刘兆武  男  硕导  中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
电子邮件: zhaowuliu@ciomp.ac.cn
通信地址: 东南湖大路3888号
邮政编码:130033

研究领域

精密位移测量

招生信息

   
招生专业
070207-光学
招生方向
精密位移测量

教育背景

2012-09--2017-06   中国科学院大学   博士
2006-09--2010-06   哈尔滨工业大学   学士
学历
研究生

学位
博士

工作经历

   
工作简历
2020-09~现在, 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所, 副研究员
2017-07~2020-09,中国科学院长春光学精密机械与物理研究所, 助理研究员

专利与奖励

   
专利成果
( 1 ) 外差一维光栅位移测量装置, 发明专利, 2021, 第 4 作者, 专利号: CN112504131A

( 2 ) 零差一维光栅位移测量装置, 发明专利, 2021, 第 4 作者, 专利号: CN112484646A

( 3 ) 光栅位移测量装置, 发明专利, 2020, 第 1 作者, 专利号: CN112097652A

( 4 ) 外差二维光栅位移测量系统及测量方法, 发明专利, 2020, 第 1 作者, 专利号: CN112097651A

( 5 ) 外差光栅位移测量光学系统, 发明专利, 2020, 第 1 作者, 专利号: CN112097649A

( 6 ) 外差光栅位移测量方法, 发明专利, 2020, 第 2 作者, 专利号: CN112097650A

( 7 ) 外差光栅位移测量装置, 发明专利, 2020, 第 2 作者, 专利号: CN112097647A

( 8 ) 光栅位移测量方法, 发明专利, 2020, 第 2 作者, 专利号: CN112097648A

( 9 ) 拼接光栅位移测量系统及测量方法, 发明专利, 2020, 第 3 作者, 专利号: CN112097644A

( 10 ) 应用于光刻系统工作台的位移测量光学系统, 专利授权, 2020, 第 2 作者, 专利号: CN108286943B

( 11 ) 一种位移与角度同步测量系统, 专利授权, 2020, 第 6 作者, 专利号: CN109632011B

( 12 ) 一种用于大面积光栅制造的涂布装置及方法, 专利授权, 2020, 第 5 作者, 专利号: CN107899891B

( 13 ) 一种位移测量光学系统, 专利授权, 2020, 第 2 作者, 专利号: CN109520428B

( 14 ) 基于衍射光栅的长行程、高精度位移测量系统, 专利授权, 2019, 第 5 作者, 专利号: CN107607045B

( 15 ) 一种用于扫描干涉场曝光系统的光束姿态调整方法, 专利授权, 2019, 第 7 作者, 专利号: CN107942426B

( 16 ) 长行程、高精度测量的光栅位移测量方法, 专利授权, 2019, 第 5 作者, 专利号: CN107462167B

( 17 ) 用于扫描干涉场曝光系统的精密光栅位移测量系统及方法, 专利授权, 2019, 第 4 作者, 专利号: CN107588728B

( 18 ) 长行程、高精度测量的光栅位移测量系统, 专利授权, 2019, 第 5 作者, 专利号: CN107655411B

( 19 ) 基于衍射光栅的长行程、高精度位移测量方法, 专利授权, 2019, 第 5 作者, 专利号: CN107462166B

( 20 ) 一种位移与角度同步测量方法, 发明专利, 2019, 第 6 作者, 专利号: CN109632010A

( 21 ) 一种品字型位移测量光栅的制作方法, 发明专利, 2018, 第 5 作者, 专利号: CN108444389A

( 22 ) 一种大面积金属光栅的制备方法及制备系统, 发明专利, 2018, 第 7 作者, 专利号: CN108345057A

( 23 ) 实现长行程三维位移测量的光栅位移测量系统及方法, 发明专利, 2018, 第 5 作者, 专利号: CN108775869A

( 24 ) 一种品字型位移测量光栅的制作方法, 发明专利, 2018, 第 3 作者, 专利号: CN108254819A

( 25 ) 衍射光栅外差式二维位移测量系统及方法, 发明专利, 2018, 第 5 作者, 专利号: CN108225193A

( 26 ) 一种光束姿态调整系统, 发明专利, 2018, 第 7 作者, 专利号: CN107907929A

( 27 ) 一种测量装置, 发明专利, 2018, 第 5 作者, 专利号: CN107806822A

( 28 ) 一种测量装置, 发明专利, 2018, 第 5 作者, 专利号: CN107687814A

( 29 ) 一种光栅机械刻划机的激光干涉控制方法, 发明专利, 2015, 第 8 作者, 专利号: CN104678889A

( 30 ) 一种具有阿贝误差校正功能的光栅刻刀主动调整装置, 发明专利, 2015, 第 4 作者, 专利号: CN104536073A

( 31 ) 全息扫描曝光二维工作台位移和摆角测量光路结构, 发明专利, 2015, 第 2 作者, 专利号: CN104515470A

( 32 ) 一种消像差平面衍射光栅的机械刻划方法, 发明专利, 2015, 第 4 作者, 专利号: CN104516037A

( 33 ) 一种双气浮导轨式光栅刻划刀架驱动装置, 发明专利, 2015, 第 5 作者, 专利号: CN104459858A

( 34 ) 一种光栅刻线弯曲自动控制校正方法, 发明专利, 2014, 第 5 作者, 专利号: CN104237987A

科研活动

   
科研项目
( 1 ) 基于光栅的桥梁伸缩缝位移监测技术研究, 负责人, 地方任务, 2020-01--2022-12
( 2 ) 2020-曙光计划, 负责人, 研究所自选, 2020-07--2023-07
( 3 ) 光刻系统中工作台位移的长行程高精度双色差分干涉测量方法研究, 负责人, 国家任务, 2020-01--2022-12
( 4 ) 长量程高精度双色差分激光干涉位移测量方法研究, 负责人, 地方任务, 2019-01--2020-12
( 5 ) 中国科学院青年创新促进会2021会员项目, 负责人, 中国科学院计划, 2021-01--2024-12

指导学生

现指导学生

滕海瑞  硕士研究生  070207-光学  

发表论文

