基本信息
邓文渊  男  硕导  中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
电子邮件: dengwy@ciomp.ac.cn
通信地址: 长春市东南湖大路3888号
邮政编码:

招生信息

   
招生专业
080300-光学工程
招生方向
光学薄膜及器件

教育背景

2004-09--2008-02   中国科学院长春光学精密机械与物理研究所   博士
2000-09--2003-04   中国科学院长春光学精密机械与物理研究所   硕士
1992-09--1995-07   南昌大学   大学

工作经历

   
工作简历
2009-10~2021-07,中国科学院长春光学精密机械与物理研究所, 副研究员
2004-09~2008-02,中国科学院长春光学精密机械与物理研究所, 博士
2003-04~2009-09,中国科学院长春光学精密机械与物理研究所, 助理研究员
2000-09~2003-04,中国科学院长春光学精密机械与物理研究所, 硕士
1995-07~2000-09,江西省赣州监狱, 副中队长
1992-09~1995-07,南昌大学, 大学

专利与奖励

   
专利成果
( 1 ) 一种EUV多层膜光学元件的综合测试装置与及其测试方法, 2021, 第 1 作者, 专利号: 202110726504.1

( 2 ) 一种EUV掩膜板对准标记及其优化方法和制备方法, 2021, 第 1 作者, 专利号: 202110726501.8

( 3 ) 一种深紫外波段宽带分束膜制备方法, 2019, 第 1 作者, 专利号: 108169827

( 4 ) 一种CaF2光学基底清洗方法, 2019, 第 1 作者, 专利号: 201910935258.3

( 5 ) 一种减反射膜的制备方法及大角度入射减反射膜, 2019, 第 1 作者, 专利号: 106772710

( 6 ) 一种CaF2光学基底表面和亚表面损伤探测方法, 2019, 第 1 作者, 专利号: 106404746

( 7 ) 一种CaF2光学基底深紫外激光辐射诱导表面变化检测方法, 2019, 第 1 作者, 专利号: 106404745

( 8 ) 一种制备多层膜元件过程中非灵敏层误差控制方法及装置, 2018, 第 4 作者, 专利号: 106756864

( 9 ) CaF2光学薄膜元件的制备方法及CaF2光学薄膜元件, 2018, 第 1 作者, 专利号: 106405688

( 10 ) UV光的应用方法及UV光薄膜处理应用装置, 2018, 第 1 作者, 专利号: 105855243

( 11 ) 光学薄膜及元件表面激光损伤的高灵敏快速在线探测方法, 2017, 第 1 作者, 专利号: 105021627

( 12 ) 一种极紫外光学元件表面污染层厚度控制方法及装置, 2015, 第 1 作者, 专利号: 201510962345.x

( 13 ) 一种极紫外光学元件表面污染清洗装置及方法, 2015, 第 1 作者, 专利号: 201510963031.1

科研活动

   
科研项目
( 1 ) 极紫外光刻机核心子系统攻关与验证, 参与, 国家任务, 2019-01--2021-06
( 2 ) ArF光源光学薄膜元件研制, 参与, 国家任务, 2013-01--2021-06