080903-微电子学与固体电子学

计算光刻，计算测量

2009-09--2014-07   中国科学院半导体研究所   硕博连读/博士学位

   

2018-04~现在, 中国科学院微电子研究所, 副研究员
2014-07~2018-03,中国科学院微电子研究所, 助理研究员
2009-09~2014-07,中国科学院半导体研究所, 硕博连读/博士学位

   

（1） 科研新星, 一等奖, 研究所（学校）, 2017

（ 1 ） 一种定位工艺缺陷的方法及装置, 2021, 第 1 作者, 专利号: CN108335990B

（ 2 ） 测试图形的选取方法和装置、构建光刻模型的方法和装置, 2021, 第 4 作者, 专利号: CN108153995B

（ 3 ） 一种环形图案的光学邻近效应校正方法, 2021, 第 3 作者, 专利号: CN112859536A

（ 4 ） 孔型结构工艺质量的检测方法、检测装置、存储介质和处理器, 2021, 第 1 作者, 专利号: CN110189300B

（ 5 ） 确定光刻光源的方法、装置及模型训练方法、装置, 2021, 第 3 作者, 专利号: CN109143796B

（ 6 ） 一种版图获取方法及装置, 2021, 第 3 作者, 专利号: CN112257701A

（ 7 ） 一种套刻标识图像处理方法及装置, 2021, 第 1 作者, 专利号: CN112258468A

（ 8 ） 一种光源掩模协同优化初始光源的确定方法及装置, 2021, 第 3 作者, 专利号: CN109683447B

（ 9 ） 亚分辨率辅助图形添加方法及装置、计算机可读存储介质, 2020, 第 3 作者, 专利号: CN112099319A

（ 10 ） 套刻偏差值的修正方法、电子设备及计算机可读存储介质, 2020, 第 1 作者, 专利号: CN112015056A

（ 11 ） 自对准金属层的制造方法、半导体器件及电子设备, 2020, 第 1 作者, 专利号: CN112017970A

（ 12 ） 一种确定光刻光源模型的训练方法及装置, 2020, 第 3 作者, 专利号: CN111999992A

（ 13 ） 一种三维重建方法及装置, 2020, 第 1 作者, 专利号: CN111583397A

（ 14 ） 一种修正模型的建立方法及装置、掩模优化方法及装置, 2020, 第 3 作者, 专利号: CN111443569A

（ 15 ） 一种获取套刻误差量测数据的方法及装置, 2020, 第 3 作者, 专利号: CN111123662A

（ 16 ） 一种确定光刻工艺节点禁止周期的方法及仿真方法, 2020, 第 5 作者, 专利号: CN111025856A

（ 17 ） 提高版图光刻性能的方法、修正后的版图及仿真方法, 2020, 第 4 作者, 专利号: CN110989289A

（ 18 ） 一种基板及其制备方法, 2020, 第 4 作者, 专利号: CN110752180A

（ 19 ） 一种光学临近效应的修正方法、修正装置及掩模, 2020, 第 3 作者, 专利号: CN110716386A

（ 20 ） 一种三维器件的套刻误差补偿方法及系统, 2019, 第 1 作者, 专利号: CN110620057A

（ 21 ） 一种电子显微图像线条宽度和粗糙度的测量方法, 2019, 第 1 作者, 专利号: CN107144210B

（ 22 ） 辅助图形的添加方法、添加装置、存储介质和处理器, 2019, 第 3 作者, 专利号: CN110221516A

（ 23 ） 一种根据规则添加SRAF的方法, 2019, 第 3 作者, 专利号: CN110187600A

（ 24 ） 半导体结构与其制作方法, 2019, 第 3 作者, 专利号: CN109712871A

（ 25 ） 一种半导体器件的制造方法, 2019, 第 1 作者, 专利号: CN106252229B

（ 26 ） 一种扫描电子显微图像的三维重构方法, 2018, 第 1 作者, 专利号: CN105590338B

（ 27 ） 一种光刻工艺窗口的测量方法, 2018, 第 1 作者, 专利号: CN106325005B

（ 28 ） 五级衍射光栅结构及其制备方法、晶圆光刻对准方法, 2017, 第 1 作者, 专利号: CN105607435B

（ 29 ） 一种自对准双重图形成像方法, 2017, 第 1 作者, 专利号: CN106200272B

（ 30 ） 七级衍射光栅结构及其制备方法、晶圆光刻对准方法, 2017, 第 1 作者, 专利号: CN105549138B

（ 31 ） 一种线条粗糙度的测量方法及系统, 2017, 第 1 作者, 专利号: CN106352820A

   

