长期从事极紫外（EUV）光源在光刻及量检测方面的应用，拥有十余年欧盟大规模集成电路制造与测量设备科研、工程项目研发和管理经验。累计申请/授权国际专利110项，多项专利已转化为工程产品。在Physical Review Letters、Optica、Light:Science&Applications等期刊发表文章20余篇。

        2021年全职回到中国科学院组建先进光刻技术课题组，设有极紫外光源、芯片量检测两大方向，与国际企业、海外高校、研发机构建立稳定合作关系，导师瑞典皇家科学院士Anne l'Huillier获2023诺贝尔物理学奖，欢迎海内外有识之士加盟。

每年招收硕士/博士生若干。

欢迎有志从事光刻以及芯片测量检测技术研发的学生报考。

课题组同时长期招聘博士后特别研究助理、研究员序列（特聘研究员、副研究员、助理研究员）、工程序列（高级工程师、副高级工程师）职工

激光与物质相互作用、激光等离子体物理、气体高次谐波、飞秒光场调控、芯片测量检测方法等

080300-光学工程
070207-光学
070203-原子与分子物理

极紫外光刻光源中光与物质相互作用研究
芯片特征测量检测方法
新型芯片量检测光源全光场调控

2010-09--2013-12   法国巴黎第十一大学   博士
2008-09--2010-07   瑞典隆德大学   硕士
2003-09--2007-07   西北大学   学士

2022-12~现在, 中国科学院上海光学精密机械研究所, 研究员（专业技术三级）
2021-12~2022-11,中国科学院上海光学精密机械研究所, 研究员（专业技术四级）
2021-05~2021-12,中国科学院上海光学精密机械研究所, 副研究员（专业技术五级）
2015-10~2021-04,荷兰阿斯麦公司研究部, 研发科学家
2014-02~2015-10,瑞士苏黎世联邦理工大学, 博士后研究员
2010-10~2014-01,法国原子能署, 欧盟玛丽居里学者

（1） 上海市海外高层次人才计划创新类, 省级, 2021
（2） 国家海外高层次人才计划创新长期项目, 国家级, 2021
（3） 荷兰阿斯麦公司专利奖, 其他, 2020
（4） 荷兰阿斯麦公司专利奖, 其他, 2019
（5） 荷兰阿斯麦公司专利奖, 其他, 2018
（6） 荷兰阿斯麦公司专利奖, 其他, 2017
（7） 荷兰阿斯麦公司专利奖, 其他, 2016
（8） 荷兰阿斯麦公司专利奖, 其他, 2015
（9） 欧盟玛丽居里学者, , 其他, 2010

   

（ 1 ） 国家xxx项目, 负责人, 国家任务, 2021-12--2024-12
（ 2 ） 新型光源在芯片制造设备中的应用, 负责人, 研究所自选, 2021-05--2024-05
（ 3 ） xx关键技术攻关, 负责人, 中国科学院计划, 2021-11--2024-11
（ 4 ） xxx多参数表征等关键单元技术研究, 负责人, 地方任务, 2022-06--2024-07