基本信息
曾传滨  男  博导  中国科学院微电子研究所
电子邮件: chbzeng@ime.ac.cn
通信地址: 北京市朝阳区北土城西路3号
邮政编码: 100029

招生信息

   
招生专业
080903-微电子学与固体电子学
085400-电子信息
招生方向
高可靠CPU/ADC集成电路设计、高可靠SOI器件与工艺开发

教育背景

2004-01--2009-07   中国科学院微电子所   博士
2003-01--2003-12   清华大学   进修
1997-01--2001-12   南昌航空工业学院   学士

工作经历

   
工作简历
2017-07~现在, 中国科学院微电子所, 研究员
2012-07~2017-07,中国科学院微电子所, 副研究员
2009-01~2012-07,中国科学院微电子所, 助理研究员
2001-07~2004-12,珠海南科集成电子有限公司, 工艺工程师
社会兼职
2019-10-16-2023-10-16,计算机学会集成电路设计专业组, 执行委员
2019-08-01-2023-08-01,核物理学会抗辐照分会, 理事
2019-01-01-2024-01-01,北京客家海外联谊会, 副会长

专利与奖励

   
奖励信息
(1) 北京市优秀毕业生, , 市地级, 2022
(2) 科技进步奖, 二等奖, 部委级, 2022
(3) 第六届全国大学生集成电路创新创业大赛 优秀指导教师, 其他, 2022
(4) 第六届全国大学生集成电路创新创业大赛 富满微杯全国总决赛, 二等奖, 其他, 2022
(5) 第六届全国大学生集成电路创新创业大赛 芯海杯华北赛区, 三等奖, 其他, 2022
(6) 第六届全国大学生集成电路创新创业大赛 芯来RISC-V杯华北赛区, 二等奖, 其他, 2022
(7) 第六届全国大学生集成电路创新创业大赛 富满微杯华北赛区, 一等奖, 其他, 2022
(8) 优秀毕业生, , 研究所(学校), 2022
(9) 优秀毕业生, , 研究所(学校), 2019
(10) 优秀论文奖, 一等奖, 其他, 2019
(11) 研究生最喜爱导师, 一等奖, 研究所(学校), 2019
专利成果
( 1 ) 一种抑制集成电路发生静电损伤的方法, 发明专利, 2022, 第 2 作者, 专利号: CN113990861A

