 一种六自由度运动平台的控制系统, 2019, 第 3 作者, 专利号: CN110501958A

( 8 ) 相移干涉成像-定向发射表面增强拉曼光谱仪, 2019, 第 3 作者, 专利号: CN110455774A

( 9 ) 一种磁悬浮支撑装置, 2019, 第 3 作者, 专利号: CN110376707A

( 10 ) 一种用于支撑光学元件的装置, 2019, 第 5 作者, 专利号: CN107907958B

( 11 ) 一种用于极紫外光刻的掩模结构及其制备方法, 2019, 第 2 作者, 专利号: CN106249538B

( 12 ) 一种独立支撑单元以及光学元件支撑装置, 2019, 第 5 作者, 专利号: CN106556911B

( 13 ) 一种物像面定位系统以及定位方法, 2018, 第 5 作者, 专利号: CN106569397B

( 14 ) 用于超高精度凹非球面检测的补偿器光学系统, 2018, 第 1 作者, 专利号: CN105445931B

( 15 ) 一种离轴非球面元件的面形误差的测量方法, 2018, 第 4 作者, 专利号: CN108195309A

( 16 ) 一种同步检测装置, 2018, 第 4 作者, 专利号: CN108037107A

( 17 ) 检测平台姿态变化的方法, 2018, 第 6 作者, 专利号: CN105444722B

( 18 ) 可实现光学元件主动面形控制的支撑装置, 2018, 第 5 作者, 专利号: CN105403154B

( 19 ) 一种用于光学元件检测的可调支撑装置, 2018, 第 5 作者, 专利号: CN107702677A

( 20 ) 有限距成像系统垂轴放大率的测量方法, 2018, 第 3 作者, 专利号: CN105388000B

( 21 ) 微缩投影系统波像差检测过程中的视场点定位方法, 2017, 第 3 作者, 专利号: CN105589305B

( 22 ) 五自由度调整装置, 2017, 第 4 作者, 专利号: CN105572830B

( 23 ) 一种基于遗传算法的光刻衰减型掩模的优化方法, 2017, 第 1 作者, 专利号: CN105069194B

( 24 ) 用于光学元件支撑的调整机构, 2017, 第 5 作者, 专利号: CN105445887B

( 25 ) 一种用于高精度光学元件的多点柔性支撑装置, 2017, 第 5 作者, 专利号: CN105467544B

( 26 ) 用于极紫外光刻装置中的锆膜置换机构, 2017, 第 5 作者, 专利号: CN105573065B

( 27 ) 并联机器人工作空间的求解方法, 2017, 第 2 作者, 专利号: CN106777702A

( 28 ) 用于EUV光刻的变形镜及其制备方法, 2017, 第 1 作者, 专利号: CN106646856A

( 29 ) 一种折反射光学系统及折反射光学成像方法, 2017, 第 1 作者, 专利号: CN106597653A

( 30 ) Nd:YAG晶体及其表面抛光方法, 2017, 第 2 作者, 专利号: CN106531627A

( 31 ) 一种透镜以及线光源系统, 2017, 第 1 作者, 专利号: CN106444051A

( 32 ) 一种微缩投影系统波像差检测系统及波像差检测方法, 2017, 第 3 作者, 专利号: CN106338379A

( 33 ) 一种用于测试气体对极紫外光吸收率的测试装置及方法, 2017, 第 3 作者, 专利号: CN106338471A

( 34 ) 一种基于柔性片体和球面轴承的可升降倾斜调整装置, 2016, 第 6 作者, 专利号: CN105600704A

( 35 ) 一种柔性六自由度并联精密调整装置运动控制方法, 2016, 第 2 作者, 专利号: CN105508823A

( 36 ) 光刻系统中照明均匀性测量方法, 2016, 第 1 作者, 专利号: CN105446086A

( 37 ) 一种用于弹性发射加工的工具轮, 2016, 第 3 作者, 专利号: CN105563271A

( 38 ) 用于超高精度凸非球面检测的补偿器光学系统, 2016, 第 1 作者, 专利号: CN105572864A

( 39 ) 一种用于真空环境下的光学元件水冷装置, 2016, 第 5 作者, 专利号: CN105552695A

( 40 ) 一种用于真空环境下的光学元件热应力评估系统, 2016, 第 5 作者, 专利号: CN105466354A

( 41 ) 一种具有面形调整功能的光学元件支撑装置, 2016, 第 5 作者, 专利号: CN105467545A

( 42 ) 用于高NA极紫外光刻物镜的掩模结构, 2016, 第 2 作者, 专利号: CN105446071A

( 43 ) 一种可以实现主动面形调整的多点柔性支撑装置, 2016, 第 5 作者, 专利号: CN105425389A

( 44 ) 一种用于高精度光学元件面形检测的柔性支撑装置, 2016, 第 5 作者, 专利号: CN105423989A

( 45 ) 一种曝光系统中曝光剂量的监控方法、曝光方法及其曝光系统, 2016, 第 2 作者, 专利号: CN105404100A

( 46 ) 一种用于镜体检测的吸附夹具, 2016, 第 6 作者, 专利号: CN105372777A

( 47 ) 元器件真空兼容性评估实验平台, 2015, 第 4 作者, 专利号: CN104635090A