（1） The Phase Aggregation Behavior of the Blend Materials Block Copolymer Polystyrene-b-Polycarbonate (PS-b-PC) and Homopolymer Polystyrene (PS), MACROMOLECULAR CHEMISTRY AND PHYSICS, 2021, 通讯作者
（2） Projection-based high coverage fast layout decomposing algorithm of metal layer for accelerating lithography friendly design at full chip level, JOURNAL OF MICRO-NANOPATTERNING MATERIALS AND METROLOGY-JM3, 2021, 第 8 作者
（3） Critical pattern selection method for full-chip source and mask optimization, OPTICS EXPRESS, 2020, 第 4 作者
（4） Recognition and Visualization of Lithography Defects based on Transfer Learning, Recognition and Visualization of Lithography Defects based on Transfer Learning, 微电子制造学报, 2020, 第 3 作者
（5） 化学外延方式的嵌段共聚物定向自组装, Block Co-Polymer Directed Self-Assembly Based on Chemo-Epitaxy, 微纳电子技术, 2020, 第 5 作者
（6） Critical Pattern Selection Based on Diffraction Spectrum Analysis for Full-Chip Source Mask Optimization, ACTA OPTICA SINICA, 2020, 第 4 作者
（7） Model-based image quality optimization for submicron direct laser writing, AIP ADVANCES, 2020, 第 2 作者
（8） 先进工艺下的版图邻近效应研究进展, Research Progress of Layout Proximity Effect in Recent CMOS Nodes, 微电子学, 2020, 第 6 作者
（9） 针对更精确电迁移预测应用的热耦合模型建模, Thermal Coupling Modeling for More Accurate Electromigration Prediction, 微电子学, 2020, 第 7 作者
（10） An Improved Dimensional Measurement Method of Staircase Patterns With Higher Precision in 3D NAND, IEEE ACCESS, 2020, 第 6 作者
（11） 基于衍射谱分析的全芯片光源掩模联合优化关键图形筛选, Critical Pattern Selection Based on Diffraction Spectrum Analysis for Full-Chip Source Mask Optimization, 光学学报, 2020, 第 4 作者
（12） DESIGN DRIVEN TEST PATTERNS FOR SMO OPC AND SPA, 2019 CHINA SEMICONDUCTOR TECHNOLOGY INTERNATIONAL CONFERENCE (CSTIC), 2019, 
（13） Study of the perpendicular self-assembly of a novel high-chi block copolymer without any neutral layer on a silicon substrate, RSC ADVANCES, 2019, 第 5 作者
（14） Probability prediction model for bridging defects induced by combined influences from lithography and etch variations, JOURNAL OF MICRO-NANOLITHOGRAPHY MEMS AND MOEMS, 2019, 第 6 作者
（15） Pattern quality and defect evaluation based on cross correlation and power spectral density methods, JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY B, 2018, 第 1 作者
（16） The Method of Optimizing Mask Parameters Suitable for Lithography Process, OPTICAL MICROLITHOGRAPHY XXXI, 2018, 
（17） Optimization of the focus monitor mark in immersion lithography according to illumination type, JOURNAL OF MICRO-NANOLITHOGRAPHY MEMS AND MOEMS, 2017, 第 2 作者
（18） Optimization of the focus monitor mark in immersion lithography according to illumination type, J. Micro/Nanolith. MEMS MOEMS, 2017, 第 4 作者
（19） Optimization of the focus monitor mark in immersion lithography according to illumination type, JOURNAL OF MICRO-NANOLITHOGRAPHY MEMS AND MOEMS, 2017, 第 2 作者
（20） New alignment mark designs in single patterning and self-aligned double patterning, MICROELECTRONIC ENGINEERING, 2017, 第 1 作者
（21） New alignment mark design structures for higher diffraction order wafer quality enhancement, 2017, 第 2 作者
（22） Characteristic study of image-based alignment for increasing accuracy in lithography application, JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY B, 2017, 第 1 作者
（23） An off-line roughness evaluation software and its application in quantitative calculation of wiggling based on low frequency power spectrum density method, 2017, 第 2 作者
（24） Optimization of resist parameters to improve the profile and process window of the contact pattern in advanced node, JOURNAL OF MICRO-NANOLITHOGRAPHY MEMS AND MOEMS, 2016, 第 2 作者

（ 1 ） 计算光刻与版图优化, 电子工业出版社, 2021-01, 第 4 作者

   

（ 1 ） 纳米结构扫描电子显微俯视图像的三维重建基本模型及算法研究, 负责人, 国家任务, 2017-01--2019-12
（ 2 ） 国产计算光刻系统性能评估, 参与, 国家任务, 2017-01--2022-06
（ 3 ） 下一技术节点三维存储器的光刻方案研究, 参与, 企业委托, 2018-01--2020-12
（ 4 ） X射线衍射光谱与成像纳米器件集成制造, 参与, 国家任务, 2017-07--2022-06

（1）Method to improve the overlay image contrast and optimize the sub-segmentation mark   Libin Zhang, Cong Lu, Yaobin Feng, Yayi Wei   2021-02-22
（2）Overlay mark sub structure design to improve the contrast   国际先进光刻技术研讨会   Libin Zhang, et al   2020-11-05