( 2 ) 一种集成电路的静电防护方法, 发明专利, 2022, 第 2 作者, 专利号: CN113990863A

( 3 ) 一种新型静电防护方法, 发明专利, 2022, 第 2 作者, 专利号: CN113990862A

( 4 ) 一种低成本静电防护方法, 发明专利, 2022, 第 2 作者, 专利号: CN113990860A

( 5 ) 半导体功率器件及其制备方法, 发明专利, 2021, 第 3 作者, 专利号: CN113644055A

( 6 ) 一种基于SOI工艺抗辐照多晶材料电阻, 发明专利, 2021, 第 2 作者, 专利号: CN214378423U

( 7 ) 一种抗单粒子效应加固电路及加固反相器, 发明专利, 2021, 第 2 作者, 专利号: CN214378450U

( 8 ) 一种测量高能粒子离化电荷粒径的方法, 发明专利, 2021, 第 2 作者, 专利号: CN112817036A

( 9 ) 功率智能开关电路负载电流的测试电路及其测试方法, 发明专利, 2021, 第 4 作者, 专利号: CN112653441A

( 10 ) 双向可控硅静电放电保护结构及SOI结构, 发明专利, 2021, 第 5 作者, 专利号: CN109935581B

( 11 ) 一种绝缘体上硅电路静电放电防护钳位电路, 发明专利, 2021, 第 1 作者, 专利号: CN112491021A

( 12 ) 一种静电放电防护钳位电路, 发明专利, 2021, 第 2 作者, 专利号: CN112491020A

( 13 ) 一种抗边缘漏电SOI MOS结构及其形成方法, 发明专利, 2021, 第 1 作者, 专利号: CN112466950A

( 14 ) 一种BTS型MOSFET结构及其制备方法, 发明专利, 2021, 第 1 作者, 专利号: CN112466949A

( 15 ) 一种MOS器件及避免MOS器件寄生晶体管开启的方法, 发明专利, 2021, 第 2 作者, 专利号: CN112466951A

( 16 ) 一种H型体接触SOI MOSFET器件及其制作方法, 发明专利, 2021, 第 2 作者, 专利号: CN112466953A

( 17 ) 一种维持电压可调的SOI工艺可控硅静电放电保护结构, 发明专利, 2021, 第 2 作者, 专利号: CN112466937A

( 18 ) 一种基于静电放电保护结构的场效应管, 发明专利, 2021, 第 2 作者, 专利号: CN112466947A

( 19 ) 一种可控硅器件, 发明专利, 2021, 第 2 作者, 专利号: CN112466940A

( 20 ) 一种具有静电放电保护功能的可控硅器件, 发明专利, 2021, 第 2 作者, 专利号: CN112466939A

( 21 ) 一种应用于深亚微米级电路静电防护的可控硅器件, 发明专利, 2021, 第 1 作者, 专利号: CN112466938A

( 22 ) 一种功率器件抗闩锁测试电路和测试装置, 外观设计, 2021, 第 3 作者, 专利号: CN212341366U

( 23 ) 一种基于张弛振荡器的时钟产生电路, 发明专利, 2020, 第 5 作者, 专利号: CN112104361A

( 24 ) 一种SOI MOSFET器件及其制备方法, 发明专利, 2020, 第 2 作者, 专利号: CN112054062A

( 25 ) 一种串联SOI MOSFET器件结构及其制备方法, 发明专利, 2020, 第 3 作者, 专利号: CN112054025A

( 26 ) 一种降低半导体器件高温关态漏电的方法及装置, 发明专利, 2020, 第 2 作者, 专利号: CN112053968A

( 27 ) 一种部分耗尽绝缘体上硅的体接触结构及其制作方法, 发明专利, 2020, 第 2 作者, 专利号: CN112054061A

( 28 ) 一种体接触SOI MOS器件结构及形成方法, 发明专利, 2020, 第 3 作者, 专利号: CN112054060A

( 29 ) 一种测试夹具, 实用新型, 2020, 第 4 作者, 专利号: CN211697889U

( 30 ) 一种半导体器件模型的建模方法及装置, 发明专利, 2020, 第 5 作者, 专利号: CN111680465A

( 31 ) 一种功率器件电学闩锁测试系统, 发明专利, 2020, 第 2 作者, 专利号: CN111551837A

( 32 ) 一种终端极化电路、及终端极化装置, 发明专利, 2020, 第 2 作者, 专利号: CN111510113A

( 33 ) 一种半导体器件的测试装置、方法及系统, 发明专利, 2020, 第 1 作者, 专利号: CN111487516A

( 34 ) 一种传输线脉冲测试系统, 发明专利, 2020, 第 1 作者, 专利号: CN111487451A

( 35 ) 一种超快电流探测装置及脉冲测试系统, 发明专利, 2020, 第 2 作者, 专利号: CN111487452A

( 36 ) 一种ESD保护结构、集成电路及电子设备, 发明专利, 2020, 第 4 作者, 专利号: CN111370401A

( 37 ) 一种低触发电压的ESD保护结构、集成电路及设备, 发明专利, 2020, 第 4 作者, 专利号: CN111341770A

( 38 ) 一种MOS器件剂量率模型的建模方法和装置, 发明专利, 2020, 第 5 作者, 专利号: CN111291480A

( 39 ) 一种双向触发的ESD保护器件, 发明专利, 2020, 第 4 作者, 专利号: CN111199971A

