080402-测试计量技术及仪器
085400-电子信息

微纳光机系统设计
超精密检测技术

2017-09--2023-01   中国科学院大学   博士
2010-09--2013-06   西安交通大学   硕士
2006-09--2010-06   西南交通大学   本科

   

2017-09~2023-01,中国科学院大学, 博士
2013-08~现在, 中科院光电技术研究所, 副研究员
2010-09~2013-06,西安交通大学, 硕士
2006-09~2010-06,西南交通大学, 本科

   

（ 1 ） 一种基片缺陷检测装置与方法, 2021, 第 2 作者, 专利号: CN113218961A

（ 2 ） 一种近场光刻浸没系统及其浸没单元和接口模组, 2021, 第 3 作者, 专利号: CN113189849A

（ 3 ） 一种基于分光镜分光的SP激发照明超分辨光刻镜头和装置, 2019, 第 3 作者, 专利号: CN109613801A

（ 4 ） 一种基于棱镜分光的SP激发照明超分辨光刻装置, 2019, 第 2 作者, 专利号: CN109521653A

（ 5 ） 一种基于棱台分光的超分辨光刻装置, 2019, 第 3 作者, 专利号: CN109521652A

（ 6 ） 一种大面积超分辨光刻装置, 2018, 第 2 作者, 专利号: CN108089409A

（ 7 ） 一种基于白光干涉间隙检测和超精密对准套刻技术的分离式近场微纳光刻方法和装置, 2018, 第 3 作者, 专利号: CN108037640A

（ 8 ） 基于柔性铰链结构的超分辨光刻方法和装置, 2018, 第 2 作者, 专利号: CN108037638A

（ 9 ） 基于柔性材料的超分辨光刻装置, 2018, 第 2 作者, 专利号: CN107817653A

   

（1） Hybrid octahedral Au nanocrystals and Ag nanohole arrays as substrates for highly sensitive and reproducible surface-enhanced Raman scattering, JOURNAL OF MATERIALS CHEMISTRY C, 2020, 第 4 作者
（2） Plasmonic Interference Lithography for Low-Cost Fabrication of Dense Lines with Sub-50 nm Half-Pitch, ACS APPLIED NANO MATERIALS, 2019, 第 3 作者
（3） Highly reproducible and stable surface-enhanced Raman scattering substrates of graphene-Ag nanohole arrays fabricated by sub-diffraction plasmonic lithography, OSA Continuum, 2019, 
（4） Large area deep subwavelength interference lithography with a 35 nm half-period based on bulk plasmon polaritons, OPTICAL MATERIALS EXPRESS, 2018, 第 6 作者
（5） Subdiffraction plasmonic lens lithography prototype in stepper mode, JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY B, 2017, 第 2 作者
（6） Plasmonic lithography with 100nm overlay accuracy, Plasmonic lithography with 100nm overlay accuracy, 光电工程, 2017, 第 2 作者
（7） Proximity correction and resolution enhancement of plasmonic lens lithography far beyond the near field diffraction limit, RSC ADVANCES, 2017, 第 5 作者
（8） Plasmonic lithography wit 100 nm overlay accuracy, Plasmonic lithography wit 100 nm overlay accuracy, 光电工程, 2017, 第 2 作者
（9） Deep subwavelength interference lithography with tunable pattern period based on bulk plasmon polaritons, OPTICS EXPRESS, 2017, 第 4 作者
（10） Modeling and experimental study of plasmonic lens imaging with resolution enhanced methods, OPTICS EXPRESS, 2016, 
（11） Going far beyond the near-field diffraction limit via plasmonic cavity lens with high spatial frequency spectrum off-axis illumination, SCIENTIFIC REPORTS, 2015, 第 9 作者

   

（ 1 ） XXX系统, 负责人, 中国科学院计划, 2021-01--2023-12