1.​      Song Ying*, Liu Yujuan, Jiang Shan, Zhu Yang, Zhang Liu, Liu Zhaowu, Method for exposure dose monitoring and control in scanning beam interference lithography[J]. Applied Optics, 2021, 60(10): 2767-2774.

2.      Yin Yunfei, Liu Lin, Bai Yu, Jirigalantu, Yu Hongzhu,  Bayanheshig, Liu Zhaowu*, Li Wenhao. Littrow 3D measurement based on 2D grating dual-channel equal-optical path interference[J]. Optics Express, 2022, 30(23): 41671-41684.

3.      Yin Yunfei; Liu Zhaowu; Jiang Shan; Wang Wei; Yu Hongzhu; Jiri Galantu; Hao Qun; Li Wenhao*. High-precision 2D grating displacement measurement system based on double-spatial heterodyne optical path interleaving[J]. Optics and Lasers in Engineering, 2022, 158: 107167. 

4.      Liu Lin; Liu Zhaowu; Jiang Shan; Wang Wei; Yu Hongzhu; Jiang Yanxiu; Li Wenhao *. Polarization-modulated grating interferometer by conical diffraction[J]. Optics Express, 2022, 30(2): 689-699.

5.      Liu Zhaowu*; Yang Hang; Li Yubo; Jiang Shan; Wang Wei; Song Ying; Bayanheshig; Li Wenhao*. Active control technology of a diffraction grating wavefront by scanning beam interference lithography[J]. Optics Express, 2021, 29(23): 37066-37074. 

6.      Yin Yunfei, Liu Zhaowu, Jiang Shan, Wang Wei, Yu Hongzhu, Li Wenhao, Jirigalantu*, Grating-based 2D displacement measurement with quadruple optical subdivision of a single incident beam[J]. Optics express, 2021, 29(15): 24169-24181

7.      尹云飞; 刘兆武; 吉日嘎兰图; 于宏柱; 王玮; 李晓天; 鲍赫; 李文昊*; 郝群*. 二维光栅位移测量技术综述[J]. 中国光学, 2020, 13(6): 1224.

8.      吕强,王玮,刘兆武,宋莹,姜珊,刘林,巴音贺希格,李文昊. 五维自由度衍射光栅精密测量系统[J].中国光学,2020, 13(11):189-202

9.      Lv Qiang, Liu Zhaowu, Wang Wei, Jiang Shan, Bayanheshig, Li Wenhao*. Fast method to detect and calculate displacement errors in Littrow grating-based interferometer[J]. Applied Optics: 2019,58(12):3193-3199

10.   Lv Qiang, Liu Zhaowu, Wang Wei, Li Xiaotian, Li Shuo, Song Ying, Yu Hongzhu, Bayanheshig, Li Wenhao*. Simple and compact grating-based heterodyne interferometer with the Littrow configuration for high-accuracy and long-range measurement of two-dimensional displacement[J]. Applied Optics: 2018,57(31):9455-9463

11.   Zhaowu Liu, Wenhao Li*, Bayanheshig, Xiaotian Li, Shan Jiang, Ying Song, and Qiang Lv. Two-color heterodyne laser interferometry for long-distance stage measurement with correction of uncertainties in measured optical distances[J]. Scientific Reports, 2017, 7(1): 8173

12.   Zhaowu Liu, Shan Jiang, Xiaotian Li, Ying Song, Wenhao Li*, and Bayanheshig*. Precision measurement of X-axis stage mirror profile in scanning beam interference lithography by three-probe system based on bidirectional integration model[J]. Optics Express, 2017, 25 (9) :10312-21

13.   刘兆武,李文昊*,巴音贺希格,宋莹,姜珊,李晓天,吕强. 扫描曝光系统中二维工作台x轴测量镜的面形在线检测[J]. 中国激光, 2017 (1) :225-230

14.   吕强,李文昊*,巴音贺希格,柏杨,刘兆武,王玮. 基于衍射光栅的干涉式精密位移测量系统[J]. 中国光学,2017 , 10 (1) :39-50

15.   刘兆武,李文昊,王敬开,姜珊,宋莹,潘明忠,巴音贺希格纳米精度二维工作台测量镜的面形误差在线检测[J]. 光学精密工程,2016,24 (9):2134-2141