( 40 ) 用于SOI智能功率集成电路的双向低触发电压的ESD保护结构, 发明专利, 2020, 第 4 作者, 专利号: CN111129006A

( 41 ) 双向可控硅静电放电保护结构及SOI结构, 专利授权, 2019, 第 2 作者, 专利号: CN109962098A

( 42 ) 双向可控硅静电放电保护结构及SOI结构, 发明专利, 2019, 第 5 作者, 专利号: CN109962099A

( 43 ) 双向可控硅静电放电保护结构及SOI结构, 发明专利, 2019, 第 4 作者, 专利号: CN109935582A

( 44 ) 单个高能粒子离化电荷测试电路, 发明专利, 2019, 第 2 作者, 专利号: CN109917269A

( 45 ) 高灵敏度高能粒子离化电荷测试电路, 专利授权, 2019, 第 2 作者, 专利号: CN109884414A

( 46 ) 一种SOI功率开关的ESD保护器件, 专利授权, 2019, 第 2 作者, 专利号: CN109786374A

( 47 ) 一种SOI功率开关的ESD保护器件, 发明专利, 2019, 第 2 作者, 专利号: CN109742071A

( 48 ) 一种同轴水银继电器, 发明专利, 2019, 第 4 作者, 专利号: CN109616364A

( 49 ) 一种动态比较器, 专利授权, 2019, 第 2 作者, 专利号: CN106533447B

( 50 ) 一种SR锁存器, 发明专利, 2018, 第 2 作者, 专利号: CN108667446A

( 51 ) 一种低漏电连接器, 发明专利, 2018, 第 1 作者, 专利号: CN108037325A

( 52 ) 一种晶体管、钳位电路及集成电路, 专利授权, 2018, 第 4 作者, 专利号: CN108039362A

( 53 ) 一种晶体管、钳位电路及集成电路, 专利授权, 2018, 第 4 作者, 专利号: CN108039365A

( 54 ) 一种晶体管、钳位电路及集成电路, 发明专利, 2018, 第 4 作者, 专利号: CN108039364A

( 55 ) 一种ESD钳位电路及集成电路, 专利授权, 2018, 第 5 作者, 专利号: CN107863339A

( 56 ) 一种抗单粒子翻转的静态随机存取存储器, 实用新型, 2017, 第 2 作者, 专利号: CN205900097U

( 57 ) 一种高速信号自隔离装置, 实用新型, 2016, 第 1 作者, 专利号: CN205720554U

( 58 ) 一种高速信号隔离装置, 专利授权, 2016, 第 1 作者, 专利号: CN105929317A

( 59 ) 一种环形振荡器测试系统, 实用新型, 2014, 第 2 作者, 专利号: CN203688739U

( 60 ) 一种SOI MOS器件闪烁噪声的测试设备及测试方法, 发明专利, 2014, 第 4 作者, 专利号: CN103792438A

( 61 ) 一种低温漂欠压锁定电路, 发明专利, 2013, 第 2 作者, 专利号: CN103309390A

( 62 ) 一种静电放电防护装置及由其组成的系统, 实用新型, 2012, 第 1 作者, 专利号: CN202549831U

( 63 ) 一种半导体结构及其制造方法, 发明专利, 2012, 第 2 作者, 专利号: CN102646601A

( 64 ) 静电放电保护用可控硅结构, 实用新型, 2012, 第 1 作者, 专利号: CN202384340U

( 65 ) 一种ESD防护电阻, 实用新型, 2012, 第 1 作者, 专利号: CN202373579U

( 66 ) 一种提高维持电压的方法, 发明专利, 2012, 第 2 作者, 专利号: CN102543999A

( 67 ) 一种激光脉冲单粒子效应模拟系统, 发明专利, 2012, 第 1 作者, 专利号: CN102495355A

( 68 ) 温控可充气真空辐射设备, 发明专利, 2012, 第 1 作者, 专利号: CN102339655A

( 69 ) 一种维持电压可调节的可控硅结构, 发明专利, 2012, 第 1 作者, 专利号: CN102332467A

( 70 ) 一种半导体结构及其制造方法, 发明专利, 2012, 第 2 作者, 专利号: CN102332403A

( 71 ) 一种芯片内利用尖端放电的ESD保护结构, 发明专利, 2012, 第 3 作者, 专利号: CN102324421A

( 72 ) 一种改变静电保护器件触发电压的方法及装置, 发明专利, 2011, 第 3 作者, 专利号: CN102290340A

( 73 ) 一种利用尖端放电进行静电保护的封装结构, 发明专利, 2011, 第 3 作者, 专利号: CN102222662A

( 74 ) 一种提高集成电路芯片抗静电能力的封装方法, 发明专利, 2010, 第 1 作者, 专利号: CN101562140B

( 75 ) 一种改善SOI电路ESD防护网络用的电阻结构, 发明专利, 2009, 第 1 作者, 专利号: CN101562188A

( 76 ) 一种绝缘体上硅电路ESD全局保护结构, 发明专利, 2009, 第 1 作者, 专利号: CN101562187A

( 77 ) 一种改善绝缘体上硅电路静电放电防护性能的方法, 发明专利, 2008, 第 1 作者, 专利号: CN101276788A

出版信息

   
发表论文
