基本信息
王宇  男  博导  中国科学院微电子研究所
电子邮件: ywang@ime.ac.cn
通信地址: 北京市海淀区邓庄南路9号
邮政编码: 100094

招生信息

   
招生专业
080300-光学工程
081203-计算机应用技术
085400-电子信息
招生方向
精密测量
气体激光,光学设计
激光测量技术

教育背景

1985-09--1991-07   清华大学材料系   博士
1980-09--1985-07   清华大学   学士

工作经历

   
工作简历
2018-04~现在, 中国科学院微电子研究所, 研究员,副所长
2013-07~2018-04,中国科学院光电研究院, 研究员,院长
2003-11~2013-07,中国科学院光电研究院, 研究员,副院长
1994-10~2003-11,中国科学院空间中心, 副研究员,研究员,副主任
1993-10~1994-10,日本大阪大学溶接工学研究所, 博士后
1991-07~1993-10,中国科学院空间中心, 助理研究员
1985-09~1991-07,清华大学材料系, 博士
1980-09~1985-07,清华大学, 学士
社会兼职
2014-01-01-今,北京市准分子激光工程技术研究中心, 主任
2011-01-01-今,北京电子制造装备行业协会, 理事
2010-01-01-今,光刻设备产业技术创新战略联盟, 副理事长
2002-01-01-2002-12-30,空间学会空间探测专业委员会, 副主任委员

专利与奖励

   
奖励信息
(1) 一种准分子激光器用贯流风机叶轮, 三等奖, 省级, 2017
(2) 光刻准分子光源研发与产业化, 特等奖, 院级, 2017
(3) 自种子注入双腔结构准分子激光器系统, 国家级, 2017
(4) 具有微流道结构的放电腔及气体激光器, , 国家级, 2015
(5) 投影光刻光源技术及其应用, 院级, 2015
(6) 超大屏幕激光数码影院技术研究, 二等奖, 市地级, 2011
(7) 多功能离子束辅助沉积装置, 二等奖, 部委级, 1992
专利成果
( 1 ) 投影物镜的数值孔径的在线检测装置及方法, 2018, 第 5 作者, 专利号: 201810416484.6

( 2 ) 光刻机投影物镜像方视场的在线测量装置及测量方法, 2018, 第 5 作者, 专利号: 201810415080.5

( 3 ) 光刻光源传输光路系统的辅助调整装置及调整方法, 2018, 第 3 作者, 专利号: 201810416485.0

( 4 ) 一种准分子激光器放电腔气体的检测方法及模块, 2018, 第 4 作者, 专利号: 201810070807.0

( 5 ) 光路传输换向装置及光学性能参数检测系统, 2018, 第 3 作者, 专利号: 201810053988.6

( 6 ) 用于光学元件性能检测的试验台及试验台安装方法, 2018, 第 3 作者, 专利号: 201810053466.6

( 7 ) 一种多元合金薄膜的制备装置和制备方法, 2017, 第 3 作者, 专利号: PCT/CN2017/116599

( 8 ) 一种激光修复与抛光陶瓷零件的方法, 2017, 第 2 作者, 专利号: 201710651327.9

( 9 ) 具有位置调节功能的嵌套式支承结构及其用途, 2017, 第 3 作者, 专利号: 201710585905.3

( 10 ) 一种微位移测量装置与测量方法, 2017, 第 1 作者, 专利号: 201710213938.5

( 11 ) 一种光学测量台架装置, 2017, 第 3 作者, 专利号: 201710116192.6

( 12 ) 激光光束空间相干长度测量装置及其测量方法, 2016, 第 3 作者, 专利号: 201611204744.0

( 13 ) 一种电子系统的自散热结构, 2016, 第 5 作者, 专利号: 201610912666.3

( 14 ) 一种气体放电激光光源, 2016, 第 2 作者, 专利号: ZL201210333164.7

( 15 ) 一种使用金属液滴帘降低碎屑的方法和装置, 2016, 第 1 作者, 专利号: ZL201310334223.7

( 16 ) Flow guide device for dual-electrode discharge cavity,dualelectrode discharge cavity utilize the same and excimer laser, 2016, 第 5 作者, 专利号: US9350135B2

( 17 ) 一种新型气体放电腔, 2016, 第 2 作者, 专利号: ZL201210337140.9

( 18 ) Single cavity dual-electrode discharge cavity and excimer laser, 2016, 第 1 作者, 专利号: US9252557B2, KR1493807B1

