140100-集成电路科学与工程

微纳光学，应用光学，微电子与智能光电仪器

2008-09--2013-06   中科院光电所   博士
2004-09--2008-06   华中科技大学   学士

   

2024-03~现在, 中科院光电所, 研究员
2013-08~2024-02,中科院光电所, 副研究员
2008-09~2013-06,中科院光电所, 博士
2004-09~2008-06,华中科技大学, 学士

   

（ 1 ） 一种镜片弹性支撑装置, 2023, 第 2 作者, 专利号: CN113917645B

（ 2 ） 一种光刻物镜畸变检测调整误差分离装置及方法, 2023, 第 4 作者, 专利号: CN115657425A

（ 3 ） 一种大数值孔径光刻投影物镜波像差拼接缝合装置及方法, 2023, 第 4 作者, 专利号: CN115657424A

（ 4 ） 一种通用于提高四波横向剪切干涉仪检测灵敏度的方法, 2022, 第 7 作者, 专利号: CN115493710A

（ 5 ） 一种通用于双通道干涉仪的系统误差标定装置和标定方法, 2022, 第 7 作者, 专利号: CN115435677A

（ 6 ） 一种用于成像系统波像差高精度在线测量装置和测量方法, 2022, 第 5 作者, 专利号: CN114967368A

（ 7 ） 一种用于投影物镜波像差绝对检测的测量装置和测量方法, 2022, 第 5 作者, 专利号: CN114967365A

（ 8 ） 一种大视场高数值孔径投影光刻物镜, 2022, 第 2 作者, 专利号: CN114740608A

（ 9 ） 一种动镜三自由度微调装置, 2022, 第 2 作者, 专利号: CN113917646A

（ 10 ） 一种镜片弹性支撑装置, 2022, 第 2 作者, 专利号: CN113917645A

（ 11 ） 一种应用于投影光刻机的大视场投影曝光物镜系统, 2021, 第 3 作者, 专利号: CN113568281A

（ 12 ） 一种应用于投影光刻机的单倍率大视场投影曝光物镜, 2021, 第 2 作者, 专利号: CN112415865A

（ 13 ） 一种水平精密调节及锁紧机构, 2018, 第 1 作者, 专利号: CN108761830A

（ 14 ） 一种单点驱动的轴向调节机构, 2018, 第 1 作者, 专利号: CN108646372A

（ 15 ） 一种三维动态调节及锁紧机构, 2018, 第 1 作者, 专利号: CN108398761A

（ 16 ） 一种大视场高数值孔径全球面光刻机投影物镜, 2015, 第 3 作者, 专利号: CN104950427A

（ 17 ） 一种基于光栅泰伯效应的检焦方法, 2014, 第 1 作者, 专利号: CN104238284A

（ 18 ） 一种基于哈特曼波前检测原理的检焦方法, 2014, 第 1 作者, 专利号: CN104198164A

（ 19 ） 一种单倍率对称式投影曝光物镜, 2014, 第 1 作者, 专利号: CN104199173A

（ 20 ） 一种基于二维双频光栅剪切干涉的纳米级检焦方法, 2014, 第 1 作者, 专利号: CN104199258A

（ 21 ） 一种应用于投影光刻机的大视场投影曝光物镜, 2014, 第 1 作者, 专利号: CN104199175A

（ 22 ） 一种大视场高数值孔径的i-line光刻机投影物镜, 2014, 第 4 作者, 专利号: CN103837967A

（ 23 ） 一种用于i线大面积平板投影光刻机的物镜, 2014, 第 4 作者, 专利号: CN103837966A

（ 24 ） 一种基于光栅剪切干涉检测系统的微透镜定焦检测方法, 2013, 第 1 作者, 专利号: CN102889980A

（ 25 ） 一种基于牛顿法和泰伯效应的微透镜阵列焦距的检测方法, 2012, 第 1 作者, 专利号: CN102788683A

（ 26 ） 一种检测微透镜阵列焦距的方法, 2012, 第 1 作者, 专利号: CN102661849A

（ 27 ） 一种微透镜阵列焦距测量方法, 2012, 第 1 作者, 专利号: CN102607820A

（ 28 ） 一种微透镜阵列焦距的测量方法, 2012, 第 1 作者, 专利号: CN102494873A

   

（1） Measurement of Wafer Focus by Grating Shearing Interferometry, APPLIED SCIENCES-BASEL, 2020, 第 3 作者
（2） Design and simulation of large field plate lithography lens, 8TH INTERNATIONAL SYMPOSIUM ON ADVANCED OPTICAL MANUFACTURING AND TESTING TECHNOLOGIES: DESIGN, MANUFACTURING, AND TESTING OF MICRO- AND NANO-OPTICAL DEVICES AND SYSTEMS; AND SMART STRUCTURES AND MATERIALS, 2016, 第 4 作者
（3） Wafer focusing measurement of optical lithography system based on Hartmann-Shack wavefront testing, OPTICS AND LASERS IN ENGINEERING, 2015, 第 1 作者  通讯作者
（4） Focal length measurement of a microlens-array by grating shearing interferometry, APPLIED OPTICS, 2014, 第 1 作者  通讯作者
（5） 基于Hartmann-Shack波前检测原理的微透镜阵列焦距测量, Focal length measurement of microlens-array based on wavefront testing principle of Hartmann-Shack sensor, 光学精密工程, 2013, 第 1 作者
（6） Focal length measurement of Microlens-array by the clarity function of digital image, Proceedings of SPIE: 6th International Symposium on Advanced Optical Manufacturing and Testing Technologies: Optical Test and Measurement Technology and Equipment, 2012, 第 1 作者
（7） 光栅衍射法测量微透镜列阵焦距时产生的光斑干扰分析, Analysis of Focus Dislocation Induced by the Microlens Array Measurin~ Based on Gratin~ Diffraction, 光学学报, 2011, 
（8） 基于光栅多缝衍射的转角法测量微透镜焦距, Focal Length Measurement of Microlens by Rotation Method Based on Grating Multislit Diffraction, 光学学报, 2011, 第 1 作者
（9） Defocus measuring the focal length of microlens-array by grating prismatic interference, Conference on Optical Design and Testing IV, 2010, 第 1 作者

   

（ 1 ） 130nm曝光系统研制, 负责人, 境内委托项目, 2024-03--2025-12
（ 2 ） 微纳结构随机动态过程检测设备研制, 负责人, 中国科学院计划, 2021-01--2022-12
（ 3 ） 350nm投影曝光系统研制, 负责人, 境内委托项目, 2020-06--2021-12
（ 4 ） 微纳器件光学轮廓检测仪, 负责人, 地方任务, 2018-01--2021-12