[1] Gao, Yuexin, Cai, Xiaowu, Han, Zhengsheng, Zeng, Chuanbin, Xia, Ruirui, Tang, Yun, Gao, Mali, Li, Bo. Design of compact-diode-SCR with low-trigger voltage for full-chip ESD protection. MICROELECTRONICS RELIABILITY[J]. 2023, 140: http://dx.doi.org/10.1016/j.microrel.2022.114860.
[2] Xu, LD, Gao, LC, Ni, T, Zeng, CB. Study on low rate of change characteristics of saturation output current of 28 nm UTBB FDSOI at 300 degrees C high-temperature. JOURNAL OF PHYSICS D-APPLIED PHYSICS[J]. 2023, [3] Xia, Ruirui, Cai, Xiaowu, Ding, Liqiang, Zeng, Chuanbin, Gao, Yuexin, Li, Mingzhu, Wang, Shiping, Li, Bo, Zhao, Fazhan. Design of a NMOS-triggered SCR for dual-direction low-voltage ESD protection. SOLID-STATE ELECTRONICS[J]. 2022, 190: http://dx.doi.org/10.1016/j.sse.2022.108250.
[4] Li, Mingzhu, Cai, Xiaowu, Zeng, Chuanbin, Li, Xiaojing, Ni, Tao, Wang, Juanjuan, Li, Duoli, Zhao, Fazhan, Han, Zhengsheng. The ESD Characteristics of a pMOS-Triggered Bidirectional SCR in SOI BCD Technology. ELECTRONICS[J]. 2022, 11(4): http://dx.doi.org/10.3390/electronics11040546.
[5] Li Y F, Ni T, Wang J J, Zeng C B. Investigation of Transient Two-Stage Thermal Equivalent RC Network of SOI-MOSFETs Using Nano Double-Pulse Measurement. IEEE TRANSACTIONS ON ELECTRON DEVICES[J]. 2022, [6] Shiping Wang, Xiaowu Cai, Xiaojing Li, Duoli Li, Chuanbin Zeng, Meichen Jin, Jiajia Wang, Jiangjiang Li, Fazhan Zhao, Bo Li. Single-event burnout of LDMOS with polygon P+ structure. MICROELECTRONICS RELIABILITY[J]. 2022, 138: http://dx.doi.org/10.1016/j.microrel.2022.114715.
[7] 王娟娟, 李江江, 曾传滨, 李逸帆, 倪涛, 罗家俊, 赵发展. 90nm SOI nMOSFET自加热效应研究. 半导体技术[J]. 2022, 47(5): 369-372, http://lib.cqvip.com/Qikan/Article/Detail?id=7107500952.
[8] Li Xiaojing, Ni Tao, Zeng Chuanbin. Effect of Total Ionizing Dose on Silicon-Controlled Rectifier with Adjustable Holding Voltage for ESD Protection of SOI CMOS ICs Operating under1.8V. RADECSnull. 2022, [9] 李明珠, 蔡小五, 曾传滨, 李晓静, 李多力, 倪涛, 王娟娟, 韩郑生, 赵发展. 高温对MOSFET ESD防护器件维持特性的影响. 物理学报[J]. 2022, 71(12): 489-496, http://lib.cqvip.com/Qikan/Article/Detail?id=7107488772.
[10] Zhao S S, Gao L C, Li X J, Zeng C B. The low threshold-voltage shift with temperature and small subthreshold-slope in 28 nm UTBB FDSOI for 300℃ high-temperature application. Journal of Physics D: Applied Physics[J]. 2022, [11] Wang, J X, Zhao, F Z, Ni, T, Li, D L, Gao, L C, Wang, J J, Li, X J, Zeng, C B, Luo, J J, Han, Z S. Study on the high-temperature triggering and holding characteristics of PDSOI SCR devices. MICROELECTRONICS RELIABILITY[J]. 2021, 126: http://dx.doi.org/10.1016/j.microrel.2021.114239.