( 48 ) 一种用于大数值孔径的极紫外光刻掩模结构, 2015, 第 2 作者, 专利号: CN104298068A

( 49 ) 一种基于柔性片体的六自由度并联精密调整装置, 2015, 第 2 作者, 专利号: CN104793646A

( 50 ) 一种用于极紫外光刻的类临界照明系统, 2015, 第 2 作者, 专利号: CN104483816A

( 51 ) 极紫外光刻系统中与杂散光有关的镜面加工误差分析方法, 2015, 第 2 作者, 专利号: CN104317168A

( 52 ) 一种基于光学元件面形的计算机辅助装调模型的建立方法, 2014, 第 2 作者, 专利号: CN103984808A

( 53 ) 高复现性光学元件面形检测支撑装置, 2014, 第 5 作者, 专利号: CN103968796A

( 54 ) 一种基于光学系统失调量解算的光机结构稳定性评估方法, 2014, 第 2 作者, 专利号: CN103969034A

( 55 ) 一种基于能量守恒定律的光学系统分析设计方法, 2013, 第 2 作者, 专利号: CN103226241A

( 56 ) 一种用于高精度面形检测的光学元件支撑装置, 2012, 第 3 作者, 专利号: CN102506752A

( 57 ) 一种用于EUV光刻系统的复眼反射镜制作方法, 2012, 第 5 作者, 专利号: CN102385082A

( 58 ) 一种高精度光学元件的装配装置及无应力装配方法, 2012, 第 4 作者, 专利号: CN102368113A

( 59 ) 可见光点衍射干涉仪中参考球面波偏差检测装置及方法, 2011, 第 3 作者, 专利号: CN102297725A

( 60 ) 光学系统波像差检测装置, 2011, 第 2 作者, 专利号: CN102289152A

( 61 ) 光学系统波像差标定装置及该装置测试误差的标定方法, 2011, 第 2 作者, 专利号: CN102261985A

( 62 ) 双谱段电晕探测折反射全景光学系统, 2010, 第 2 作者, 专利号: CN101710208

出版信息

   
发表论文
(1) 变步长搜索的计算全息图编码方法, CGH encoding with variable step size search, 中国光学, 2021, 第 6 作者
(2) Design method for an off-axis reflective anamorphic optical system with aberration balance and constraint control, APPLIED OPTICS, 2021, 第 2 作者
(3) Design of off-axis multi-reflective optical system based on particle swarm optimization, CHINESE OPTICS, 2021, 通讯作者
(4) Long-Range Surface Plasmon Resonance Configuration for Enhancing SERS with an Adjustable Refractive Index Sample Buffer to Maintain the Symmetry Condition, ACS OMEGA, 2020, 通讯作者
(5) Design method for off-axis aspheric reflective optical system with extremely low aberration and large field of view, APPLIED OPTICS, 2020, 通讯作者
(6) 基于神经网络的机器人抛光材料去除提升模型, An improved material removal model for robot polishing based on neural networks, Infrared and Laser engineering, 2019, 第 5 作者
(7) Adjustable flexure mount to compensate for deformation of an optic surface, APPLIED OPTICS, 2019, 第 3 作者
(8) Method for designing error-resistant phase-shifting algorithm, OPTICS COMMUNICATIONS, 2019, 第 6 作者
(9) 基于神经网络的机器人抛光材料去除提升模型, An improved material removal model for robot polishing based on neural networks, 红外与激光工程, 2019, 第 5 作者
(10) Influence of motion modes on surface quality in CCOS, OPTICAL PRECISION MANUFACTURING, TESTING, AND APPLICATIONS, 2018, 
(11) 一种光机系统结构稳定性评估方法, Stability Evaluation of Opto-Mechanical Systems, 激光与光电子学进展, 2016, 第 4 作者
(12) 微缩投影系统的垂轴放大率测量, Measurement of transversal magnification for reduced projection system, 光学精密工程, 2016, 第 2 作者
