基本信息
杨明红  男  硕导  中国科学院上海光学精密机械研究所
电子邮件: yangmh@siom.ac.cn
通信地址: 上海市嘉定区汇旺东路899号
邮政编码:

招生信息

   
招生专业
080300-光学工程
080503-材料加工工程
070207-光学
招生方向
光学元件超精密加工技术,全口径收敛性抛光技术

教育背景

2007-09--2012-06   中科院上海光机所   工学博士
1999-09--2003-07   河南大学物理系   理学学士

工作经历

   
工作简历
2012-07~现在, 中科院上海光机所, 高级工程师(副研级)
2007-09~2012-06,中科院上海光机所, 工学博士
2003-07~2007-07,河南师范大学附属中学, 物理教师
1999-09~2003-07,河南大学物理系, 理学学士

专利与奖励

   
专利成果
( 1 ) 基于大数据分析的智能环抛交叉修复调拨系统, 2018, 第 2 作者, 专利号: 201810215356.5

( 2 ) 平板类光学元件环抛面形精调方法, 2017, 第 1 作者, 专利号: 201711330838.7

( 3 ) 环抛过程沥青抛光模应力分布实时测量装置及测量方法, 2017, 第 1 作者, 专利号: 201710348482.3

出版信息

   
发表论文
(1) Analysis of surface profile correcting mechanism of the pitch lap in large-aperture annular polishing, SPIE, 2018, 第 2 作者
(2) Experimental research of the deterministic controlling process of surface figure in the large-aperture annular polishing, SPIE, 2017, 第 1 作者
(3) Numerical simulation of pitch button blocking optimization, Third European Seminar on Precision Optics Manufacturing, 2016, 第 3 作者
(4) Real-time surface figure monitoring of optical elements in continuous polishing, COL, 2015, 第 3 作者
(5) The simulation of workpieces' surface in polishing, SPIE, 2015, 第 3 作者
(6) Subsurface Damage Characterization of Ground Fused Silica by HF Etching Combined with Polishing Layer by Layer, Chinese Journal of Lasers, 2012, 第 1 作者
(7) 抛光表面结构特征的蚀刻和热退火表征, 中国激光, 2012, 第 1 作者

科研活动

   
科研项目
( 1 ) 光学元件批量制造中试验证(上海基地), 负责人, 国家任务, 2016-01--2018-12
参与会议
(1)Analysis and optimization of surface profile correcting mechanism of the pitch lap in large-aperture annular polishing   2017-10-12