[12] Li, Yangyang, Zeng, Chuanbin, Li, Xiaojing, Gao, Linchun, Yan, Weiwei, Li, Duoli, Zhang, Yi, Han, Zhengsheng, Luo, Jiajun. Applications of Direct-Current Current-Voltage Method to Total Ionizing Dose Radiation Characterization in SOI NMOSFETs with Different Process Conditions. ELECTRONICS[J]. 2021, 10(7): https://doaj.org/article/688191f8c1304c60a8c81f932ba0cf68.
[13] 王加鑫, 李晓静, 赵发展, 曾传滨, 李博, 韩郑生, 罗家俊. 用于ESD防护的PDSOI NMOS器件高温特性. 半导体技术[J]. 2021, 46(3): 210-215, https://kns.cnki.net/KCMS/detail/detail.aspx?dbcode=CJFQ&dbname=CJFDLAST2021&filename=BDTJ202103008&v=MzE1MzZyV00xRnJDVVI3dWZZZWRtRmlyaFdyN0JKeW5mWkxHNEhORE1ySTlGYklSOGVYMUx1eFlTN0RoMVQzcVQ=.
[14] Ceng Chuanbin. Study on the trigger mechanism of PDSOI NMOS devices for ESD protection operating under elevated temperatures. Chinese Physics B. 2021, [15] Li, Yangyang, Zhu, Huilong, Kong, Zhenzhen, Zhang, Yongkui, Ai, Xuezheng, Wang, Guilei, Wang, Qi, Liu, Ziyi, Lu, Shunshun, Xie, Lu, Huang, Weixing, Liu, Yongbo, Li, Chen, Li, Junjie, Lin, Hongxiao, Su, Jiale, Zeng, Chuanbin, Radamson, Henry H. The Effect of Doping on the Digital Etching of Silicon-Selective Silicon-Germanium Using Nitric Acids. NANOMATERIALS[J]. 2021, 11(5): http://dx.doi.org/10.3390/nano11051209.
[16] 王娟娟, 曾传滨, 李江江, 倪涛, 李晓静, 李多力, 罗家俊. SOI MOSFET自加热效应测试方法. 半导体技术[J]. 2021, 46(2): 164-168, http://lib.cqvip.com/Qikan/Article/Detail?id=7104194462.
[17] 张颢译, 曾传滨, 李晓静, 高林春, 罗家俊, 韩郑生. 28 nm超薄体FD-SOI高温特性研究. 微电子学[J]. 2021, 51(4): 577-581, http://lib.cqvip.com/Qikan/Article/Detail?id=7105717846.
[18] 张颢译, 曾传滨, 李晓静, 闫薇薇, 倪涛, 高林春, 罗家俊, 赵发展, 韩郑生. 28nm超薄体FD-SOI高温输出电流特性研究. 微电子学与计算机[J]. 2021, 38(12): 75-79, http://lib.cqvip.com/Qikan/Article/Detail?id=7106280404.
[19] 倪涛, 杜川华, 曾传滨, 高林春, 王娟娟, 高见头, 赵发展, 罗家俊. 瞬时剂量率效应激光模拟测试技术. 太赫兹科学与电子信息学报[J]. 2020, 18(6): 1157-1161, http://lib.cqvip.com/Qikan/Article/Detail?id=7104039216.
[20] 张小琴, 蔡小五, 曾传滨, 闫薇薇, 赵海涛, 刘海南, 罗家俊. 一种用于智能高边功率IC的负载开路检测电路. 微电子学与计算机[J]. 2020, 37(12): 17-21, http://lib.cqvip.com/Qikan/Article/Detail?id=7103510019.
[21] 王成成, 周龙达, 蒲石, 王芳, 杨红, 曾传滨, 韩郑生, 罗家俊, 卜建辉. 部分耗尽SOI MOSFET NBTI效应研究. 航空科学技术[J]. 2020, 31(1): 76-80, http://lib.cqvip.com/Qikan/Article/Detail?id=7100918157.
[22] Li, Yangyang, Li, Xiaojing, Li, Bo, Gao, Linchun, Yan, Weiwei, Wang, Fangfang, Li, Duoli, Zeng, Chuanbin, Luo, Jiajun, Han, Zhengsheng. Effect of Radiation on Interface Traps of SOI NMOSFETs by the Direct-Current Current-Voltage Technique. IEEE ACCESS[J]. 2019, 7: 115989-115996, https://doaj.org/article/7b5b4e9de4a24c5abd06e3116124ac73.
