陈睿 男 博士生导师 中国科学院微电子研究所
电子邮件: chenrui1@ime.ac.cn
通信地址: 朝阳区北土城西路3号
邮政编码:
研究领域
从事制造EDA工具开发、前沿基础研究,以及产业化,入选中国科学院高层次引进人才计划,主要研究方向包括:
1、先进集成电路智能制造与仿真工具;
2、集成电路材料计算与机器学习方法;
3、人工智能驱动原子级制造仿真技术
招生信息
招收具有微电子、计算机、工艺、材料、物理、化学等学科背景,对集成电路制造端EDA工具研发及产业化有兴趣的硕士生、直博生
招生专业
教育背景
工作经历
2021-04--现在 中国科学院微电子研究所 研究员
2018-01--2021-03 中国科学院微电子研究所 副研究员
2015-05--2018-01 美国格罗方德半导体有限公司纽约研发中心 高级研发工程师
专利与奖励
出版信息
(1) Zemeng Feng, et al., Rui Chen*, First large-scale (68×25×5nm3) atomistic modeling for accurate and efficient etching process based on machine learning molecular dynamics (MLMD), 2024 IEEE International Electron Devices Meeting (IEDM) (2024)
(2) Ziyi Hu, Junjie Li, Rui Chen*, et al., A Two‐Step Dry Etching Model for Non‐Uniform Etching Profile in Gate‐All‐Around Field‐Effect Transistor, Small, 202405574 (2024)
(3) Hua Shao, Tobias Reiter, Rui Chen*, et al., Loading Effect during SiGe/Si Stack Selective Isotropic Etching for Gate-All-Around Transistors, ACS Applied Electronic Materials, 4c01462 (2024)
(4) Ziyi Hu, et al., Rui Chen*, Modeling of Micro-trenching and Bowing Effects in Nano-scale Si Inductively Coupled Plasma Etching Process, Journal of Vacuum Science & Technology A, 41(6) (2023)
(5) Enxu Liu, Junjie Li*, et al., Rui Chen*, Study of Selective Dry Etching Effects of 15-Cycle Si0.7Ge0.3/Si Multilayer Structure in Gate-All-Around Transistor Process, Nanomaterials, 13(14):2127 (2023)
(6) Hua Shao, Rui Chen*, et al., High Accuracy Simulation of Silicon Oxynitride Film Grown by Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition, IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing, 35(2): 309-317 (2022)
科研活动
科研项目
合作情况
(2)京东方合作项目,PECVD轮廓仿真软件开发,2020.4--2021.3,项目负责人
(3)HW合作项目,先进技术节点ALE仿真模型及工艺验证,2021.1--2022.1,项目负责人
(4)HW合作项目,先进技术节点光刻工艺优化,2018.11--2021.12,主要技术负责人