(13) 极紫外光刻物镜分组可视化界面设计优化, 光学学报, 2015, 第 2 作者
(14) 基于面形检测的光学元件多层膜均匀性测量, 中国激光, 2015, 第 7 作者
(15) 光纤相移点衍射干涉仪关键技术, Key technology for fiber phase-shifting point diffraction interferometer, 红外与激光工程, 2015, 第 4 作者
(16) 光纤点衍射干涉仪中球面参考源偏振控制系统的设计, 光学学报, 2014, 第 3 作者
(17) 微缩投影系统的计算机辅助装调, Computer-aided alignment for reduced projection systems, 光学精密工程, 2014, 第 3 作者
(18) 极紫外光刻投影物镜中多层膜分析模型的建立及应用, 光学学报, 2014, 第 3 作者
(19) A model for multilayer analysis in a coated extreme ultra-violet lithography projection system, OPTICS COMMUNICATIONS, 2014, 第 3 作者
(20) A model for multilayers analysis in a coated extreme ultraviolet lithography projection system, Optics Communications, 2014, 第 1 作者
(21) 双光纤相移点衍射干涉仪装调技术, 红外与激光工程, 2014, 第 4 作者
(22) 高精度光学元件支撑装置面形复现性分析与测量, Analysis and Metrology of Reproducibility of High-Precision Optic Mount, 中国激光, 2013, 第 3 作者
(23) 可见光移相点衍射干涉仪的空气扰动误差分析, Analysis of air turbulence errors for visible light phase shifting point diffraction interferometer, 红外与激光工程, 2012, 第 4 作者
(24) 干涉测量框架结构设计及稳定性分析, 中国激光, 2012, 第 3 作者
(25) 点衍射干涉仪波前参考源标定算法的研究, Study of Calibrating Algorithm for Wavefront Reference Source of Point Diffraction Interferometer, 中国激光, 2012, 第 4 作者
(26) 高复现性面形检测支撑装置研制, 中国激光, 2012, 第 4 作者
(27) 可见光移相点衍射干涉仪的测试误差分析, Analysis of measuring errors for the visible light phase shifting point diffraction interferometer, 红外与激光工程, 2012, 第 4 作者
(28) 极紫外光刻物镜系统波像差检测技术研究, Measuring technology for wavefront aberration of EUVL objective system, 红外与激光工程, 2012, 第 4 作者
(29) 用于极紫外光刻非球面光学元件检测的补偿器检测系统, 中国激光, 2012, 第 1 作者
(30) 极紫外光刻离轴照明技术研究, 光学学报, 2012, 第 3 作者
(31) “日盲”紫外折反射全景光学系统设计, Design of catadioptric omnidirectional imaging system in solar blind UV, 光学精密工程, 2011, 第 1 作者
(32) 极紫外三维小孔矢量衍射波面质量分析, Wave-Front Quality Analysis of Three-Dimension Pinhole Vector Diffractional in Extreme Ultraviolet Region, 光学学报, 2010, 第 3 作者
(33) 双谱段全景电晕探测光学系统, Optical Design for Dual Spectral Panoramic Imaging System Applied in Corona Detector, 光子学报, 2010, 第 1 作者
(34) 极紫外投影光刻光学系统, Optical system of extreme ultraviolet lithography, 中国光学与应用光学, 2010, 第 1 作者

科研活动

   
科研项目
( 1 ) 极紫外光刻原理试验装置曝光光学系统研制, 负责人, 国家任务, 2009-01--2017-06
( 2 ) EUVL物镜离轴非球面面形检测装置研发, 负责人, 国家任务, 2012-01--2020-07
( 3 ) 六镜极紫外光刻投影物镜研发与验证, 参与, 国家任务, 2018-01--2021-09
( 4 ) 中国科学院青年创新促进会, 负责人, 中国科学院计划, 2015-01--2018-12
( 5 ) 极紫外光刻机核心子系统关键技术攻关 与验证, 参与, 国家任务, 2018-01--2021-09
参与会议
(1)极紫外光刻技术及挑战   极紫外光刻技术研讨会   2018-12-14