[23] Li Duoli, Zeng Chuanbin, Dou Wei, Gao Linchun, Yan Weiwei, Li Bo, Huang Yang, Liu Tao, Xing Long, Liu Hainan, Luo Jiajun, Han Zhengsheng. A probabilistic analysis technique for single event transient sensitivity evaluation of phase-lock-loops. MICROELECTRONICS RELIABILITY[J]. 2019, 100: http://dx.doi.org/10.1016/j.microrel.2019.113436.
[24] 曾传滨. 瞬时剂量率效应激光模拟测试技术研究. 太赫兹科学与电子信息学报. 2019, [25] 张念华, 万先进, 李远, 许爱春, 潘杰, 左明光, 胡凯, 詹侃, 宋锐, 毛格, 彭浩, 李晓静, 闫薇薇, 曾传滨. 氮等离子体处理的抑制用于改善钨填充. 微纳电子技术[J]. 2019, 56(11): 925-932, http://lib.cqvip.com/Qikan/Article/Detail?id=7100225586.
[26] 王芳芳, 曾传滨, 李晓静, 高林春, 罗家俊, 韩郑生. DCIV技术提取辐照前后PDSOI器件背栅界面态密度. 微电子学与计算机[J]. 2018, 35(7): 92-96, http://lib.cqvip.com/Qikan/Article/Detail?id=675546157.
[27] Li, Xiaojing, Zeng, Chuanbin, Wang, Ruiheng, Gao, Linchun, Yan, Weiwei, Luo, Jiajun, Han, Zhengsheng. Investigation of interface traps at Si/SiO2 interface of SOI pMOSFETs induced by Fowler-Nordheim tunneling stress using the DCIV method. APPLIEDPHYSICSAMATERIALSSCIENCEPROCESSING[J]. 2018, 124(9): https://www.webofscience.com/wos/woscc/full-record/WOS:000441326300001.
[28] 于猛, 曾传滨, 闫薇薇, 李博, 高林春, 罗家俊, 韩郑生. 基于PDSOI的锁相环电路单粒子瞬变敏感性研究. 微电子学与计算机[J]. 2017, 34(8): 76-81, http://sciencechina.cn/gw.jsp?action=detail.jsp&internal_id=6040224&detailType=1.
[29] 闫薇薇, 曾传滨, 赵发展. A comparison of heavy ion induced single event upset susceptibility in unhardened 6T/SRAM and hardened ADE/SRAM. NUCLEAR INSTRUMENTS AND METHODS IN PHYSICS RESEARCH B[J]. 2017, http://159.226.55.106/handle/172511/18029.
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[46] Jiang Yibo, Zeng Chuanbin, Du Huan, Luo Jiajun, Han Zhengsheng. Holding-voltage drift of a silicon-controlled rectifier with different film thicknesses in silicon-on-insulator technology. 半导体学报[J]. 2012, 33(3): 034006-1, http://lib.cqvip.com/Qikan/Article/Detail?id=41141594.
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[48] 海潮和, 李晶, 李多力, 韩郑生, 曾传滨. 采用容性封装技术提高ESD防护性能研究. 半导体技术[J]. 2009, 34(9): 876-880, http://lib.cqvip.com/Qikan/Article/Detail?id=31454981.
[49] 曾传滨, 海潮和, 李多力, 韩郑生. 栅极触发PDSOI CMOS闩锁效应研究. 半导体技术[J]. 2009, 34(11): 1135-1139, http://lib.cqvip.com/Qikan/Article/Detail?id=32087704.
[50] 曾传滨, 李晶, 王显泰, 海潮和, 韩郑生. 传输线脉冲发生器电压探测中振荡问题的研究. 半导体技术[J]. 2009, 34(4): 365-369, http://lib.cqvip.com/Qikan/Article/Detail?id=30446211.
[51] 宋文斌, 许高博, 曾传滨, 韩郑生. 源漏硅化物扩散层分离技术对SOINMOS抗ESD的影响. 功能材料与器件学报[J]. 2008, 14(6): 1007-1012, http://lib.cqvip.com/Qikan/Article/Detail?id=29023096.

