基本信息

刘建云  女    中国科学院微电子研究所
电子邮件: liujianyun@ime.ac.cn
通信地址: 北京市朝阳区北土城西路3号
邮政编码:100029

研究领域

集成芯片热应力仿真与EDA,结构热机械可靠性验证等

招生信息

每年招收1名集成电路科学与工程的硕士

招生专业
140100-集成电路科学与工程
招生方向
集成芯片热应力仿真与EDA

教育背景

2008-09--2013-07   中国科学院大学   工学博士
2004-09--2008-06   武汉理工大学   工科学士
学历

博士研究生

学位
工学博士

工作经历

2021-07~现在, 中国科学院微电子研究所, 副研究员
2013-07~2021-06,中国科学院微电子研究所, 助理研究员

专利与奖励

   
专利成果
( 1 ) TSV阵列的热机械可靠性布局优化方法、装置、电子设备及存储介质, 发明专利, 2023, 第 1 作者, 专利号: CN202310803493.1

( 2 ) 等效物性参数确定方法及装置, 发明专利, 2023, 第 5 作者, 专利号: CN116629188A

( 3 ) 一种氧化镓衬底表面研磨形貌预测方法和装置, 发明专利, 2022, 第 1 作者, 专利号: CN114462284A

( 4 ) 一种氧化镓衬底表面研磨形貌预测方法和装置, 发明专利, 2022, 第 1 作者, 专利号: CN114462284A

( 5 ) 一种多层互连结构的化学机械研磨制程仿真的方法和装置, 发明专利, 2022, 第 1 作者, 专利号: CN113946934A

( 6 ) 一种接触孔化学机械平坦化的优化方法, 发明专利, 2021, 第 1 作者, 专利号: CN112259501A

( 7 ) CMP芯片表面形貌仿真模型的实现方法及仿真系统, 发明专利, 2020, 第 4 作者, 专利号: CN112131820A

( 8 ) CMP研磨率的优化方法和优化控制系统, 发明专利, 2020, 第 3 作者, 专利号: CN111291483A

( 9 ) 一种CMP研磨率计算方法和仿真系统, 发明专利, 2020, 第 4 作者, 专利号: CN111079287A

( 10 ) 芯片自毁系统以及方法, 发明专利, 2019, 第 1 作者, 专利号: CN110309679A

( 11 ) 一种计算CMP研磨去除率的方法及装置, 专利授权, 2019, 第 3 作者, 专利号: CN110039440A

( 12 ) 一种W CMP多物理工艺仿真方法及系统, 专利授权, 2019, 第 4 作者, 专利号: CN109686410A

( 13 ) 一种多层互连线结构的CMP仿真方法和仿真系统, 发明专利, 2018, 第 1 作者, 专利号: CN108573110A

( 14 ) 一种获取保持环的最佳工艺参数的方法, 发明专利, 2018, 第 1 作者, 专利号: CN108614937A

( 15 ) 一种多层互连结构的化学机械研磨仿真方法和装置, 发明专利, 2018, 第 1 作者, 专利号: CN108733866A

( 16 ) CMP仿真方法和装置、研磨去除率的获取方法和装置, 发明专利, 2018, 第 1 作者, 专利号: CN108733865A

( 17 ) 一种冗余金属填充的方法及系统, 专利授权, 2017, 第 3 作者, 专利号: CN107153720A

( 18 ) 一种表面形貌仿真的方法及系统, 发明专利, 2015, 第 1 作者, 专利号: CN104985522A

出版信息

   
发表论文
[1] 徐勤志, 王成晗, 聂川俊, 曹鹤, 刘建云, 李志强. A Multiscale Anisotropic Thermal Model of Chiplet Heterogeneous Integration System. IEEE Transactions on Very Large Scale Integration (VLSI) Systems[J]. 2024, 第 5 作者32(1): 178-189, 
[2] IEEE TRANSACTIONS ON VERY LARGE SCALE INTEGRATTION SYSTEMS. 2024, 第 5 作者
[3] Applied Thermal Engineering. 2023, 第 5 作者
[4] Chenghan Wang, Qinzhi Xu, Chuanjun Nie, He Cao, Jianyun Liu, Zhiqiang Li. An Efficient Thermal Model of Wafer-scale Heterogeneous Systems for Steady-state Temperature Prediction. Microelectronics Reliability[J]. 2023, 第 5 作者
[5] Chuanjun Nie, Qinzhi Xu, Chenghan Wang, He Cao, Jianyun Liu, Zhiqiang Li. Efficient transient thermal analysis of chiplet heterogeneous integration. APPLIED THERMAL ENGINEERING[J]. 2023, 第 5 作者229: http://dx.doi.org/10.1016/j.applthermaleng.2023.120609.
