基本信息
罗云飞 男 硕导 中国科学院光电技术研究所
电子邮件： wf-lyf@163.com
通信地址： 成都双流文星镇中科院光电所
邮政编码：
电子邮件： wf-lyf@163.com
通信地址： 成都双流文星镇中科院光电所
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招生信息
招生专业
080402-测试计量技术及仪器
140100-集成电路科学与工程
140100-集成电路科学与工程
招生方向
微纳光学与器件制备工艺
先进半导体加工技术
微电子器件设计与加工技术
先进半导体加工技术
微电子器件设计与加工技术
教育背景
2018-09--2022-07 中国科学院大学 博士研究生
2008-09--2011-07 西南大学 硕士研究生
2008-09--2011-07 西南大学 硕士研究生
工作经历
工作简历
2018-09~2022-07,中国科学院大学, 博士研究生
2011-07~现在, 中国科学院光电技术研究所, 副研究员
2008-09~2011-07,西南大学, 硕士研究生
2011-07~现在, 中国科学院光电技术研究所, 副研究员
2008-09~2011-07,西南大学, 硕士研究生
专利与奖励
奖励信息
（1） 安全先进个人, , 研究所（学校）, 2019
（2） 先进工作者, 研究所（学校）, 2018
（3） 中国科学院杰出科技成就奖, 部委级, 2016
（2） 先进工作者, 研究所（学校）, 2018
（3） 中国科学院杰出科技成就奖, 部委级, 2016
出版信息
发表论文
（1） Hybrid octahedral Au nanocrystals and Ag nanohole arrays as substrates for highly sensitive and reproducible surface-enhanced Raman scattering, JOURNAL OF MATERIALS CHEMISTRY C, 2020, 第 2 作者
（2） Subdiffraction nanofocusing of circularly polarized light with a plasmonic cavity lens, JOURNAL OF MATERIALS CHEMISTRY C, 2019, 第 1 作者
（3） Plasmonic Interference Lithography for Low-Cost Fabrication of Dense Lines with Sub-50 nm Half-Pitch, ACS APPLIED NANO MATERIALS, 2019, 第 2 作者
（4） Highly reproducible and stable surface-enhanced Raman scattering substrates of graphene-Ag nanohole arrays fabricated by sub-diffraction plasmonic lithography, OSA Continuum, 2019, 第 2 作者
（5） Large area deep subwavelength interference lithography with a 35 nm half-period based on bulk plasmon polaritons, OPTICAL MATERIALS EXPRESS, 2018, 第 2 作者
（6） Proximity correction and resolution enhancement of plasmonic lens lithography far beyond the near field diffraction limit, RSC ADVANCES, 2017, 第 1 作者
（7） 表面等离子体超衍射光学光刻, Surface plasmon lithography beyond the diffraction limit, 科学通报, 2016, 第 4 作者
（8） Modeling and experimental study of plasmonic lens imaging with resolution enhanced methods, OPTICS EXPRESS, 2016, 第 2 作者
（9） Large area and deep sub-wavelength interference lithography employing odd surface plasmon modes, SCIENTIFIC REPORTS, 2016, 第 2 作者
（10） Going far beyond the near-field diffraction limit via plasmonic cavity lens with high spatial frequency spectrum off-axis illumination, SCIENTIFICREPORTS, 2015, 第 2 作者
（2） Subdiffraction nanofocusing of circularly polarized light with a plasmonic cavity lens, JOURNAL OF MATERIALS CHEMISTRY C, 2019, 第 1 作者
（3） Plasmonic Interference Lithography for Low-Cost Fabrication of Dense Lines with Sub-50 nm Half-Pitch, ACS APPLIED NANO MATERIALS, 2019, 第 2 作者
（4） Highly reproducible and stable surface-enhanced Raman scattering substrates of graphene-Ag nanohole arrays fabricated by sub-diffraction plasmonic lithography, OSA Continuum, 2019, 第 2 作者
（5） Large area deep subwavelength interference lithography with a 35 nm half-period based on bulk plasmon polaritons, OPTICAL MATERIALS EXPRESS, 2018, 第 2 作者
（6） Proximity correction and resolution enhancement of plasmonic lens lithography far beyond the near field diffraction limit, RSC ADVANCES, 2017, 第 1 作者
（7） 表面等离子体超衍射光学光刻, Surface plasmon lithography beyond the diffraction limit, 科学通报, 2016, 第 4 作者
（8） Modeling and experimental study of plasmonic lens imaging with resolution enhanced methods, OPTICS EXPRESS, 2016, 第 2 作者
（9） Large area and deep sub-wavelength interference lithography employing odd surface plasmon modes, SCIENTIFIC REPORTS, 2016, 第 2 作者
（10） Going far beyond the near-field diffraction limit via plasmonic cavity lens with high spatial frequency spectrum off-axis illumination, SCIENTIFICREPORTS, 2015, 第 2 作者
科研活动
科研项目
（ 1 ） CYSGK工艺, 负责人, 国家任务, 2023-01--2025-12
（ 2 ） 面向新型纳米光电芯片制造的超分辨光刻设备研发, 参与, 中国科学院计划, 2020-01--2021-12
（ 3 ） 紫外超分辨光刻仪器研发, 负责人, 地方任务, 2020-01--2022-12
（ 2 ） 面向新型纳米光电芯片制造的超分辨光刻设备研发, 参与, 中国科学院计划, 2020-01--2021-12
（ 3 ） 紫外超分辨光刻仪器研发, 负责人, 地方任务, 2020-01--2022-12