科研活动

   
参与会议
(1)开源芯片—机遇、挑战以及对策   中国计算机大会   2022-12-08
(2)基于FDSOI 28nm工艺的伪90nm高速电路单粒子免疫加固技术研究   第十五届核技术应用学术交流会   王可   2019-11-15
(3)SOI器件高温特性及其在深地领域的应用研究   第六届青年地学论坛   曾传滨   2019-10-12
(4)A Probabilistic Analysis Technique for Single Event Transient Sensitivity Evaluation of Phase-Lock-Loops   李多力、曾传滨等   2019-09-23
(5)Radiation and Annealing Characteristics of Interface traps in SOI NMOSFETs by the Direct-Current Current-Voltage Technique   李洋洋   2019-09-14
(6)瞬时剂量率效应激光模拟测试技术研究   第十三届抗辐射电子学与电磁脉冲   倪涛   2019-07-22
(7)Investigation of high aspect ratio multi-level contact holes etching process in three-dimensional flash memory manufacturing   王玉岐   2018-10-31
(8)人体静电模型引起的封装体内的火花放电现象研究   全国辐射物理学术交流会   李松   2014-11-01
(9)正面入射单光子吸收激光脉冲测试影响因素研究   全国辐射物理学术交流会   高林春   2014-09-01
(10)PDSOI SRAM XXX激光脉冲XXX对应关系   全国辐射物理学术交流会   曾传滨   2014-02-01
(11)The ESD protection designed for LDMOS power amplifier   姜一波   2012-11-03
(12)传输线脉冲发生器在半导体技术中的应用研究   半导体数值仿真技术论坛   曾传滨   2012-09-01

指导学生

已指导学生

张念华  硕士研究生  085208-电子与通信工程  

向银松  硕士研究生  085208-电子与通信工程  

王玉岐  硕士研究生  085208-电子与通信工程  

朱航  硕士研究生  085208-电子与通信工程  

张小琴  硕士研究生  085209-集成电路工程  

王玉伟  硕士研究生  085208-电子与通信工程  

盖春赟  硕士研究生  085208-电子与通信工程  

陈涛  硕士研究生  085208-电子与通信工程  

陈凯  硕士研究生  085208-电子与通信工程  

张颢译  硕士研究生  080903-微电子学与固体电子学  

赵姗姗  硕士研究生  085209-集成电路工程  

现指导学生

许立达  博士研究生  080903-微电子学与固体电子学  

李雪勤  硕士研究生  080903-微电子学与固体电子学  

李逸帆  博士研究生  080903-微电子学与固体电子学  

曹泽文  博士研究生  080903-微电子学与固体电子学  

王润坚  硕士研究生  085400-电子信息  

骆新宇  硕士研究生  085400-电子信息  

孙晨岳  硕士研究生  085400-电子信息  

董玉颖  博士研究生  080903-微电子学与固体电子学  

阮泓睿  硕士研究生  085400-电子信息  

王云亮  硕士研究生  085400-电子信息