基本信息
屈芙蓉  女  硕导  中国科学院微电子研究所
电子邮件: qufurong@ime.ac.cn
通信地址: 北土城西路3号
邮政编码:

招生信息

   
招生专业
080903-微电子学与固体电子学
招生方向
微电子工艺及设备

教育背景

1993-09--1997-07   北京理工大学   学士学位

工作经历

   
工作简历
2017-04~现在, 中国科学院微电子研究所, 高级工程师
2009-04~2023-03,中国科学院微电子研究所, 工程师
2007-05~2009-04,北京凌云光视数字图像技术有限公司, 产品经理
1993-09~1997-07,北京理工大学, 学士学位

教授课程

微电子工艺与装备技术

专利与奖励

   
奖励信息
(1) 中国科学院教育教学特等奖, 特等奖, 部委级, 2017
(2) 中国电子学会科学技术奖, 一等奖, 部委级, 2017
专利成果
( 1 ) 基于柔性衬底的有机半导体阵列转移方法, 2021, 第 6 作者, 专利号: CN113830725A

( 2 ) 一种图案化有机半导体的制备方法及形变拉伸测试方法, 2021, 第 2 作者, 专利号: CN113772620A

( 3 ) 一种用于原子层沉积系统的平板式放电装置, 2021, 第 3 作者, 专利号: CN113755822A

( 4 ) 一种碘化亚铜薄膜的制备方法, 2021, 第 11 作者, 专利号: CN113699506A

( 5 ) 一种掺杂的碘化亚铜薄膜的制备方法, 2021, 第 12 作者, 专利号: CN113699505A

( 6 ) 一种薄膜沉积系统检测装置及方法, 2021, 第 2 作者, 专利号: CN113624791A

( 7 ) 一种有机半导体材料的阵列制备方法, 2021, 第 2 作者, 专利号: CN113620236A

( 8 ) 一种制备薄膜材料的样品台和方法, 2021, 第 2 作者, 专利号: CN112824560A

( 9 ) 一种用于原子层沉积的样品台和方法, 2021, 第 2 作者, 专利号: CN112824561A

( 10 ) 一种微流道网络芯片, 2020, 第 2 作者, 专利号: CN110961167A

( 11 ) 一种石墨烯选取刻蚀的方法及装置, 2019, 第 3 作者, 专利号: CN110548996A

( 12 ) 一种石墨烯薄膜材料的加工方法, 2019, 第 2 作者, 专利号: CN110550624A

( 13 ) 一种MOS器件原子层沉积原位制备方法, 2018, 第 3 作者, 专利号: CN108063089A

( 14 ) 一种石墨烯表面选区改性加工方法及装置, 2017, 第 2 作者, 专利号: CN106531613A

( 15 ) 一种原子层沉积系统原位实时检测方法及装置, 2017, 第 2 作者, 专利号: CN106525883A

( 16 ) 交替结构薄膜封装层界面的处理方法, 2015, 第 4 作者, 专利号: CN104752634A

( 17 ) 一种薄膜封装方法, 2015, 第 4 作者, 专利号: CN104746036A

( 18 ) 一种薄膜封装方法, 2015, 第 4 作者, 专利号: CN104752633A

( 19 ) 一种薄膜封装系统, 2014, 第 4 作者, 专利号: CN203659835U

( 20 ) 一种PECVD系统, 2014, 第 4 作者, 专利号: CN203653697U

( 21 ) 一种PIII工艺流程控制和在线剂量、均匀性检测方法, 2013, 第 3 作者, 专利号: CN103165488A

( 22 ) 一种PIII工艺流程控制和在线剂量、均匀性检测装置, 2013, 第 3 作者, 专利号: CN103165489A

( 23 ) 一种等离子体腔室内衬结构, 2013, 第 1 作者, 专利号: CN103165379A

( 24 ) 一种等离子体浸没注入电极结构, 2013, 第 2 作者, 专利号: CN103165377A

( 25 ) 一种用于等离子体浸没注入中剂量检测方法, 2013, 第 3 作者, 专利号: CN103165378A

( 26 ) 一种等离子体浸没注入装置, 2013, 第 3 作者, 专利号: CN103165376A

( 27 ) 一种用于等离子体浸没注入中剂量检测装置, 2013, 第 3 作者, 专利号: CN103165371A

( 28 ) 半导体腔室用压片装置, 2013, 第 2 作者, 专利号: CN103165375A

( 29 ) 一种进气装置, 2013, 第 1 作者, 专利号: CN103137521A

( 30 ) 一种PIII工艺流程控制和在线剂量、均匀性检测装置, 2012, 第 3 作者, 专利号: CN202487543U

( 31 ) 等离子体浸没离子注入机, 2012, 第 1 作者, 专利号: CN301914763S

( 32 ) 刻蚀系统机柜, 2012, 第 3 作者, 专利号: CN301914735S

( 33 ) 刻蚀系统工艺腔室, 2012, 第 3 作者, 专利号: CN301890737S

出版信息

   
发表论文
(1) 半导体学报2022, 半导体学报, 2022, 通讯作者
(2) 半导体学报2022, 半导体学报, 2022, 通讯作者
(3) 集束型多层纳米薄膜沉积设备的研制, Novel Cluster Tool for Multilayer Nanofilm Deposition: An Instrumentation Study, 真空科学与技术学报, 2020, 第 8 作者
(4) 集束型多层纳米薄膜沉积设备的研制, Novel Cluster Tool for Multilayer Nanofilm Deposition: An Instrumentation Study, 真空科学与技术学报, 2020, 第 8 作者
(5) 全自动荧光粉涂覆工艺研究, Research on Automatic Phosphor Coating Process, 半导体技术, 2013, 第 4 作者
(6) 全自动荧光粉涂覆工艺研究, Research on Automatic Phosphor Coating Process, 半导体技术, 2013, 第 4 作者
(7) 全自动荧光粉涂覆工艺及设备研究, Research on Automatic Phosphor Coating Process and Equipment, 半导体光电, 2013, 第 4 作者
(8) 全自动荧光粉涂覆工艺及设备研究, Research on Automatic Phosphor Coating Process and Equipment, 半导体光电, 2013, 第 4 作者
(9) 基于LabVIEW的伺服电机寻原点策略的实现, 中国科技博览, 2012, 第 5 作者
(10) 基于LabVIEW的伺服电机寻原点策略的实现, 中国科技博览, 2012, 第 5 作者

科研活动

   
科研项目
( 1 ) 极紫外光学反射膜制备系统研制, 负责人, 中国科学院计划, 2022-01--2024-12
( 2 ) 国产CLUSTER ALD装备与先进制程工艺研发项目, 负责人, 境内委托项目, 2023-01--2024-12
( 3 ) 大面积有机单晶阵列装备, 负责人, 国家任务, 2020-01--2024-12