( 19 ) 一种用于激光光源的液态金属靶产生装置, 2015, 第 1 作者, 专利号: ZL201310182436.2

( 20 ) 一种布儒斯特窗片的设计方法, 2015, 第 5 作者, 专利号: ZL201110436813.1

( 21 ) 一种高频、高速的微米级液滴产生装置, 2015, 第 1 作者, 专利号: ZL201310182453.6

( 22 ) 一种放电腔内的气动结构, 2015, 第 4 作者, 专利号: ZL201110321947.9

( 23 ) 一种气体放电电极结构, 2015, 第 5 作者, 专利号: ZL201110319546.X

( 24 ) 用于高压脉冲电源的过电流抖动检测方法和保护电路, 2015, 第 3 作者, 专利号: ZL201110266284.5

( 25 ) 一种调焦调平装置及系统, 2015, 第 3 作者, 专利号: ZL201110319524.3

( 26 ) 一种螺旋气流动态气体锁, 2015, 第 2 作者, 专利号: ZL201310343253.4

( 27 ) 一种准分子激光器用贯流风机叶轮, 2014, 第 4 作者, 专利号: ZL201110321932.2

( 28 ) 具有微流道结构的放电腔及气体激光器, 2014, 第 5 作者, 专利号: ZL201210144445.8

( 29 ) 控制激光器系统的有效工作温度的方法和装置, 2014, 第 5 作者, 专利号: ZL201210139416.2

( 30 ) 一种调焦调平装置及系统, 2014, 第 3 作者, 专利号: ZL201110321960.4

( 31 ) 一种气体激光器放电腔的电极机构, 2013, 第 2 作者, 专利号: ZL201210266544.3

( 32 ) 具有微流道结构的放电腔及气体激光器, 2013, 第 5 作者, 专利号: ZL201220209759.7

( 33 ) 控制激光器系统的有效工作温度的装置, 2013, 第 5 作者, 专利号: ZL201220201904.7

( 34 ) 一种用于气体激光器的布儒斯特窗片, 2012, 第 5 作者, 专利号: ZL201120545691.5

( 35 ) 一种调焦调平装置的起偏光路, 2012, 第 3 作者, 专利号: ZL201120403041.7

( 36 ) 一种预电离电极陶瓷管组合结构, 2012, 第 4 作者, 专利号: ZL201120400409.4

( 37 ) 一种非对称气体放电电极结构, 2012, 第 5 作者, 专利号: ZL201120400414.5

( 38 ) 一种贯流风机叶轮, 2012, 第 4 作者, 专利号: ZL201120403036.6

( 39 ) 一种改善放电腔流场的气动结构, 2012, 第 4 作者, 专利号: ZL201120403269.6

( 40 ) 用于高压脉冲电源的过电流抖动检测电路, 2012, 第 3 作者, 专利号: ZL201120337211.6

( 41 ) 一种设有阶梯调焦标记的调焦调平装置, 2012, 第 3 作者, 专利号: ZL201120400413.0

( 42 ) 单腔双电极放电腔及准分子激光器, 2012, 第 1 作者, 专利号: 201210053057.9

( 43 ) 一种预电离陶瓷管, 2011, 第 4 作者, 专利号: 201110319525.8

出版信息

   
发表论文
(1) Corrosion Behaviors of the Copper Alloy Electrodes in ArF Excimer Laser Operation Process, High Power Laser Science and Engineering, 2018, 第 4 作者
(2) 极紫外光刻动态气体锁抑制率的实验研究, 光学学报, 2017, 第 2 作者
(3) 极紫外光刻动态气体锁抑制率的仿真研究, 激光与光电子学进展, 2017, 第 2 作者
(4) 高精度真空材料放气测试研究, 真空科学与技术学报, 2016, 第 4 作者
(5) Comparative Study on the Outgassing Rate of Materials using Different Methods, MAPAN-Journal of Metrology Society of India, 2016, 第 4 作者
(6) 4-DOF mechanism design for reflectors in vacuum, MME 2016, 2016, 第 4 作者
(7) 极紫外光刻动态气体锁抑制率的理论研究, 激光与光电子学进展, 2016, 第 2 作者
(8) Numerical analysis optimization of internal flow field in optical module of DUV laser, MME 2016, 2016, 第 6 作者
(9) 准分子激光与SiC陶瓷的相互作用研究, 激光与光电子学进展, 2016, 第 4 作者
(10) 极紫外真空动态气体锁流场分析与研究, Research on Flow Analysis of Dynamic Gas Lock for Extreme Ultraviolet Vacuum, 真空科学与技术学报, 2015, 第 3 作者
(11) 极紫外辐照损伤测试系统光学仿真研究, Optical Simulation Research on Damage Testing System of Extreme Ultraviolet Radiation, 激光与光电子学进展, 2015, 第 3 作者
(12) ArF准分子激光光源电极系统设计及电场仿真研究, 激光与光电子学进展, 2014, 第 3 作者
(13) 基于光源偏振补偿的硅基液晶激光三维显示光学引擎, 中国激光, 2011, 第 3 作者
(14) High power and efficient continuous wave 456 nm blue laser for laser display, Quantum Electronics Conference & Lasers and Electro-Optics, 2011, 第 3 作者
(15) High Power green laser with PPMgLN intracavity doubled, CLEO/PR, 2009, 第 4 作者

科研活动

   
科研项目
( 1 ) 20W 4kHz ArF曝光光源研发, 负责人, 国家任务, 2009-07--2013-09
( 2 ) 40W 4kHz ArF曝光光源产品开发, 参与, 国家任务, 2013-01--2020-12
( 3 ) 60W 6kHz ArF曝光光源方案设计, 参与, 国家任务, 2012-01--2014-12
( 4 ) EUV基础共性技术研究, 参与, 国家任务, 2012-01--2018-12
( 5 ) 超大规模集成电路光刻用193nm准分子激光系统关键部件联合研发, 负责人, 国家任务, 2009-01--2010-06
( 6 ) 193nm准分子激光样机关键技术及集成检测技术研究, 负责人, 中国科学院计划, 2008-10--2011-10
( 7 ) 中科院光刻机光学系统关键技术发展战略研究, 负责人, 中国科学院计划, 2009-06--2010-12
( 8 ) 应用于集成电路光刻的193nm准分子激光光源系统方案及若干关键技术研究, 负责人, 国家任务, 2008-01--2009-05
( 9 ) 02专项(光刻机关键部件中科院), 负责人, 国家任务, 2009-07--2017-12
( 10 ) 高NA投影曝光光学系统及其产业化发展研究, 参与, 国家任务, 2010-01--2017-12
( 11 ) EUVL动态真空与热环境技术研究, 参与, 国家任务, 2012-01--2018-12