长期从事极紫外（EUV）光源在光刻及量检测方面的应用，拥有十余年欧盟大规模集成电路制造与测量设备科研、工程项目研发和管理经验。累计申请/授权国际专利110项，多项专利已转化为工程产品。在Physical Review Letters、Optica、Light:Science&Applications等期刊发表文章20余篇。

        2021年全职回到中国科学院组建先进光刻技术课题组，设有极紫外光源、芯片量检测两大方向，与国际企业、海外高校、研发机构建立稳定合作关系，导师瑞典皇家科学院士Anne l'Huillier获2023诺贝尔物理学奖，欢迎海内外有识之士加盟。

每年招收硕士/博士生若干。

欢迎有志从事光刻以及芯片测量检测技术研发的学生报考。

课题组同时长期招聘博士后特别研究助理、研究员序列（特聘研究员、副研究员、助理研究员）、工程序列（高级工程师、副高级工程师）职工

激光与物质相互作用、激光等离子体物理、气体高次谐波、飞秒光场调控、芯片测量检测方法等

080300-光学工程
070207-光学
070203-原子与分子物理

极紫外光刻光源中光与物质相互作用研究
芯片特征测量检测方法
新型芯片量检测光源全光场调控

2010-09--2013-12   法国巴黎第十一大学   博士
2008-09--2010-07   瑞典隆德大学   硕士
2003-09--2007-07   西北大学   学士

2022-12~现在, 中国科学院上海光学精密机械研究所, 研究员（专业技术三级）
2021-12~2022-11,中国科学院上海光学精密机械研究所, 研究员（专业技术四级）
2021-05~2021-12,中国科学院上海光学精密机械研究所, 副研究员（专业技术五级）
2015-10~2021-04,荷兰阿斯麦公司研究部, 研发科学家
2014-02~2015-10,瑞士苏黎世联邦理工大学, 博士后研究员
2010-10~2014-01,法国原子能署, 欧盟玛丽居里学者

   

（ 1 ） 国家xxx项目, 负责人, 国家任务, 2021-12--2024-12
（ 2 ） 新型光源在芯片制造设备中的应用, 负责人, 研究所自选, 2021-05--2024-05
（ 3 ） xx关键技术攻关, 负责人, 中国科学院计划, 2021-11--2024-11
（ 4 ） xxx多参数表征等关键单元技术研究, 负责人, 地方任务, 2022-06--2024-07