基本信息

杨明红 男 硕导 中国科学院上海光学精密机械研究所
电子邮件: yangmh@siom.ac.cn
通信地址: 上海市嘉定区汇旺东路899号
邮政编码:
电子邮件: yangmh@siom.ac.cn
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招生信息
招生专业
080300-光学工程080503-材料加工工程070207-光学
招生方向
光学元件超精密加工技术,全口径收敛性抛光技术
教育背景
2007-09--2012-06 中科院上海光机所 工学博士1999-09--2003-07 河南大学物理系 理学学士
工作经历
工作简历
2012-07~现在, 中科院上海光机所, 高级工程师(副研级)2007-09~2012-06,中科院上海光机所, 工学博士2003-07~2007-07,河南师范大学附属中学, 物理教师1999-09~2003-07,河南大学物理系, 理学学士
专利与奖励
专利成果
( 1 ) 基于大数据分析的智能环抛交叉修复调拨系统, 2018, 第 2 作者, 专利号: 201810215356.5( 2 ) 平板类光学元件环抛面形精调方法, 2017, 第 1 作者, 专利号: 201711330838.7( 3 ) 环抛过程沥青抛光模应力分布实时测量装置及测量方法, 2017, 第 1 作者, 专利号: 201710348482.3
出版信息
发表论文
(1) Analysis of surface profile correcting mechanism of the pitch lap in large-aperture annular polishing, SPIE, 2018, 第 2 作者(2) Experimental research of the deterministic controlling process of surface figure in the large-aperture annular polishing, SPIE, 2017, 第 1 作者(3) Numerical simulation of pitch button blocking optimization, Third European Seminar on Precision Optics Manufacturing, 2016, 第 3 作者(4) Real-time surface figure monitoring of optical elements in continuous polishing, COL, 2015, 第 3 作者(5) The simulation of workpieces' surface in polishing, SPIE, 2015, 第 3 作者(6) Subsurface Damage Characterization of Ground Fused Silica by HF Etching Combined with Polishing Layer by Layer, Chinese Journal of Lasers, 2012, 第 1 作者(7) 抛光表面结构特征的蚀刻和热退火表征, 中国激光, 2012, 第 1 作者
科研活动
科研项目
( 1 ) 光学元件批量制造中试验证(上海基地), 负责人, 国家任务, 2016-01--2018-12
参与会议
(1)Analysis and optimization of surface profile correcting mechanism of the pitch lap in large-aperture annular polishing 2017-10-12