[6] Microelectronics Reliability. 2023, 第 5 作者
[7] Ecs Journal Of Solid State Science And Technology. 2022, 第 3 作者
[8] Xu, Qinzhi, Chen, Lan, Cao, He, Liu, Jianyun. A Neural Network-Based Approach to Material Removal Rate Prediction for Copper Chemical Mechanical Planarization. ECS JOURNAL OF SOLID STATE SCIENCE AND TECHNOLOGY[J]. 2021, 第 4 作者10(5): http://dx.doi.org/10.1149/2162-8777/abfc20.
[9] Ecs Journal Of Solid State Science And Technology. 2021, 第 4 作者
[10] Ecs Journal Of Solid State Science And Technology. 2020, 第 3 作者
[11] Xu, Qinzhi, Chen, Lan, Liu, Jianyun, Cao, He. A Wafer-Scale Material Removal Rate Model for Chemical Mechanical Planarization. ECS JOURNAL OF SOLID STATE SCIENCE AND TECHNOLOGY[J]. 2020, 第 3 作者9(7): http://dx.doi.org/10.1149/2162-8777/abadea.
[12] Xu, Qinzhi, Chen, Lan, Liu, Jianyun, Cao, He. A Material Removal Rate Model for Tungsten Chemical Mechanical Planarization. ECS JOURNAL OF SOLID STATE SCIENCE AND TECHNOLOGY[J]. 2019, 第 3 作者8(6): P370-P378, http://dx.doi.org/10.1149/2.0331906jss.
[13] Liu, Jianyun, Song, Jingru, Wei, Yueguang. SIZE EFFECTS OF ELASTIC MODULUS OF FCC METALS BASED ON THE CAUCHY-BORN RULE AND NANOPLATE MODELS. ACTA MECHANICA SOLIDA SINICA[J]. 2014, 第 11 作者27(2): 111-121, http://dx.doi.org/10.1016/S0894-9166(14)60021-5.
[14] Song, Jingru, Liu, Jianyun, Ma, Hansong, Liang, Lihong, Wei, Yuegaung. Determinations of both length scale and surface elastic parameters for fcc metals. COMPTES RENDUS MECANIQUE[J]. 2014, 第 2 作者342(5): 315-325, http://dx.doi.org/10.1016/j.crme.2014.03.004.
[15] 刘建云, 宋晶如, 魏悦广. ������CBR���������������������������������������������. 力学学报[J]. 2013, 第 1 作者45(4): 541-547, http://www.irgrid.ac.cn/handle/1471x/673247.
[16] 刘建云. ������������������������������������������������������. 刘建云.考虑表面效应的低维纳米材料的力学表征.博士学位论文.中国科学院力学研究所.2013. 2013, 第 1 作者134, http://www.irgrid.ac.cn/handle/1471x/779578.
[17] 刘建云, 魏悦广. ������Cauchy-Born������������Si���������������������������������������. 中国力学大会——2013论文摘要集. 2013, 第 1 作者http://www.irgrid.ac.cn/handle/1471x/831912.
[18] 刘建云, 宋晶如, 魏悦广. ���������������������������������������������������. 塑性力学新进展——2011年全国塑性力学会议论文集. 2011, 第 1 作者43-49, http://www.irgrid.ac.cn/handle/1471x/390216.

科研活动

   
科研项目
( 1 ) 集成电路基础器件仿真软件与系统集成设计, 参与, 中国科学院计划, 2022-11--2025-10
( 2 ) 关键EDA工具, 参与, 其他, 2022-09--2026-09