基本信息
赵承伟  男  硕导  中国科学院光电技术研究所
电子邮件: gdyzxnjd@163.com
通信地址: 四川省成都市双流区光电大道1号
邮政编码:

招生信息

   
招生专业
080402-测试计量技术及仪器
招生方向
微纳光机系统设计
超精密检测技术

教育背景

2017-09--2023-01   中国科学院大学   博士
2010-09--2013-06   西安交通大学   硕士
2006-09--2010-06   西南交通大学   本科

工作经历

   
工作简历
2013-08~现在, 中科院光电技术研究所, 副研究员

专利与奖励

   
专利成果
( 1 ) 一种吸盘气道的设计方法、吸盘和设计装置, 发明专利, 2023, 第 2 作者, 专利号: CN115959479A

( 2 ) 动态载物台及面形调整方法, 发明专利, 2023, 第 7 作者, 专利号: CN115954312A

( 3 ) 一种图案形成装置的热控方法, 发明专利, 2023, 第 1 作者, 专利号: CN115877670A

( 4 ) 照明补偿方法, 发明专利, 2023, 第 8 作者, 专利号: CN115963705A

( 5 ) 检测装置、检测方法、加工设备及加工方法, 发明专利, 2023, 第 3 作者, 专利号: CN116045857A

( 6 ) 一种图案形成装置的调节与保护系统及方法, 发明专利, 2023, 第 1 作者, 专利号: CN115712228A

( 7 ) 紫外发光二极管曝光装置及系统, 发明专利, 2022, 第 2 作者, 专利号: CN115469515A

( 8 ) 一种表面改性的衬底保持器及其制备方法, 发明专利, 2022, 第 3 作者, 专利号: CN115527847A

( 9 ) 柱销式衬底保持器及其制备方法, 发明专利, 2022, 第 4 作者, 专利号: CN115440650A

( 10 ) 一种双模式高分辨干涉光刻装置及方法, 发明专利, 2022, 第 5 作者, 专利号: CN115309009A

( 11 ) 一种近场移动曝光装置和方法及其承载模块, 发明专利, 2021, 第 4 作者, 专利号: CN113311671A

( 12 ) 一种近场光刻浸没系统及其浸没单元和接口模组, 发明专利, 2021, 第 3 作者, 专利号: CN113189849A

( 13 ) 一种近场光刻浸没系统及其浸没单元和接口模组, 发明授权, 2023, 第 3 作者, 专利号: CN113189849B

( 14 ) 一种基片缺陷检测装置与方法, 发明专利, 2021, 第 2 作者, 专利号: CN113218961A

( 15 ) 一种基片缺陷检测装置与方法, 发明授权, 2023, 第 2 作者, 专利号: CN113218961B

( 16 ) 一种原位间隙检测装置与检测方法, 发明专利, 2020, 第 3 作者, 专利号: CN111272089A

( 17 ) 一种高分辨颗粒检测装置, 发明授权, 2023, 第 2 作者, 专利号: CN111272771B

( 18 ) 一种被动调平结构的检平装置与方法, 发明专利, 2020, 第 2 作者, 专利号: CN111272153A

( 19 ) 一种基于棱镜分光的SP激发照明超分辨光刻装置, 发明专利, 2019, 第 2 作者, 专利号: CN109521653A

( 20 ) 一种基于棱台分光的超分辨光刻装置, 专利授权, 2019, 第 3 作者, 专利号: CN109521652A

( 21 ) 一种基于分光镜分光的SP激发照明超分辨光刻镜头和装置, 发明专利, 2019, 第 3 作者, 专利号: CN109613801A

( 22 ) 一种大面积超分辨光刻装置, 专利授权, 2018, 第 2 作者, 专利号: CN108089409A

( 23 ) 一种基于白光干涉间隙检测和超精密对准套刻技术的分离式近场微纳光刻方法和装置, 发明专利, 2018, 第 3 作者, 专利号: CN108037640A

( 24 ) 基于柔性铰链结构的超分辨光刻方法和装置, 发明专利, 2018, 第 2 作者, 专利号: CN108037638A

( 25 ) 基于柔性材料的超分辨光刻装置, 专利授权, 2018, 第 2 作者, 专利号: CN107817653A

出版信息

   
发表论文
(1) Visualization and accuracy improvement of soil classification using laser-induced breakdown spectroscopy with deep learning, ISCIENCE, 2023, 第 4 作者
(2) Hybrid octahedral Au nanocrystals and Ag nanohole arrays as substrates for highly sensitive and reproducible surface-enhanced Raman scattering, JOURNAL OF MATERIALS CHEMISTRY C, 2020, 第 4 作者
(3) Plasmonic Interference Lithography for Low-Cost Fabrication of Dense Lines with Sub-50 nm Half-Pitch, ACS APPLIED NANO MATERIALS, 2019, 第 3 作者
(4) Highly reproducible and stable surface-enhanced Raman scattering substrates of graphene-Ag nanohole arrays fabricated by sub-diffraction plasmonic lithography, OSA Continuum, 2019, 第 3 作者
(5) Large area deep subwavelength interference lithography with a 35 nm half-period based on bulk plasmon polaritons, OPTICAL MATERIALS EXPRESS, 2018, 第 6 作者
(6) Subdiffraction plasmonic lens lithography prototype in stepper mode, JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY B, 2017, 第 2 作者
(7) Plasmonic lithography with 100nm overlay accuracy, Plasmonic lithography with 100nm overlay accuracy, 光电工程, 2017, 第 2 作者
(8) Proximity correction and resolution enhancement of plasmonic lens lithography far beyond the near field diffraction limit, RSC ADVANCES, 2017, 第 5 作者
(9) Plasmonic lithography wit 100 nm overlay accuracy, Plasmonic lithography wit 100 nm overlay accuracy, 光电工程, 2017, 第 2 作者
(10) Deep subwavelength interference lithography with tunable pattern period based on bulk plasmon polaritons, OPTICS EXPRESS, 2017, 第 4 作者
(11) Modeling and experimental study of plasmonic lens imaging with resolution enhanced methods, OPTICS EXPRESS, 2016, 第 7 作者
(12) Going far beyond the near-field diffraction limit via plasmonic cavity lens with high spatial frequency spectrum off-axis illumination, SCIENTIFICREPORTS, 2015, 第 9 作者

科研活动

   
科研项目
( 1 ) XXX成像与控焦系统, 负责人, 国家任务, 2024-01--2030-12
( 2 ) XXX成像与控焦系统, 负责人, 国家任务, 2023-01--2025-12
( 3 ) XXX系统, 负责人, 中国科学院计划, 2021-01--2023-12

指导学生

已指导学生

刘淑慧  硕士研究生  085400-电子信息