衍射光学；微细加工；空间望远镜；

可招收硕士研究生

080402-测试计量技术及仪器

微纳光学加工和测试技术

   

研究生

博士

2013至今  中国科学院光电技术研究所

   

（ 1 ） 一种基于电光材料的阵列化动态光学相位修正板, 发明专利, 2021, 第 1 作者, 专利号: CN113655643A

（ 2 ） 一种制备连续面形菲涅尔透镜的方法, 发明专利, 2021, 第 1 作者, 专利号: CN111474610B

（ 3 ） 一种基于三维光刻胶掩膜快速修正光学基底均匀性的方法, 发明专利, 2021, 第 1 作者, 专利号: CN111474822B

（ 4 ） 一种基于进气分布控制的等离子体密度分布调控方法, 发明专利, 2021, 第 7 作者, 专利号: CN113113283A

（ 5 ） 一种柔性薄膜圆对称周向预紧装置, 发明专利, 2021, 第 1 作者, 专利号: CN113103160A

（ 6 ） 一种基于重力场加工闪耀光栅的方法, 发明专利, 2021, 第 1 作者, 专利号: CN113031141A

（ 7 ） 一种多谱段复合结构光学系统, 发明专利, 2021, 第 6 作者, 专利号: CN112526760A

（ 8 ） 一种柔性聚酰亚胺薄膜高精度快速固定的方法, 发明专利, 2020, 第 1 作者, 专利号: CN110669444A

（ 9 ） 一种测量柔性薄膜衍射透镜湿膨胀系数的方法, 发明专利, 2019, 第 1 作者, 专利号: CN110632123A

（ 10 ） 一种提高模板转印柔性衬底微结构位置精度的方法, 发明专利, 2019, 第 1 作者, 专利号: CN110632824A

（ 11 ） 一种基于反应离子刻蚀减薄的光学元件面形修正方法, 发明专利, 2019, 第 6 作者, 专利号: CN110187415A

（ 12 ） 一种小口径光学成像级聚酰亚胺薄膜制备方法, 发明专利, 2019, 第 2 作者, 专利号: CN109575331A

（ 13 ） 一种大口径薄膜衍射透镜微结构刻蚀传递方法及工装, 专利授权, 2019, 第 5 作者, 专利号: CN109491101A

（ 14 ） 一种大口径薄膜衍射透镜光刻胶微结构的制备方法及工装, 专利授权, 2019, 第 4 作者, 专利号: CN109491102A

（ 15 ） 一种柔性薄膜绷紧固定装置, 发明专利, 2019, 第 1 作者, 专利号: CN109192697A

（ 16 ） 一种用于柔性薄膜衬底接触式光刻的真空贴附装置, 专利授权, 2019, 第 1 作者, 专利号: CN109143791A

（ 17 ） 一种光学元件柔性支撑与面形精度提升方法, 发明专利, 2019, 第 4 作者, 专利号: CN109116502A

   

[1] Luo, Qian, Gao, Guohan, Liu, Dun, Du, Junfeng, Fan, Bin. Wavefront measurement of a large aperture high image quality off-axis Fresnel lens. OPTICS EXPRESS[J]. 2023, 31(2): 1249-1257, http://dx.doi.org/10.1364/OE.479611.
[2] Shi Heng, Du, Junfeng, Wang Lihua, Bian, Jiang, Gao Guohan, Liu Dun, Fan Bin, Yang Hu. A High-Precision Real-Time Pose Measurement Method for the Primary Lens of Large Aperture Space Telescope Based on Laser Ranging. Sensors[J]. 2023, 23(10): 4833-, https://www.mdpi.com/1424-8220/23/10/4833.
[3] Gao, Guohan, Shi, Heng, Wang, Lihua, Liu, Dun, Wang, Jiong, Du, Junfeng, Bian, Jiang, Fan, Bin, Yang, Hu. Large aperture high diffraction efficiency off-axis Fresnel lens fabrication and analysis. OPTICS EXPRESS[J]. 2022, 30(16): 28932-28940, [4] Li, Zhiwei, Shao, Junming, Luo, Qian, Fan, Bin, Lei, Baiping, Gao, Guohan, Bian, Jiang, Wu, Shibin, Du, Junfeng, Kong, L, Zhang, D, Luo, X. Reactive Ion Figuring of Large Optical Membrane Components. AOPC 2020: OPTICS ULTRA PRECISION MANUFACTURING AND TESTINGnull. 2020, 11568: [5] Gao, Guohan, Wang, Lihua, Shi, Heng, Liu, Dun, Fan, Bin, Guan, Chunlin. Facile large-area uniform photolithography of membrane diffractive lens based on vacuum assisted self contact method. SCIENTIFIC REPORTS[J]. 2020, 10(1): http://dx.doi.org/10.1038/s41598-020-65990-2.
[6] Gao, Guohan, Mao, Danbo, Jiang, Renkui, Li, Zhiwei, Liu, Xin, Lei, Baiping, Bian, Jiang, Wu, Shibin, Fan, Bin. Investigation of Photoelastic Property and Stress Analysis for Optical Polyimide Membrane through Stress Birefringence Method. COATINGS[J]. 2020, 10(1): https://doaj.org/article/646c56cb29bf456b81e95eb0390437a1.
[7] Zhang, Jingwen, Fan, Bin, Li, Zhiwei, Gao, Guohan, Li, Bincheng, Yan, Zhiwu. Simulation of Discharge Characteristics for the Plasma Etching of Large Area SiO2 Substrates. JOURNALOFRUSSIANLASERRESEARCH[J]. 2020, 41(3): 258-267, https://www.webofscience.com/wos/woscc/full-record/WOS:000536440500009.
[8] Gao, Guohan, Mao, Danbo, Fan, Bin, Guan, Chunlin. Effect of Wet Expansion Behavior on Polyimide Membrane Diffractive Lens. COATINGS[J]. 2019, 9(9): https://doaj.org/article/e784a8462337455281637ddb0b52cb66.
[9] Mao, Danbo, Lv, Gang, Gao, Guohan, Fan, Bin. Fabrication of polyimide films with imaging quality using a spin-coating method for potential optical applications. JOURNAL OF POLYMER ENGINEERING[J]. 2019, 39(10): 917-925, [10] Liu, Liqin, Luo, Yunfei, Zhao, Zeyu, Zhang, Wei, Gao, Guohan, Zeng, Bo, Wang, Changtao, Luo, Xiangang. Large area and deep sub-wavelength interference lithography employing odd surface plasmon modes. SCIENTIFIC REPORTS[J]. 2016, 6: http://ir.ioe.ac.cn/handle/181551/3918.
[11] Liang, Gaofeng, Wang, Changtao, Zhao, Zeyu, Wang, Yanqin, Yao, Na, Gao, Ping, Luo, Yunfei, Gao, Guohan, Zhao, Qing, Luo, Xiangang. Squeezing Bulk Plasmon Polaritons through Hyperbolic Metamaterials for Large Area Deep Subwavelength Interference Lithography. ADVANCED OPTICAL MATERIALS[J]. 2015, 3(9): 1248-1256, http://ir.ioe.ac.cn/handle/181551/3717.
[12] Gao, Ping, Yao, Na, Wang, Changtao, Zhao, Zeyu, Luo, Yunfei, Wang, Yanqin, Gao, Guohan, Liu, Kaipeng, Zhao, Chengwei, Luo, Xiangang. Enhancing aspect profile of half-pitch 32 nm and 22 nm lithography with plasmonic cavity lens. APPLIED PHYSICS LETTERS[J]. 2015, 106(9): http://ir.ioe.ac.cn/handle/181551/6894.